MASK介绍与曝光机原理

MASK介绍与曝光机原理

Mask说明：

将mask上的图形通过曝光（UV光），复制到玻璃基板上，通过显影等方式，形成CF图形。

mask样图：

Mask规格

一、mask规格

1.适用范围

本规格书适用于清溢精密光电(深圳)有限公司为湖南普照爱伯乐显示器件有限公司提供的苏打玻璃铬版。

2.铬版规格

本资料为清溢精密光电（深圳）有限公司专有之财产，未经书面许可，不准透露或使用本资料，并不准复印、复制或转变为任何其它形式资料使用。

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3.缺陷规格

3-1缺陷区域定义

若贵司对缺陷区域定义有差异，需事先通知协商。

示意图：

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3-2各区域缺陷规格Array本资料为清溢精密光电（深圳）有限公司专有之财产，未经书面许可，不准透露或使用本资料，并不准复印、复制或转变为任何其它形式资料使用。

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清溢精密光电[深圳]有限公司

QINGYI PRECISION MASKMAKING [SHENZHEN] CO.,LTD

修补方法 1.用树脂材料和金属材料修补针孔和凹陷

2.黑点毛刺以Laser Repair(激光)来修正。

*若贵司对修补方法或修补相关事项有限制，应事先通

知协商。

三、曝光机的介绍：

1、基板的进入曝光机的顺序：搬入 整列

stage 对位 。

2、BM 的对位: 台板上有对位mark ，与mask 的对位标志对正，进行曝光。与半反射的曝

BM 的曝光顺序是：

对位

GAP 测量

曝光。

3、RGB 的曝光：

○1整列的精度：±200μ

相对于走片方向的两侧。

对位的顺序：预对位 ｇａｐ测定 Ａｕｔｏ Ａｌｉｇｎｍｅｎｔ（自动对位）。

○2预对位：

精度：±20μｍ．

○3ＧＡＰ的测量：有三个小窗口测ｇａｐ。

ｇａｐ指的是玻璃基板与ｍａｓｋ的距离。 ｇａｐ的测量原理：

ｇａｐ时，ｍａｓｋ不动，玻璃动。

机器先读台板上的标志+，再读mask 上的+

○4精确对位：

精度±１μｍ．ｍａｓｋ上有小窗口，在玻璃基板上有ＢＭ曝光时曝出来的并排的三个“＋＋＋”，之间的距离是２＋α，α代表ＲＧＢ之间的间距。

ＭＡＳＫ与玻璃的对位示意图如下：

利用三角形的重 对位框 对位框

GAP 框 GAP 框

GAP 框 MASK 上对位标志 玻璃上对位标志

BM对位标志：

RGB对位标志：

Maks与基台对位标志：Gap标志：

Mask测试版设计测试内容

此mask设计测试的目的：

1.对曝光机曝光均匀性的测试(包括中间及四周);

2.测试曝光机极限尺寸的能力及对位精度;

3.对工艺参数调整的测试。

1、此mask设计以370×470mm、14×16inch两种主要规格进行设计。

2、目的：测量极限边缘的能力。

设计：以玻璃尺寸370×470mm、14×16inch两种规格，玻璃边缘向内部每边5排，每排15个，图形为十字错位，间隔1mm。（见BM及RGB边缘15个错位“十”字）

原由：测试距边缘0～8mm距离对位标记工艺能力，以尽量满足客户图形满布的设计。

3、目的：测量total pitch。

设计：(BM)在370×470mm做一圈十字。十字中心距离玻璃边缘10mm。

原由：测试曝光后玻璃的尺寸，对工艺参数进行修正，满足顾客的精度要求。

4、目的：测量BM、RGB的线宽。

设计：各种式样BM线宽设计在ABLE基础上，修改后尺寸为5、6、7、8、9、10、12、14、16微米，相对于ABLE 的设计RGB的线宽已经以BM为基础全部调整，RGB套位搭边（边缘重叠）值2微米（5微米搭边为1微米）。

在大图形区周围设计与BM 对应的RGB图形的尺寸：分别为65、67、69、71、72、73微米。

原由：依据BM及RGB的尺寸，搭边情况，满足顾客实际要求。

5、目的：对位标志设计。

设计：两种规格370×470mm、14×16inch尺寸；两种规格设计对位标志：gap标志、MASK对位标志、BM对位标志、RGB对位标志全套。

原由：由曝光机具体参数及实际规格进行设计。

6、目的：曝光的均匀性能力测试。

做法：ABLE和清溢设计图形均加入设计图面中，在整个图形测试位置中均有分布，且正负形设计，曝光后图形区显示相反。

具体为：

清溢小图形：30、40、50、60、70、80、90、100、110、120微米的直条形，横竖分布；

4－20微米，连续分布长条形，横竖排列；

直条交叉形：8、10、12、14、16、18、20微米，横竖分布；

三角形、四方形、圆：尺寸为10、20、30、40、50、60、70、80微米。

ABLE小图形：3-20微米连续分布：横竖直条形，四方交叉形，横竖交叉形。

原由：测试曝光机的均匀性，满足各种尺寸的要求。

7、目的：BM 、RGB对位一致。

设计：选定适当区域（图中四大图形区周围）以BM的线宽10微米为标准，RGB在BM上搭边（重叠部分）从-3、-2、-1、0、1微米、2微米、3微米三种图形设计，做一定数量图形测试。

原由：生产工艺实际要求曝光的精度不同，及工艺参数的调整需要。

8、目的：不同形状的曝光能力。

设计：（在两侧BM 图形区上方）设计BM 区域：POS正性胶设计，尺寸为15×55、75×50微米，以及几种不同形状的图形：15×80、10×90、30×30、30×40微米。

RGB对应的设计了：正性胶三角形图形，尺寸为30、40微米；BOX 形，尺寸为40（20，25，30）微米。

原由：满足客户不同形状标记的需要。

修改：图形区BM、RGB图形不要重合在一起。

9、目的：曝光均匀性测试，各种RGB 尺寸的确认

设计：中间四块图形区的设计，不同的尺寸及搭边见下图。

原由：满足客户不中图形的尺寸的需要。

修改：右上角图形区增加标注，仿照其它三区域。

依次是BM、RGB 的尺寸,括号里的数据是RGB 尺寸,搭边表示重合的部分. 左上角:

左下角：

右下角：