《Java应用开发》期末考试机试题

《Java应用开发》期末考试机试题
《Java应用开发》期末考试机试题

考试方式:闭卷 开卷 考试时间: 120 分钟 Student 类,包括学号、姓名、性别、生日、电话、系部属性,另包含一个方法String (),用来返回Student 的属性信息。(本大题共20分) Student 数据库,还有一个表格,结构如表1。并配置数据源ODBC ,student 。(本大题共10分) 表1 Student 数据表

三、设计简单的学生信息管理系统。该系统用到三个页面:主页面mainfrm类,运行结果如图1;添加学生信息stufrm2类,运行结果如图3;根据学号查找和删除指定的学生信息stufrm类,运行结果如图2。(本大题共70分)

图1 mainfrm 图2 查找和删除指定的学生信息stufrm

1. 根据主页面mainfrm以及stufrm ;完成添加学生信息页面,运行结果如图3。(20分)

图3 添加学生信息stufrm2类

2. 根据给定的DBConn类以及方法,完成学生类中添加、删除、查找方法。(30分)

3. 完成查询删除界面、添加学生记录界面对应的【删除】、【查找】、【提交】按钮对应的事件。(20)

4. 运行程序,粘贴添加学生成功页面、查找页面、删除页面。(10分)

大学有机化学期末考试试题A卷

大学有机化学期末考试试题A卷学院:专业:学号:姓名: 题号一二三四五六总分得分 1. 2. 3. 4. 5. 二、选择题

1、SP2杂化轨道的几何形状为() A.四面体B.平面形C.直线形D.球形2、甲苯在光照下溴化反应历程为() A.自由基取代反应B.亲电取代 C.亲核取代D.亲电加成 3、下列化合物中最容易发生硝化反应的是()

六、推断题(14分) 1、某烃A,分子式为C5H10,它与溴水不发生反应,在紫外光照射下与溴作用只得一种产物B(C5H9Br)。将化合物B与KOH的醇溶液作用得到C(C5H8),化合物C经臭氧化并在Zn 粉存在下水解得到戊二醛。写出化合物A的构造式及各步反应。 2、某化合物A的分子式是C9H10O2,能溶于NaOH溶液,易与溴水、羟胺、氨基脲反应,与托伦(Tollen)试剂不发生反应,经LiAlH4还原成化合物B(C9H12O2)。A及B均能起卤仿反应。A用锌-汞齐在浓盐酸中还原生成化合物C(C9H12O),C用NaOH处理再与CH3I煮沸得化合物D(C10H14O)。D用KMnO4溶液氧化最后得到对-甲氧基苯甲酸。推测A、B、C、D 的结构式。 -------------------附参考答案--------------- 一、命名(共10分) 1、Z –3-甲基-4-乙基-3-庚烯 2、7, 7-二甲基双环[2,2,1]-2-庚烯 3、Z-12-羟基-9-十八碳烯酸 4、N, N-二甲基甲酰胺 5、N-乙基-N-丙基苯胺 二、选择题(共20分)BACBD CBACB 三、完成下列反应,写出主要产物(每空2分,共20分)

有机化学期末考试题(含三套试卷和参考答案)

一. 命名下列各化合物或写出结构式(每题1分,共10分) 1. C H C(CH 3)3 (H 3C)2HC H 2. 3-乙基-6-溴-2-己烯-1-醇 3. 4. CHO 5. 邻羟基苯甲醛 6. 苯乙酰胺 7. 8. 对氨基苯磺酸 9. 10. 甲基叔丁基醚 二. 试填入主要原料,试剂或产物(必要时,指出立体结构),完成下列各反应式。(每空2分,共48分) 1. CH CH 2 Cl CHBr KCN/EtOH 2. 3. +C12高温高压、 CH = C H 2 HBr Mg

4. + CO 2CH 3 5. 4 6. O O O O 7. 8. + 9. C 2H 5ONa O CH 3 O + CH 2=CH C CH 3 O 10. Br Br Zn EtOH 11. 12. CH 3COC1

Fe,HCl H 2SO 4 3CH 3 (CH 3 CO) 2 O Br 2 NaOH 24 NaNO H PO (2) 三. 选择题。(每题2分,共14分) 1. 与NaOH 水溶液的反应活性最强的是( ) (A). CH 3CH 2COCH 2Br (B). CH 3CH 2CHCH 2Br (C). (CH 3)3CH 2Br (D). CH 3(CH 2)2CH 2Br 3 2. 对CH 3Br 进行亲核取代时,以下离子亲核性最强的是:( ) (A). CH 3COO - (B). CH 3CH 2O - (C). C 6H 5O - (D). OH - 3. 下列化合物中酸性最强的是( ) (A) CH 3CCH (B) H 2O (C) CH 3CH 2OH (D) p-O 2NC 6H 4OH (E) C 6H 5OH (F) p-CH 3C 6H 4OH 4. 下列化合物具有旋光活性得是:( ) C, (2R, 3S, 4S)-2,4-二氯-3-戊醇 5. 下列化合物不发生碘仿反应的是( ) A 、 C 6H 5COCH 3 B 、 C 2H 5OH C 、 CH 3CH 2COCH 2CH 3 D 、CH 3COCH 2CH 3 6. 与HNO 2作用没有N 2生成的是( ) A 、H 2NCONH 2 B 、CH 3CH (NH 2)COOH C 、C 6H 5NHCH 3 D 、C 6H 5NH 2 7. 能与托伦试剂反应产生银镜的是( ) A 、 CCl 3COOH B 、CH 3COOH C 、 CH 2ClCOOH D 、HCOOH 四. 鉴别下列化合物(共6分) 苯胺、苄胺、苄醇和苄溴

机械识图试题库及答案

-------------------------------------密-----------------------封-----------------------线--------------------------------- 班级___________ 考场__________ 姓名______________ 学号_________ 《机械识图》 一、填空题: 1.视图包括 基本视图 、 向视图 、 局部视图 、 斜视图 4种。(难度:A ) 2.物体向基本投影面投射所得的视图称为 基本视图 。(难度:A ) 3.按正投影法分别向六个基本投影面投影,可得到主视图、俯视图、左视图、右视图、仰视图、 后视图六个基本视图。(难度:A ) 4.主、俯、仰、后视图,长度相等;主、左、右、后视图,高度相等;左、俯、右、仰视图,宽 度相等。(难度:A ) 5.将物体的某一部分向基本投影面投射所得的视图称为局部视图。(难度:A ) 6.物体向不平行于任何基本投影面的平面投射所得的视图称为斜视图,必要时,允许将斜视图旋 转配置。(难度:A ) 7.画剖视图时,不要漏画剖切面后面的 可见轮廓线 。(难度:A ) 8.向视图是可以 自由配置 的视图。向视图通常用 箭头 指明投射方向。(难度:A ) 9.为了在剖视图中容易分辨出机件部的实心部分和空心部分,在剖切面剖到的实心处应画剖面符 号,而孔等空心处不画,剖面线应与机件的主要轮廓或剖面区域的对称线成45度角。(难度:A ) 10.按物体被剖切围的大小可将剖视图分为全剖视图、半剖视图和局部剖视图3种。(难度:A ) 11.将机件的部分结构用大于原图形所采用的比例画出的图形称为 局部放大 图。(难度:A ) 12.用两个相交的剖切面剖开机件绘图时,应先 旋转 后 投影 。(难度:A ) 13. 半剖视图中,半个视图与半个剖视图的分界线用 细点划线 。(难度:A ) 14. 假想用剖切面剖开机件,将处在观察者与 剖切面之间的部分移去,而将 其余部分 向投 影面投影所得到的图形称为剖视图。(难度:A ) 15.需要保留部分外形又要表达形的不对称机件,采用局部剖视图。(难度:A ) 16. 移出断面图是画在视图 之外 的断面图,移出断面图的轮廓线用 粗实 线绘制。(难 度:A ) 17. 用剖切平面局部地剖开机件所得到的剖视图称为 局部剖视图 。(难度:A ) 18.机械零件的常用表达方法有 视图 、剖视图 、 断面图 、局部放大图 及其它规定画法。(难 度:A ) 19. 局部视图是将机件的 局部形 向基本投影面投影所得的视图。(难度:A ) 20. 重合断面图是画在视图 之 的断面图,重合断面图的轮廓线用 细实线 线画出。(难度:A ) 21. 六个基本视图中,仰视图与俯视图同样反映物体长、宽方向的尺寸;右视图 与左视图同样 反映物体高、宽方向的尺寸;后视图 与主视图同样反映物体长、高方向的尺寸。(难度:A ) 22. 局部剖视图中,视图与剖视图的分界线用 波浪线 线,也可以用 双折线 线。(难度:A ) 23. 机件的部形状已经在半剖视图中表达清楚,在另一半表达外形的视图中不必再画出 细虚线 。(难度:A ) 24. 剖视图标注的三要素是 剖切符号、 剖切线、 字母。(难度:A ) 25. 剖视图只是假想地剖开机件,用以表达机件 部 形状的一种方法,实际机件是完整的, 因此除剖视图外的其它图形,都按 完整的形状画出。(难度:A ) 26. 机件上的某些细小结构在视图中表达不清晰,或不便于标注尺寸时,采用 局部放大 图。 27. 局部放大图的比例数值是放大图与实际物体的比例,而不是对 原图的比例。(难度:A ) 28. 对于机件的肋、轮辐及薄壁等,如按纵向剖切,这些结构都不画 剖面符号 ,而用 粗实线 将它与其邻接部分分开。(难度:A ) 29.根据断面图在图中配置的图中,可分为移出断面和重合断面。(难度:A ) 30.画在视图之外的断面图称为移出断面,画在视图之的断面图称为重合断面。(难度:A ) 31.螺纹按用途可分为四类,其中用来连接零件的螺纹为 连接 螺纹;用来传递动力和运 动的螺纹为 传动 螺纹。(难度:A ) 32. 以剖视图表示、外螺纹连接时,其旋合部分应按 外螺纹 的画法绘制。(难度:A ) 33. 左旋螺纹要注写 LH ,右旋螺纹不注。(难度:A ) 34.不通螺孔圆锥面尖端的锥顶角一般画成 120 度。(难度:A ) 35.螺纹相邻两牙在 中径 线上对应两点间的轴向距离称为螺距。(难度:A ) 36.啮合的圆柱齿轮的剖视图中,当剖切平面通过两啮合齿轮轴线时,在啮合区,将一个齿轮的 轮齿用粗实线绘制,另一个齿轮的轮齿被遮挡的部分用 虚线 线绘制。(难度:A ) 37. 模数 是设计、制造齿轮的重要参数。(难度:A ) 38.螺栓连接时,被连接零件的孔径必须 大于 螺栓大径。(难度:A ) 39.普通螺纹的螺距有粗牙和细牙两种, 粗牙 螺距不标注。(难度:A )

精细有机合成期末考试题

一、名词解释 1.卤化: 在有机化合物分子中引入卤原子,形成碳—卤键,得到含卤化合物的反应被称为卤化反应。根据引入卤原子的不同,卤化反应可分为氯化、溴化、碘化和氟化. 2.磺化 :向有机分子中引入磺酸基团(-SO3H)的反应称磺化或者硫酸盐化反应。. 3. 硝化:在硝酸等硝化剂的作用下,有机物分子中的氢原子被硝基(—NO2)取代的反应叫硝化反应。 4.烷基化: 烷基化反应指的是在有机化合物分子中的碳、硅、氮、磷、氧或硫原子上引入烃基的反应的总 称。引入的烃基可以是烷基、烯基、炔基和芳基,也可以是有取代基的烃基,其中以在有机物分子中引入烷基最为重要 5.酰化:在有机化合物分子中的碳、氮、氧、硫等原子上引入脂肪族或芳香族酰基的反应称为酰化反应。 6.氧化:广义地说,凡是失电子的反应皆属于氧化反应。 狭义地说,凡能使有机物中氧原子增加或氢原子减少的反应称为氧化反应。 7.磺化的π值:当硫酸的浓度降至一定程度时,反应几乎停止,此时的剩余硫酸称为“废酸”;废酸浓度用 含SO3的质量分数表示,称为磺化的“π值”。磺化易,π值小;磺化难,π值大。 8.硫酸的D.V.S: :硫酸的脱水值是指硝化结束时,废酸中硫酸和水的计算质量之比。 9.还原:广义:在还原剂作用下,能使某原子得到电子或电子云密度增加的反应称为还原反应。 狭义:能使有机物分子中增加氢原子或减少氧原子,或两者兼尔有之的反应称为还原反应。 10.氯化深度: 氯与甲苯的物质的量比. 11.废酸的F.N.A:废酸计算浓度(F.N.V)是指混酸硝化结束时,废酸中硫酸的计算浓度(也称硝化活性因素)。 12.相比:指硝酸与被硝化物的量比。 13.硝酸比:指硝酸与被硝化物的量比。 14.氨解:氨解反应是指含有各种不同官能团的有机化合物在胺化剂的作用下生成胺类化合物的过程。氨解 有时也叫做“胺化”或“氨基化”,但是氨与双键加成生成胺的反应则只能叫做胺化不能叫做氨解 (1)Claisen-Schmidt反应; 芳香醛或脂肪酮混合交叉缩合。反应是在氢氧化钠溶液或乙醇溶液中进行,得到很高产率的α、β-不饱和醛或酮。这一反应叫Claisen-Schmidt反应。 (2)Darzen反应; 醛酮(主要是芳醛)与α-卤代酸酯在强碱存在下反应,生α、β-环氧酸酯的反应叫达尔森反应,也称为缩水甘油酯的反应。 (3)Mannich反应; 含活泼H原子的化合物和甲醛及胺(伯胺或仲胺,氨)进行缩合反应,结果活泼氢原子被

有机化学期末考试试题及答案(三本院校)汇总

**大学科学技术学院2007 /2008 学年第 2 学期考核试卷 课号:EK1G03A 课程名称:有机化学A 试卷编号:A 班级: 学号: 姓名: 阅卷教师: 成绩: 一. 命名下列各化合物或写出结构式(每题1分,共10分) 1. C C C(CH 3)3 (H 3C)2 HC H 2. COOH 3. O CH 3 4. CHO 5. OH 6. 苯乙酰胺 7. 邻羟基苯甲醛 8.

对氨基苯磺酸 9. 3-乙基-6-溴-2-己烯-1-醇 10. 甲基叔丁基醚 二. 试填入主要原料,试剂或产物(必要时,指出立体结构),完成下列各反应式。(每空2分,共48分) 1. CH CH2Cl CHBr KCN/EtOH 2. 3. 4. +CO2CH3 5. 4 6. CH3 OH OH 4 7. +C12高温高压 、 CH = CH2HBr Mg CH3COC1

CH2Cl Cl 8. 3 +H2O- SN1历程 + 9. C2H5ONa O CH3 O + CH 2=CH C CH 3 O 10. Br Br Zn EtOH 11. OCH3 CH2CH2OCH3 +HI(过量) 12. Fe,HCl H2SO4 3 CH3 (CH 3 CO)2 O Br NaOH 24 NaNO H PO (2) 三. 选择题。(每题2分,共14分) 1. 下列物质发生S N1反应的相对速度最快的是() A B C (CH3)2CHBr(CH3)3CI(CH3)3CBr

2. 对CH 3Br 进行亲核取代时,以下离子亲核性最强的是:( ) (A). CH 3COO - (B). CH 3CH 2O - (C). C 6H 5O - (D). OH - 3. 下列化合物中酸性最强的是( ) (A) CH 3CCH (B) H 2O (C) CH 3CH 2OH (D) p-O 2NC 6H 4OH (E) C 6H 5OH (F) p-CH 3C 6H 4OH 4. 指出下列化合物的相对关系( ) 3 2CH 3 H 32CH 3 A ,相同, B ,对映异构, C ,非对映体, D ,没关系 5. 下列化合物不发生碘仿反应的是( ) A 、 C 6H 5COCH 3 B 、C 2H 3OH C 、 CH 3CH 2COCH 2CH 3 D 、CH 3COCH 2CH 3 6. 下列反应的转化过程经历了( ) C=CHCH 2CH 2CH 2CH=C H 3C H 3C CH 3CH 3 + C=C H 3C H 3C C CH 2 CH 2 H 2C C H 2 H 3C CH 3 A 、亲电取代 B 、亲核加成 C 、正碳离子重排 D 、反式消除 7. 能与托伦试剂反应产生银镜的是( ) A 、CCl 3COOH B 、CH 3COOH C 、 CH 2ClCOOH D 、HCOOH 四. 鉴别下列化合物(共5分) NH 2 、 CH 2NH 2、CH 2OH 、CH 2Br

机械识图基础知识考试试题及答案

机械识图基础知识考试试题 姓名:得分: 一、填空题 (共50分,每空1分) 1、机械制图的图纸幅面有A0、A1、A 2、A 3、A4五种格式。5 2、图纸中图框格式的标题栏一般位于图纸的右下角。1 3、根据投射中心到投影面的距离,投影分为中心投影法和平行投影法;平行投影根据投射线与投影面是否垂直的位置关系又分为正投影和斜投影。5 4、由立体图找出对应的三视图。6 5、对照立体图,将对应的左视图和俯视图图号填入表中。8 6、视图为机件向投影面投影所得的图形,主要用来表达机件的外部结构形状,视图分为:基本视图、向视图、局部视图和斜视图四种。 4 5 1 2 4 6 3 7 6 12 9 8 4 5 11

7、常见的螺纹牙型有三角形、梯形、锯齿形和方形等多种。4 8、将机件的部分结构,用大于原图形所采用的比例画出的图形,称为局部放大图。1 9、断面图可分为移出断面和重合断面两种。2 10、用剖切面局部地剖开机件所得的剖视图称为局部剖视图。1 11、气化CO2压缩机分为垂直剖分式和水平剖分式,其型号分别为2MCL527和2BCL305,其中前者为7级压缩,后者为5级压缩。6 12、压缩机的密封中,叶轮口环处的密封为(口圈密封(口环密封)),两级之间的密封为(级间密封),平衡盘的密封为(平衡盘密封),轴端两侧的密封为(轴端密封),密封的作用是防止气体在(级间倒流)及(向外泄漏)。6 13、组合体尺寸的基本要求是正确、完整、清晰、合理。2 二、不定项选择题(共10分每题1分) 1、图样中的尺寸大小均以( D )为单位,在尺寸数字后面不必写出单位名称。 A、km B、dm C、cm D、mm 2、尺寸线、尺寸界线用( B )绘制。 A、粗实线 B、细实线 C、点划线 D、虚线 3、国家标准规定了各种尺寸的标注方法,直径尺寸的标注必须在尺寸数字前加注直径符号( C )。 A、D B、d C、Ф D、L 4、投影面体系中,正立在观察者正前方的投影面称为( C )。 A、水平投影面 B、侧立投影面 C、正立投影面 5、由右图中的已知尺寸和其锥度可知X应为( C )。 A、10 B、8 C、Ф 10 D、Ф 8 6、已知右图中的尺寸,若要标出它的斜度,则X应写成 ( B )。 A、∠1:4 B、 1:4 C、∠ 1:2 D、 1:2 7、右图中的直线AB是( B )。

有机合成设计期末考试试卷A

试题名称:有机合成设计 一、单项选择题(从下列各题多个备选答案中选出一个正确答案,并将其代号写在相应位置。答案选错或未选者,该题不得分。每小题2分,20分) 1. 首次提出逆合成方法的科学家是 。 A. Wender B. Woodward C. Trost D. Corey 2. 下列化合物中,发生S N1取代反应最容易的是 。 A. CH 3CHClCH 3 B. CH 3CHBrCH 3 C. CH 3CHICH 3 D. CH 3CH 2CH 2I 3. 下列物质不属于氧化剂的是 。 A. H 2O 2 B. NaBH 4 C. KMnO 4 D. Collins 试剂 4.ArI + RB(OH)2 Ar-R 该反应属于 。 A. 骨架和官能团都变 B. 骨架和官能团都不变 C. 骨架不变,仅官能团变 D. 骨架变,而官能团不变 5. 下列物质能发生Friedel-Crafts 酰基化反应的是 。 A. B. C. D. NO 2CN COCH 3 6. 下列选项中,碳负离子最不稳定的是 。 A. B. C. D.CH 3CCH 2O CH 3CCHCO 2Et O CH 3NO 2CH 3CCHCN O 7. 下列羰基化合物与HCN 反应活性最强的是 。 A. CH 3COCH 2CH 3 B. HCHO C. CH 3COCH 3 D. PhCOCH 3 8. 下列选项中,不是有机合成路线设计原则的是 。 A. 逆合成法 B. 拆解法 C. 合成法 D. 分子简化法 9. 在有机合成中,导向的主要手段是 。 A. 活化导向 B. 钝化导向 C. 阻断导向 D. 封闭导向 10. 下列选项中,不是保护基必须具备的条件 。 A. 保护基容易引入所要保护的分子中 B. 与被保护分子能有效结合 C. 保护基廉价 D. 在保护分子的其他部分结构不损坏的条件下易脱除 二、完成下列反应式(写出主要产物或反应条件,将正确答案填写在相应的位置上,答案错误或未填写不得分。每空3分,共36分)

有机化学期末考试试题

命名下列各化合物或写出结构 1. C C H C(CH 3)3 (H 3C)2HC H 2/ COOH . 3 O CH 3 CHO OH 6.苯乙酰胺 7.邻羟基苯甲醛 8. 对氨基苯磺酸 9. 3-乙基-6-溴-2-己烯-1-醇 10.甲基叔丁基醚 二. 试填入主要原料,试剂或产物(必要时,指出立体结构),完成下列各反应式。(每空2分,共48分) 1 CH CH 2Cl CHBr KCN/EtOH 2 3 4 5 + CO 2CH 3 CH 3 OH OH 4 7. CH 2Cl Cl 8. 3 + H 2O -SN 1历程 + C 2H 5ONa O CH 3 O + CH 2=CH C CH 3O Br Br Zn EtOH OCH 3 CH 2CH 2OCH 3 + HI (过量) + C12 高温高压 、CH = CH 2 HBr Mg CH 3COC1

3CH 3 (CH CO)O 24 (2) 三. 选择题。(每题2分,共14分) 1. 下列物质发生S N1反应的相对速度最快的是( ) A,(CH 3)2CHBr (CH 3)3CI (CH 3)3CBr 2. 对CH 3Br 进行亲核取代时,以下离子亲核性最强的是:( ) (A). CH 3COO - (B). CH 3CH 2O - (C). C 6H 5O - (D). OH - 3. 下列化合物中酸性最强的是( ) 4. (A) CH 3CCH (B) H 2O (C) CH 3CH 2OH (D) p-O 2NC 6H 4OH (E) C 6H 5OH (F) p-CH 3C 6H 4OH 4. 指出下列化合物的相对关系( ) 3 2CH 3H 32CH 3 A ,相同, B ,对映异构, C ,非对映体, D ,没关系 5. 下列化合物不发生碘仿反应的是( ) A 、 C 6H 5COCH 3 B 、 C 2H 3OH C 、 CH 3CH 2COCH 2CH 3 D 、CH 3COCH 2CH 3 6. 下列反应的转化过程经历了( ) C=CHCH 2CH 2CH 2CH=C H 3C H 3C CH 3CH 3 H + C=C H 3C H 3C C CH 2 CH 2 H 2C C H 2 H 3C A 、亲电取代 B 、亲核加成 C 、正碳离子重排 D 、反式消除 7. 能与托伦试剂反应产生银镜的是( ) A 、CCl 3COOH B 、CH 3COOH C 、 CH 2ClCOOH D 、HCOOH 四. 鉴别下列化合物(共5分) NH 2 、 CH 2NH 2 、 CH 2OH 、 CH 2Br 从指定的原料合成下列化合物。(任选3题,每题5分,共15分) 1. 由溴代环己烷及不超过四个碳原子的化合物和必要试剂合成: CH 2OH 2. 由指定原料及不超过四个碳原子的化合物和必要的试剂合成: O O

有机化学下_期末考试试题A及答案

“ 有机化学”(下)期末考试试题A 专业 年级 学号 姓名 闭 卷 考试时间:120分钟(满分: 100 分) 题号 一 二 三 四 五 六 七 八 总分 评卷人 得分 一、用系统命名法命名或根据名称写出相应的结构 (6分) 1. 2,4-二硝基苯肼 2. 阿司匹林 3. 光气 4. 5. 6. 二、选择题 (20分) 1、下列化合物中碱性最小的是:( ) A. N-甲基苯胺 B. 苯胺 C. 三苯胺 D. 苄胺 2、下列化合物按酸性减弱的顺序排列的是:( ) (1)草酸 (2)丙二酸 (3)醋酸 (4)苯酚 (5)碳酸 (6)乙醇 (7)水 (8)乙烷 A.(1)(2)(3)(4)(5)(6)(7)(8) B.(2)(1)(3)(5)(4) CHO O CH 3 O CH 3 HO

(7)(6)(8) C.(1)(2)(3)(5)(4)(7)(6)(8) D.(2)(1)(3)(4)(5) (6)(7)(8) 3、下列化合物属于单糖的是:() A、蔗糖 B、乳糖 C、糖原 D、核糖 4、下列羰基化合物与同一亲核试剂作用时的活性由大到小的顺序是:() A. C 6H 5 CHO B. C. HCHO D. CH 3 COOC 2 H 5 5、下列化合物既能发生碘仿反应,又能和NaHSO 3 加成的是:() A. CH 3COC 6 H 5 B. CH 3 CHOHCH 2 CH 3 C. CH 3 COCH 2 CH 3 D. CH 3 CH 2 CH 2 CHO 6、Hofmann重排反应中,经过的主要活性中间体是:() A. 苯炔 B. 碳烯 C. 氮烯 D. 碳负离子 7、冠醚可以和金属正离子形成络合物,并随着环的大小不同而与不同的金属离子络合,18-冠-6最容易络合的离子是:() A. Li+ B. Na+ C. K+ D. Mg2+ 8、下述反应不能用来制备α,β-不饱和酮的是:() A.丙酮在酸性条件下发生羟醛缩合反应 B. 苯甲醛和丙酮在碱性条件下发生反 CHO

机械识图试题库及答案

机械识图试题库及答案标准化工作室编码[XX968T-XX89628-XJ668-XT689N]

-------------------------------------密-----------------------封-----------------------线--------------------------------- 班级___________ 考场__________ 姓名______________ 学号_________ 《机械识图》 一、填空题: 1.视图包括 基本视图 、 向视图 、 局部视图 、 斜视图 4种。(难度:A ) 2.物体向基本投影面投射所得的视图称为 基本视图 。(难度:A ) 3.按正投影法分别向六个基本投影面投影,可得到主视图、俯视图、左视图、右视图、仰视图、后视图六个基本视图。(难度:A ) 4.主、俯、仰、后视图,长度相等;主、左、右、后视图,高度相等;左、俯、右、仰视图,宽度相等。(难度:A ) 5.将物体的某一部分向基本投影面投射所得的视图称为局部视图。(难度:A ) 6.物体向不平行于任何基本投影面的平面投射所得的视图称为斜视图,必要时,允许将斜视图旋转配置。(难度:A ) 7.画剖视图时,不要漏画剖切面后面的 可见轮廓线 。(难度:A ) 8.向视图是可以 自由配置 的视图。向视图通常用 箭头 指明投射方向。(难度:A ) 9.为了在剖视图中容易分辨出机件内部的实心部分和空心部分,在剖切面剖到的实心处应画剖面符号,而孔等空心处不画,剖面线应与机件的主要轮廓或剖面区域的对称线成45度角。(难度:A ) 10.按物体被剖切范围的大小可将剖视图分为 全剖视图、半剖视图和局部剖视图3种。(难度:A ) 11.将机件的部分结构用大于原图形所采用的比例画出的图形称为 局部放大 图。(难度:A ) 12.用两个相交的剖切面剖开机件绘图时,应先 旋转 后 投影 。(难度:A ) 13. 半剖视图中,半个视图与半个剖视图的分界线用 细点划线 。(难度:A ) 14. 假想用剖切面剖开机件,将处在观察者与 剖切面之间的部分移去,而将 其余部分 向投影面投影所得到的图形称为剖视图。(难度:A ) 15.需要保留部分外形又要表达内形的不对称机件,采用局部剖视图。(难度:A ) 16. 移出断面图是画在视图 之外 的断面图,移出断面图的轮廓线用 粗实 线绘制。(难度:A ) 17. 用剖切平面局部地剖开机件所得到的剖视图称为 局部剖视图 。(难度:A ) 18.机械零件的常用表达方法有 视图 、剖视图 、 断面图 、局部放大图 及其它规定画法。(难度:A ) 19. 局部视图是将机件的 局部内形 向基本投影面投影所得的视图。(难度:A ) 20. 重合断面图是画在视图 之内 的断面图,重合断面图的轮廓线用 细实线 线画出。(难度:A )

精细有机合成原理期末模拟题

精细有机合成原理期末模拟题 1 一、填空题 1、精细化工产品的特点是(小批量、多品种)、(高技术密集)、(附加值高)、(综合生产工艺流程和多用途)、(商品性强); 2、石油是由(碳)、(氢)、(氧)、(氮)、(硫)五种元素组成的,这五种元素可以构成(烃类)和(非烃类)两类化合物; 3、化学反应器按催化剂运动状态可分为(固定床)、(流化床)和(移动床); 4、全混流反应器的基本假设之一是,器内各处浓度、温度(相同),且等于(出口)的浓度和温度; 5、单层绝热床反应器适用于热效应(小)的化学反应,否则用(多层)绝热床反应器; 6、精细有机合成中,溶剂的作用主要有(溶解作用)和(影响化学反应); 7、催化剂的使用要求有(活性)、(选择性)、(寿命)和(机械强度); 8、催化剂失活的原因有(热失活)和(中毒)两种; 9、均相配位催化反应的优点是(活性高)、(选择性好)、(有体系预见性); 10、卤代苯(氟苯、氯苯、溴苯、碘苯)的一硝化是一个(亲电取代)反应,由于氟的电负性最大,其负的(吸电诱导)效应也最大,一硝化时异构产物中(对)位的比例大。 11、常用磺化剂有(浓硫酸)、(发烟硫酸)、(氯磺酸)和(三氧化硫)。 12、写出三种不同类型的氢化催化剂(铁粉)、(硫化钠)、(NaBH4)。 13、天然石油中含有(烷烃)、(环烷烃)、(芳烃)三种烃类化合物; 14、催化剂寿命指的是保持其(平衡活性a e)的时间。 二、单选题 1、下列试剂哪一个不是亲电试剂? (a)NO2+(b)Cl2(c)Fe2+(d)Fe3+ 2、按极性分类,下列溶剂中哪一个是非极性溶剂? (a)丙酮(b)环己烷(c) 水(d)甲醇 3、下面哪一个不是自由基生成(链引发)的方式? (a)加压(b)加热(c)加过氧化苯甲酰(d)光照 4、下面哪一个化合物最容易发生硝化反应? (a)苯(b)一硝基苯(c) 二硝基苯(d)苯胺 5、1摩尔硝基苯还原生成1摩尔苯胺,理论上需要铁粉的摩尔数为 (a) (b) (c) (d) 6、下面哪一个是H酸?(b) 7、某化学反应的计量方程式为: 2P A S 已知:n A0=10mol,n A=1mol,n P=12mol,则: (a)Sp=1/3 (b)Sp=2/3 (c)Yp=3/10 (d)Yp=1/10 8、最常用的胺基化剂是: (a)氨水(b)气氨(c)液氨(d)碳酸氢氨 9、2-氯蒽醌胺解制备2-氨基蒽醌的催化剂是: (a)CuCl (b)CuCl+SnCl2(c)CuCl+FeCl2(d)CuSO4 10、下面哪一个重氮盐偶合时的反应活性最高? (a)Cl-Ar-N=N+(b)O2N-Ar-N=N+(c)H3C-Ar-N=N+ (d)H3CO-Ar-N=N+ 11、用混酸(浓硫酸和硝酸)硝化时,关于浓硫酸的作用,下面哪一个说法是错误的?

大学有机化学期末考试真题

大学有机化学期末考试真题 1、将下列化合物按酸性增强的顺序排列: 2、与Br2加成反应的活性 3、 将下列化合物按SN2历程反应的活性有大到小排列: 4、将下列碳正离子按稳定性有大到小排列: 将下列化合物按自由基稳定性从大到小的顺序排列: 将下列化合物按沸点增强的顺序排列 : a 、3,3-二甲基戊烷 b 、正庚烷 c.2-甲基庚烷 d 、 2-甲基己烷 3将下列化合物按SN 2历程反应的活性有大到小排列: (CH3)2CHI (CH3)3CCl (CH3)2CHCl 1 2 3 4加氢反应活性 下列化合物水解反应速度由大到小排列 推断题 (10 分): 某不饱与酮A(C5H8O)与CH3MgI 反应,经酸化水解后得到饱与酮B(C6H12O) 与不饱与醇C(C6H12O)的混合物。B 经碘的氢氧化钠溶液处理转化为3—甲基丁酸钠。C 与KHSO4共热则脱水生成 D(C6H10) ,D 与丁炔二酸反应得到E(C10H12O4)。 E 在钯上脱氢得到3,5-二甲基邻苯二甲酸。试写出A ,B ,C ,D 与E 的构造式 。 2、 中性化合物A(C8H16O2) ,与Na 作用放出H2 ,与PBr3作用生成相应的化合物C8H14Br2 ;A 被KMnO4氧化生成C8H12O2 ;A 与浓H2SO4一起共热脱水生成B(C8H12) 。B 可使溴水与碱性KMnO4溶液褪色;B 在低温下与H2SO4作用再水解,则生成A 的同分异构体C ,C 与浓H2SO4一起共热也生成B ,但C 不能被KMnO4氧化,B 氧化生成2,5-己二酮与乙二酸。试写出A 、B 、C 的构造式。 2、 中性化合物A(C8H16O2) ,与Na 作用放出H2 ,与PBr3作用生成相应的化合物C8H14Br2 ;A 被KMnO4氧化生成C8H12O2 ;A 与浓H2SO4一起共热脱水生成B(C8H12) 。B 可使溴水与碱性KMnO4溶液褪色;B 在低温下与H2SO4作用再水解,则生成A 的同分异构体C ,C 与浓H2SO4一起共热也生成B ,但C 不能被KMnO4氧化,B 氧化生成2,5-己二酮与乙二酸。试写出A 、B 、C 的构造式。 A(C4H8) ,B(C4H8Cl2),C(C4H7Cl)在金属钠作用下,可得到D(C8H14),D 可与2molHCl 作用得到E(C8H16Cl2),E 与氢氧化钠的乙醇溶液作用主要产物为F 。F 的分子式与D 相同。F 与一亲双烯体G 作用得到H,H 经酸性高锰酸钾溶液氧化成二元酸HOOCC(CH3)2CH2CH2C(CH3)2COOH 。试写出A 、B 、C 、D 、E 、F 、H 构造式。 一中性化合物A(C10H12O),经臭氧分解产生甲醛但无乙醛。加热至200℃以上时,A 迅速异构化成B 。B 经臭氧分解产生乙醛但无甲醛;B 与FeCl3呈阳性反应;B 能溶于NaOH 溶液;B 在碱性条件下与CH3I 作用得到C 。C 经酸性KMnO4溶液氧化后得到邻甲氧基苯甲酸。推断A 、B 、C 的构造式。 CH 3CH 2CHBrCOOH CH 3CH 2CH 2COOH CH 3CH 2CH 2CH 2OH C 6H 5OH 1234 CH 3CH 2CH 2 Cl CH 3CH 22I 12CH 3CH CHCl 3C CH 3H 3C 3CH 2CH 2CH 3H 3C CH 2CH 3C CH 3H 3C 3 CHCH 312 3CH 3CH 2CH 23CH 3CH 2CCH 3CH 3CH 3CH 2CCH 3CH 3

机械识图试题库

一.制图基础知识 1.图纸的幅面分为幅面和幅面两类,基本幅面按尺寸大小可分为种,其代号分别为。 2.图纸格式分为和种,按照标题栏的方位又可将图纸格式分为和两种。 3.标题栏应位于图纸的,一般包含以下四个区:、、 、,标题栏中的文字方向为。 4.比例是指图中与其之比。图样上标注的尺寸应是机件的尺寸,与所采用的比例关。 5.常用比例有、和三种;比例1:2是指是的2 倍,属于比例;比例2:1是指是的2倍,属于比例。 @ 6.图时应尽量采用比例,需要时也可采用或的比例。无论采用何种比例,图样中所注的尺寸,均为机件的。 7.图样中书写的汉字、数字和字母,必须做到, 汉字应用体书写,数字和字母应书写为体或体。 8.字号指字体的,图样中常用字号有号四种。 9.常用图线的种类有 等八种。 10.图样中,机件的可见轮廓线用画出,不可见轮廓线用画出,尺寸线和尺寸界线用画出,对称中心线和轴线用画出。虚线、细实线和细点划线的图线 宽度约为粗实线的。 11.图样上的尺寸是零件的尺寸,尺寸以为单位时,不需标注代号或名称。 12.标注尺寸的四要素是、、、。 13.尺寸标注中的符号:R表示,φ表示,Sφ表示,t表示, ~ C表示。 14.标注水平尺寸时,尺寸数字的字头方向应;标注垂直尺寸时,尺寸数字的字头方向应。角度的尺寸数字一律按位置书写。当任何图线穿过尺寸数字时都必须。 15.斜度是指对的倾斜程度,用符号∠表示,标注时符号的倾斜方向应与所标斜度的倾斜方向。 16.锥度是指与的比,锥度用符号表示,标注时符号的锥度方向应与所标锥度方向。 17.符号“∠1:10”表示,符号“ 1:5”表示。 18.平面图形中的线段可分为、、三种。它们的作图顺序应是先画出,然后画,最后画。 19.平面图形中的尺寸,按其作用可分为和两类。 · 20.已知定形尺寸和定位尺寸的线段叫;有定形尺寸,但定位尺寸不全的线段叫;只有定形尺寸没有定位尺寸的线段叫。 二.投影理论

(精选)有机化学_下_期末考试试题A及答案

“ 有机化学”(下)期末考试试题A 专业 年级 学号 姓名 闭 卷 考试时间:120分钟(满分: 100 分) 一、用系统命名法命名或根据名称写出相应的结构 (6分) 1. 2,4-二硝基苯肼 2. 阿司匹林 3. 光气 4. 5. 6. 二、选择题 (20分) 1、 下列化合物中碱性最小的是:( ) A. N-甲基苯胺 B. 苯胺 C. 三苯胺 D. 苄胺 2、 下列化合物按酸性减弱的顺序排列的是:( ) (1)草酸 (2)丙二酸 (3)醋酸 (4)苯酚 (5)碳酸 (6)乙醇 (7)水 (8)乙烷 A.(1)(2)(3)(4)(5)(6)(7)(8) B.(2)(1)(3)(5)(4)(7)(6)(8) C.(1)(2)(3)(5)(4)(7)(6)(8) D.(2)(1)(3)(4)(5)(6)(7)(8) 3、下列化合物属于单糖的是:( ) A 、蔗糖 B 、乳糖 C 、糖原 D 、核糖 4、下列羰基化合物与同一亲核试剂作用时的活性由大到小的顺序是:( ) A. C 6H 5CHO B. C. HCHO D. CH 3COOC 2H 5 5、下列化合物既能发生碘仿反应,又能和NaHSO 3加成的是:( ) A. CH 3COC 6H 5 B. CH 3CHOHCH 2CH 3 C. CH 3COCH 2CH 3 D. CH 3CH 2CH 2CHO 6、Hofmann 重排反应中,经过的主要活性中间体是:( ) A. 苯炔 B. 碳烯 C. 氮烯 D. 碳负离子 7、冠醚可以和金属正离子形成络合物,并随着环的大小不同而与不同的金属离子络合,18-冠-6最容易络合的离子是:( ) A. Li + B. Na + C. K + D. Mg 2+ 8、下述反应不能用来制备α,β-不饱和酮的是:( ) A. 丙酮在酸性条件下发生羟醛缩合反应 B. 苯甲醛和丙酮在碱性条件下发生反应 C.甲醛和苯甲醛在浓碱条件下发生反应 D. 环己烯臭氧化、还原水解,然后在碱性条件下加热反应 9、不能用NaBH 4还原的化合物是:( ) A. B. C. D. 10、下列哪种金属有机化合物与 只能发生1,2-亲核加成的是: ( ) A. RMgX B. R 2Cd C. R 2CuLi D. Rli CHO 3 O CH 3 HO CH 3CH 2C N O C 2H 5C 2H 5C 6H 5CCH 2CH 2C 6H 5O CHO O C C C CHO O CH 3COOC 2H 5CH 3CH 2 O

大学有机化学期末考试题

4 1 / 4 大学有机化学期末考试题 、命名下 列各物种或写出结构式:(本大题分 1 严 『 CHC^CH \ / C —C / \ H H 用系统命名法给出化合物的名称: CH 3 CH 3 KMnO 4 稀水溶液 稳定构象 。2, Ag CH 2=CH 2 ( CH 2MgBr H 2O ) 干醚 CH CH 2 ( H 2O 2,OH - * B 2H 6过量 2, 8小题,共14分) 2分 用系统命名法给出化合物的名称: 2. 3. 4. 用系统命名法给出化合物的名称: 1.5 分 ) 用系统命名法给出化合物的名称: CI CH 3 用系统命名法给出化合物的名称: 1.5 分 ) (CH 3)3CH 5. 6. 7. 写出3, 7, 7-三甲基二环]4. 1.0] 写出4, 4 '-二氯联苯的构造式: CH 3 H H H 5 -3-庚烯的构造式: (1.5分 (1.5 分) 写出化合物 二、完成下列各反应式 (本大题共 8. 的对映体(用Fischer 投影式): :(把正确答案填在题中括号内 5小题,总计10分) 1. AICI 3 (CH 3)2CHCH 2Cl ( KMnO 4 ) H + CH 3 NO 2 Cl Br

2 / 4 大学有机化学期末考试题 三、选择题:(本大题共8小题,总计16分) 1. 下列各组化合物中,有芳香性的是 () N N N N ---- ABC 2. 下列各组化合物中有顺反异构体的是 ( A CH J CH J O'CH J B. 口Ij —Oi —CCI 2 U CH 忙旳ClUtrU CH, z D 匚 4?CU a CH —C 3. 下列化合物构象稳定性的顺序正 确的是 ( ) CH 3 5. 6. 7. ( 1 ) C CHLCH —CH —Br CH 3 CH 3 F 列化合物中无旋光性的是 ( CH 3-CH —CH 2CH 3 Br CHj 000H NH OH H —T ()H HsCi -j —H OH 氯乙烯分子中,C — Cl 键长为0.169nm, 这是因为分子中存在着( )效应, A. d -p 超共轭 B. d - n 超共轭 以下化合物硝化反应速率最大的是( (2 ) CH 3 而一般氯代烷中 C — Cl 键长为0.177nm, 使C — Cl 键长变短。 C. p-n 共轭 ) D. n -n 共轭 (3 ) OCH 3 ( 4 ) NO 2 5. 4. 液中形成的主要产物是 A (CH 3)3C —CH 2Br (CH 3)2CHCH 2CH 2Br O + (CH 3)3CCH 2OH 在 HBr 水 溶 C,c>*>b>d

机械识图试题加答卷

机械识图考试试题 部門工號姓名 一、填空题(每空分,共分) 1.零件图一般包括四项内容:一组视图完整的尺寸、技术要求和标题栏。 2. 主、俯、仰、后视图,长度相等;主、左、右、后视图,高度相等;左、俯、右、仰视图,宽度相等。 3. 用剖切平面局部地剖开机件所得到的剖视图称为局部剖视图。 4. 画剖视图时,不要漏画剖切面后面的可见轮廓线。 5. 按作用不同,可将基准分为设计基准和工艺基准。 6. 外螺纹的规定画法是:大径用粗实线表示;小径用细实线表示;终止线用粗实线表示。 7. 在基本视图中,由下向上投影所得到的视图称为C。 8. 用视图表达机件形状时,机件上不可见的内部结构要用C表示。 9. 将某部分结构用大于原图形所采用的比例画出,这种图形称为D。( 10.主视图的投影方向应该能够反映零件的主要形状特征。 11. 按物体被剖切范围的大小可将剖视图分为全剖视图、半剖视图和局部剖视图3种。 二、判断题(每题1分,共10分) 1. 表面粗糙度参数值越小,表面质量要求越低,加工成本也越低。(×) 2. 极限偏差的数值可以为正值、负值和零,公差的数值只能是正值。(√) 3. 在设计或测绘机器时,首先要绘制零件图,再画装配图。(×) 4表面结构代号可标注在可见轮廓线、尺寸界线、引出线或它们的延长线上。(√) 5. 表面结构是一种宏观几何形状特征。(×) 6. 装配图中明细栏内分格线为细实线,左边外框线为粗实线。(√) 7. 表面结构代号在图样上标注时,符号从材料内指向并接触表面。(×) 8. 在同一图样上,每一表面一般只注一次表面结构代号。(√) 9. 在设计或测绘机器时,首先要绘制零件图,再画装配图。(×) 10. 标注形位公差代号时,当被测要素是轮廓要素时,从框格引出的指引线箭头,应指在该要素的轮廓线或者延长线上。(√) 11. 表面结构代号在图样上标注时,符号从材料内指向并接触表面。(×) 12. 基本偏差可能是上偏差,也可能是下偏差。(√) 13. 标准公差等级中,等级数字越大,公差值越小,精度越高。(×) 14. 基孔制中的基准孔,其基本偏差代号为H,下偏差为零。(√) 15. 在同一图样上,每一表面一般只注一次表面结构代号。(√)

相关文档
最新文档