PCB电镀铜为什么要使用含磷的铜球

PCB电镀铜为什么要使用含磷的铜球
PCB电镀铜为什么要使用含磷的铜球

PCB电镀铜为什么要使用含磷的铜球

在早期,硫酸铜电镀都是采用电解铜或无氧铜做阳极,其阳极效率高达100%甚至超过100%,这样造成一系列的问题:槽液中的铜含量不断升高,添加剂消耗加快,槽液中的铜粉和阳极泥增多,阳极利用效率降低,镀层极易产生毛刺和粗糙缺陷。1954年,美国Neverse等对阳极的研究发现:在阳极中掺入少量的磷,经过一段时间的电解处理(电解产生的阳极黑膜对电镀相当重要,因此建议利用电解拖缸板/假镀板/波浪板在2-3ASD的电流密度下电解4~ 10小时),铜阳极的表面生成一层黑色的磷膜,主要的成分是磷化铜Cu3P。这层黑膜具有金属导电性,改变了铜阳极溶解过程中的一些反应的步骤,有效克服了上述的一些缺陷,对铜的质量和工艺稳定性起着重要作用。铜阳极的溶解主要是生成二价铜离子,研究实验证明(旋转环盘电极和恒电流法):铜在硫酸铜溶液中的溶解分两步进行的。Cu-e-→Cu+

基元反应1 Cu+--e-→Cu2+ 基元反应2 亚铜离子在阳极作用下氧化成二价铜离子是个慢反应,也可以通过歧化反应生成二价铜离子和单质铜,正如在化学沉铜反应中一样。所生成的铜单质以电泳得方式沉积于镀层中,从而产生铜粉,毛刺,粗糙等。当阳极中加入少量的磷后,经电解处理(或称拖缸)在阳极表面生成一层黑色的磷膜,阳极的溶解过程就发生了一些变化:1.黑色磷膜对基元反应2有着显著的催化效果,大大加快了亚铜离子的氧化,使慢反应变成快反应,大大减少槽液中亚铜离子的累积。同时阳极表面的磷膜也可阻止亚铜离子进入槽液,促使其氧化,减少了进入槽液的亚铜离子。标准阳极黑色磷铜膜的导电率为1. 5×104Ω-1CM-1,具有金属导电性,不会影响到阳极的导电性,而且磷铜阳极壁春铜阳极的阳极极化小,在Da为1ASD时,含磷0.02---0.05%的铜阳极的阳极电位比无氧铜阳极低50? 80mv.黑色阳极磷膜在允许的电流密度下不会造成阳极的钝化。2.阳极表面的黑色磷膜会使阳极不正常溶解,微小颗粒脱落的现象大大减少,阳极的利用效率大大提高。当阳极采用0.4?1.2ASD电流密度时,阳极上所含磷量与黑膜厚度呈线性关系。在阳极磷含量在0.030?0. 075%蚀阳极的利用效率最高,阳极黑色磷膜生成的最好. 阳极材料分配% 电解铜火炼

铜空气搅拌含磷铜空气搅拌空气搅拌静止槽阴极沉积85.51 85.59 97.90 98.36 泥渣及附着膜6.81 13.61 0.15 0.04 电解液铜含量的增加7.60 0.80 1.95 1.60 亚铜离子在阴极沉积过程中也会产生: Cu2++e-→Cu 3 Cu2++e-→Cu+ 慢反应 4 Cu++e-→Cu 快反应5 镀液中的亚铜离子主要通过阳极反应和反应4产生的,虽然含量很微小,但只要很少量就可影响镀层质量.亚铜离子进入槽液会对阴极镀层产生如下危害: 1.造成镀层毛刺粗糙,.在电镀过程中,铜粉以电泳的方式在阴极镀层上沉积的.在电流密度小,温度高的情况下,阴极电流效率下降,氢离子放电,使酸度下降,水解反应方向向有利铜粉生成的方向进行,毛刺的现象将会加重. 2.亚铜离子同时会造成镀层不光亮,整平性差,镀液混浊等.这也是由于铜粉细密的散布在阴极镀层上面,造成沉积层的致密性差,无光泽.在低电流区,影响更严重.此时补加光剂效果不大,加双氧水除去铜粉,驱赶完全双氧水,补充光剂,地区光亮性和整平性会有所改善.同时

反应会消耗一部分酸,应适当补充些硫酸. 阳极的磷含量国内多为0.3%,国外的研究表明,磷

铜阳极中的磷含量达到0.005%以上,既有黑膜形成,但是膜过薄,结合力不好;磷含量过高,黑膜太厚,阳极泥渣太多,阳极溶解性差,导致镀液中铜含量下降.阳极磷含量以0.030---0.075%为佳,最佳为0.035?0.070%.国内生产设备和工艺落后,搅拌不均匀,不能保证磷含量均匀分布,通常加大磷含量到0.1--0.3%;国外采用电解或无氧铜和磷铜合金做原料,用中频感应电炉熔炼,原料纯度高,磷含量容易控制,采用中频感应,磁力搅拌效果好,铜磷熔融搅拌均匀,自动控制,这样制造的铜阳极磷分布均匀,溶解均匀,结晶细致,晶粒细小,阳极利用率高,有利于镀层光滑光亮,减少了毛刺和粗糙缺陷. 磷含量对阳极磷膜的影响: 1.磷含量为0.030?0.075%的铜阳极,形成的黑膜厚薄适中,结构致密,结合牢固,不易脱落;险前磷含量过高的铜阳极.磷分布不均匀,溶解使阳极泥过多,从而污染槽液,还会堵塞阳极袋孔,造成槽电压升高.槽电压升高有会造成阳极膜脱落.实际生产中边电镀边更换阳极容易产生毛刺. 2.磷含量为0.3%的磷铜阳极磷分布不均匀,黑色磷膜过厚,铜的溶解性差.所以常常要把阳极挂满,并非使阴阳极面积比为1:1,实际

铜阳极挂的多,槽液中的铜含量还有下降的趋势,也很难保持平衡.需经常补加硫酸铜,从电镀成本来看,也是不合算的.电镀宁可多挂劣质的磷铜阳极,阳极泥增多,实际的费用也会增多. 3.实际上磷含量高的铜阳极生成的黑膜厚度太厚,电阻增加,要维持原来的电流,电压要升高.槽电压的升高有利于氢离子放电,针孔的产生几率加大.这一现象对国产”M.N.SP.P。AEO”体系来讲,不多见,因其中表面活性剂较多,但对部分进口光剂来讲,针孔的机会会大大增加,需另外补加润湿剂,并设法降低电压。4.实际上,磷含量高,黑膜太厚,分布不均匀,还会造成低电流区不光亮,细微麻砂状。虽然含磷0.3%铜阳极黑膜厚度可以减少亚铜离子进入槽液,但是因其结构疏松,分布不均匀,作用效果大减.另外电解液中存在化学可逆反应: Cu2 ++ Cu -→ 2Cu+ 在常温下,此反应的平衡常数为K=( Cu+)2/( Cu2+)=0.5X10-4 温度升高,亚铜离子浓度也会升高。亚铜离子在槽液中以硫酸亚铜的形式存在,在空气搅拌时会被氧化。在酸度降低情况下,硫酸亚铜水解氧化亚铜(铜粉),同粉滞留在阴极高电流区,堆积一定量即产生毛刺;在低电流区,电流效率下降,氢离子放电较多,相对该处酸度下降,水解向生成铜粉方向进行,Cu2SO4+H2O=Cu2O+H2SO4 较多的铜粉滞留在阴极表面会造成阴极镀层不光亮,细麻砂。若没有空气搅拌,电流密度开得很小的情况下,这种情况在低电流区很发生。使用磷含量少的铜阳极,由于黑色磷膜致密,亚铜力子很难溶入槽液,只要用空气搅拌,控制硫酸浓度不要偏低,电流密度略高些,地区的不光量和麻砂状即可克服。影响磷铜质量及其正常溶解的因素:1.铜的质量一般采用无氧铜,电解铜或磷铜合金。无氧铜含氧量为3×10-6杂质极少,基本不产生磷的氧化物,不消耗磷,所以磷含量容易控制,但成本较高。电解铜纯度为99。95%,可以满足要求,否则氧含量不固定,磷加的少,将造成磷含量的失控和分布不均匀。杂铜中杂质含量较高,在阳极生产中偏析,溶解时进入镀液,累积一定量形成阳极泥,造成镀层粗糙,镀液混浊或加速槽液老化,影响电流效率,镀

层光亮度,镀液的性能和镀层的质量。2.磷的含量:磷含量过低,黑膜过薄,结合力差;过厚,弊端种种。3.冶炼方式:中频感应电炉熔融,原材料的纯度,连续铸造密封方法及铸造工艺的控制条件的整个生产的全过程,实质上决定了磷铜阳极结晶组织的细致均匀,决定了高品质磷铜阳极的黑膜形成速度,内部结晶状况和电化学溶解性能。4.阳极电流密度:阳极面积过小,往往造成阳极电流偏大,毛刺,铜粗,阳极泥增多,阳极利用效率下降,影响PCB的合格率。现场实际分析,全板电镀和图形电镀即使其它条件一样,但电流密度不同,前者磷铜黑膜薄,结合力不好,磷铜球呈破碎状;后者则无这种情况发生,磷铜球随溶解变小而不变形。增大阳极面积,降低阳极电流,镀层质量就完全一样。阳极在电镀过程中随电流密度增加有三个变化:1。阳极电位向正向移动时产生阳极溶解,随电位变正,金属溶解速度加大;2。超过极限电流密度时,金属溶解速度不但不增加,反而急剧下降,阳极出现钝化现象;3。电极上板随着金属溶解液会产生其他电极反应,如氢氧根离子在阳极析氧,对添加剂和阳极黑膜产生不利影响。由于电流一般是有阴极镀件决定的,提供适当的阳极电流密度的唯一方法就是调节阳极面积。在电镀过程中阳极不断溶解变小,(843AH/K

g铜),随阳极电流密度加大,黑膜生长速度加快,加厚/或阳极发生钝化/局部钝化同时阳

极上可能有大量的氧气产生,造成黑色磷膜的脱落,阳极泥的增加,进入镀液造成镀层粗糙。阳极电流密度对磷铜阳极的正常溶解起着决定性影响。特别全电镀槽应该经常性补加铜阳极,以保持阳极面积,只要槽液中铜离子无明显上升,不影响镀均镀能力,即使阳极杆挂满钛篮阳极铜球也不为过! 注意事项:磷铜阳极电解后必定会生成一层黑色磷膜,这是铜阳极的主要特征。阳极黑色磷膜形成的速度及紧密结合状况与阳极电流密度,氯离子含量,添加剂的种类及含量,连续铸造方式及其工艺控制的全过程都有密切关系。在正常电镀工艺条件下,阳极电流密度0。4?1。2ASD拖缸电解处理,磷铜阳极表面生成一层均匀致密结合良好的黑色磷膜,此时阳极溶解材会处于最佳状态。在生产中,阳极黑膜到了一定时候磷铜球溶解消耗,脱下一层黑膜,要不断补重新铜球和铜离子的平衡,黑膜也会形成少量的正常的磷化铜黑泥。若过滤清洗槽底,用钢丝刷使劲刷洗阳极铜球甚至用浓酸浸泡,不能完全除去黑膜,就说明铜阳极磷含量过高了。另外劣质阳极含杂质较多,晶粒粗大不致密,造成溶解不均匀,形成与黑膜混合的泥渣,这是另一类泥渣。在线路板行业,酸铜槽若停槽多日,应将阳极取出。因为阳极会发生自溶现象,使硫酸铜含量增加。铜一般是不溶解在2摩尔当量浓度的硫酸中,但是在空气搅拌的情况下会发生如下反应:2Cu+O2+2H2SO4=2CuSO4+2H2O Cu

2+/Cu和O2+4H+ /H2O电对的标准电极电位分别为0。34v和1。23v,显然上述反应可以

进行,特别是在空气搅拌的情况下。2.阳极袋应选用耐酸的涤纶布或丙纶布。阳极袋经纬的密度,厚度规格,孔隙的大小对于阻挡阳极微粒,黑膜泥颗粒和铜离子的对流扩散等影响各异。双层阳极袋虽可有效阻挡阳极泥进入槽液,但不利于阳极溶解,槽电压液会升高,影响磷膜的结合力。不要让阳极袋直接贴在阳极表面,一般用钛篮装好外套阳极袋。

PCB电镀工艺介绍

PCB电镀工艺介绍 线路板的电镀工艺,大约可以分类:酸性光亮铜电镀、电镀镍/金、电镀锡,文章介绍的是关于在线路板加工过程是,电镀工艺的技术以及工艺流程,以及具体操作方法. 二.工艺流程: 浸酸→全板电镀铜→图形转移→酸性除油→二级逆流漂洗→微蚀→二级逆流漂洗→浸酸→镀锡→二级逆流漂洗→逆流漂洗→浸酸→图形电镀铜→二级逆流漂洗→镀镍→二级水洗→浸柠檬酸→镀金→回收→2-3级纯水洗→烘干 三.流程说明: (一)浸酸 ①作用与目的: 除去板面氧化物,活化板面,一般浓度在5%,有的保持在10%左右,主要是防止水分带入造成槽液硫酸含量不稳定; ②酸浸时间不宜太长,防止板面氧化;在使用一段时间后,酸液出现浑浊或铜含量太高时应及时更换,防止污染电镀铜缸和板件表面; ③此处应使用C.P级硫酸; (二)全板电镀铜:又叫一次铜,板电,Panel-plating ①作用与目的:保护刚刚沉积的薄薄的化学铜,防止化学铜氧化后被酸浸蚀掉,通过电镀将其加后到一定程度 ②全板电镀铜相关工艺参数:槽液主要成分有硫酸铜和硫酸,采用高酸低铜配方,保证电镀时板面厚度分布的均匀性和对深孔小孔的深镀能力;硫酸含量多在180克/升,多者达到240克/升;硫酸铜含量一般在75克/升左右,另槽液中添加有微量的氯离子,作为辅助光泽剂和铜光剂共同发挥光泽效果;铜光剂的添加量或开缸量一般在3-5ml/L,铜光剂的添加一般按照千安小时的方法来补充或者根据实际生产板效果;全板电镀的电流计算一般按2安/平方分米乘以板上可电镀面积,对全板电来说,以即板长dm×板宽dm×2×2A/ DM2;铜缸温度维持在室温状态,一般温度不超过32度,多控制在22度,因此在夏季因温度太高,铜缸建议加装冷却温控系统; ③工艺维护: 每日根据千安小时来及时补充铜光剂,按100-150ml/KAH补充添加;检查过滤泵是否工作正常,有无漏气现象;每隔2-3小时应用干净的湿抹布将阴极导电杆擦洗干净;每周要定期分析铜缸硫酸铜(1次/周),硫酸(1次/周),氯离子(2次/周)含量,并通过霍尔槽试验来调整光剂含量,并及时补充相关原料;每周要清洗阳极导电杆,槽体两端电接头,及时补充钛篮中的阳极铜球,用低电流0。2?0。5ASD电解6?8小时;每月应检查阳极的钛篮袋有无破损,破损者应及时更换;并检查阳极钛篮底部是否堆积有阳极泥,如有应及时清理干净;并用碳芯连续过滤6?8小时,同时低电流电解除杂;每半年左右具体根据槽液污染状况决定是否需要大处理(活性炭粉);每两周要更换过滤泵的滤芯; ④大处理程序:A.取出阳极,将阳极倒出,清洗阳极表面阳极膜,然后放在包装铜阳极的桶内,用微蚀剂粗化铜角表面至均匀粉红色即可,水洗冲干后,装入钛篮内,方入酸槽内备用 B.将阳极钛篮和阳极袋放入10%碱液浸泡6?8小时,水洗冲干,再用5%稀硫酸浸泡,水洗冲干后备用;C.将槽液转移到备用槽内,加入1-3ml/L的30%的双氧水,开始加温,待温度加到65度左右打开空气搅拌,保温空气搅拌2-4小时;D.关掉空气搅拌,按3?5克/升将活性碳粉缓慢溶解到槽液中,待溶解彻底后,打开空气搅拌,如此保温2?4小时;E.关掉空气搅拌,加温,让活性碳粉慢慢沉淀至槽底;F.待温度降至40度左右,用10um的PP滤芯加助滤粉过滤槽液至清洗干净的工作槽内,打开空气搅拌,放入阳极,挂入电解板,按0。2-0。5ASD电流密度低电流电解6?8小时,G.

PCB电镀铜制程

PCB电镀铜制程 使用说明书 2016第一版 酸性除油剂D801 产品简介

D801 用于强力清除印制板上的有机污物(轻油)、指印、氧化膜,光洁铜层表面,使板面与镀铜层有良好的结合力,并使镀层平整,光亮,适用于顶夹挂板的电镀设备。 操作条件 D801 :5%(4-6%) (V/V) 温度:25-35℃ 处理时间:1-5min 搅拌:摆动及过滤循环(5-10 微米聚丙烯滤芯) 加热:316 不锈钢、钛、聚四氟乙烯 振动马达:建议功率50-75W 配槽(100L) 1.将50L 纯水放入槽。 2.加入D801 10L及98%硫酸1L,加水至100L,搅拌均匀 槽液维护: 1.处理100m2 板后,需补加D801 1L及98%硫酸0.1L,生产过程D801与98%硫酸按10:1补加 2.正常生产每天分析一次药水含量,并调整到最佳值; 3.工件在除油过程中需水平摆动,然后用水彻底冲洗; 4.每1L 工作液处理8-10m2板后,更换部分或全部槽液 镀铜光亮剂Cu806B 产品简介 Cu806B 是一种高效率、高穿透力的酸性电镀铜光亮剂,在高电流位和低电流位均可以形成均匀、细腻的电镀沉积层,进而增加镀层的光亮性、抗张性,

减少镀层的内应力。同普通的高纵横比电镀添加剂比较,在低电流密度下(10~20ASF)可以提高分散能力5-10%。与普通的添加剂比较,Cu806B 产生的阳极泥少,减轻了维护工作。耐热冲击性优秀,析出薄膜的延展性好。添加剂添加量少,仅为80-120ml/1000AH,因此槽液污染少,安定性高,管理容易,可操作性好。Cu806B 同时适用于HDI 板。 操作条件 硫酸铜75g/L (60-90g/L) 硫酸(CP)220g/L (180-240g/L) 氯离子50ppm(40-80ppm) 铜开缸剂Cu806A20ml/L(10-30ml/L) 铜光亮剂Cu806B5ml/L(3-8ml/L) 铜光亮剂Cu806C(调整用) 温度23℃(22-25℃) 阴极电流密度20ASF (10-30ASF) 搅拌空气搅拌或持续的高速循环,机械式阴极摆动摆动次数 为15-25 来回/分钟,摆动幅度为5-8cm 过滤连续过滤(5-10 微米聚丙烯滤芯) 振动装置5000L 的缸建议使用60-75W 的振动马达(飞巴两端 各一)及气振 阳极磷铜,含磷0.03-0.06%,用聚丙烯阳极袋包覆 槽体材质PVC 或PP 配槽程序 1.在预备槽内放进1/2 的水量(纯水),再加入所需要的硫酸铜,充分搅拌

PCB电镀工艺流程

PCB电镀工艺流程 PCB电镀工艺流程 浸酸→全板电镀铜→图形转移→酸性除油→二级逆流漂洗→微蚀→二级浸酸→镀锡→二级逆流漂洗→浸酸→图形电镀铜→二级逆流漂洗→镀镍→二级水洗→浸柠檬酸→镀金→回收→2-3级纯水洗→烘干。 PCB电镀工艺流程说明 一、浸酸 1、作用与目的 除去板面氧化物,活化板面,一般浓度在5%,有的保持在10%左右,主要是防止水分带入造成槽液硫酸含量不稳定; 酸浸时间不宜太长,防止板面氧化; 在使用一段时间后,酸液出现浑浊或铜含量太高时应及时更换,防止污染电镀铜缸和板件表面; 此处应使用C.P级硫酸。 二、全板电镀铜 1、作用与目的: 保护刚刚沉积的薄薄的化学铜,防止化学铜氧化后被酸浸蚀掉,通过电镀将其加后到一定程度; 全板电镀铜相关工艺参数:槽液主要成分有硫酸铜和硫酸,采用高酸低铜配方,保证电镀时板面厚度分布的均匀性和对深孔小孔的深镀能力; 硫酸含量多在180克/升,多者达到240克/升; 硫酸铜含量一般在75克/升左右,另槽液中添加有微量的氯离子,作为辅助光泽剂和铜光剂共同发挥光泽效果; 铜光剂的添加量或开缸量一般在3-5ml/L,铜光剂的添加一般按照千安小时的方法来补充或者根据实际生产板效果; 2、全板电镀的电流计算一般按2A/平方分米乘以板上可电镀面积,对全板电来说,以即板长×板宽×2×2A/DM2;铜缸温度维持在室温状态,一般温度不超过32度,多控制在22度,因此在夏季因温度太高,铜缸建议加装冷却温控系统。 3、工艺维护 每日根据千安小时来及时补充铜光剂,按100-150ml/KAH补充添加; 检查过滤泵是否工作正常,有无漏气现象; 每隔2-3小时应用干净的湿抹布将阴极导电杆擦洗干净; 每周要定期分析铜缸硫酸铜(1次/周),硫酸(1次/周),氯离子(2次/周)含量,并通过霍尔槽试验来调整光剂含量,并及时补充相关原料; 每周要清洗阳极导电杆,槽体两端电接头,及时补充钛篮中的阳极铜球,用低电流0.2-0.5ASD 电解6-8小时; 每月应检查阳极的钛篮袋有无破损,破损者应及时更换; 并检查阳极钛篮底部是否堆积有阳极泥,如有应及时清理干净; 并用碳芯连续过滤6-8小时,同时低电流电解除杂; 每半年左右具体根据槽液污染状况决定是否需要大处理(活性炭粉); 每两周要更换过滤泵的滤芯。 4、详细处理程序 取出阳极,将阳极倒出,清洗阳极表面阳极膜,然后放在包装铜阳极的桶内,用微蚀剂粗化

PCB电镀铜常见问题以及排除方法

PCB电镀铜常见问题以及排除方法 现代电镀网讯: 目前国内电镀越来越先进,光亮镀铜是以硫酸铜和硫酸作为基本成分,引入 适量添加剂或其他光亮剂,使镀液的工艺特性得以改善和提高,并直接获得镜面光亮铜层[1]。其广泛用于装饰性多层电镀中间层及印刷线路板镀铜层,省去机械抛光。但是,生产中有时会出现镀层不亮现象。造成这种情况的因素较多,多样多化在新配镀液时所用的普通硫酸铜、硫酸是不纯的,如工业硫酸的质量分数≥92.5%,含有很多的铁和有机杂质,若不进行处理,电镀时会使镀层不亮。即便是用试剂级硫酸,如果不处理也会出现这种情况,因为硫酸铜或多或少也有杂质。可在尚未添加硫酸之前,在已溶解的硫酸铜溶液中(pH值为4)加入质量分数为30%的H2O21~2mL/L和活性炭0.5~1.0g/L联合处理。利用三价铁的氢氧化物容易沉淀的性质除去铁杂质;加入活性炭吸附,可以同时消除有机杂质的影响。这样开始电镀,就能镀得光亮铜层。 镀液经长期使用所产生的金属杂质和有机杂质将越积越多,显然,该镀液是 不纯的。如果不按工艺要求做定期处理,当铁杂质的质量浓度达到10g/L以上时, 电流效率和镀层亮度明显下降。例如:某厂一镀槽电流开不大,镀层薄而不亮,镀 件边角易烧焦,曾一度无法正常生产。在笔者建议下取样分析,但由于溶液中铁的 质量浓度高,对分析硫酸铜、硫酸终点产生干扰而无法显示数据,于是分析铁离子 竟高达 40g/L。根据观察,镀液颜色浅,在确认镀液中各成分的质量浓度偏低的情况 下,补充40g/L硫酸铜和15g/L硫酸,以降低铁杂质的影响;然后按常规进行处理, 使镀槽恢复了正常,镀出了全光亮铜层。 2.光亮剂消耗 酸性光亮镀铜液中光亮剂的消耗情况与很多因素有关,如工件种类、形状、 表面状态以及镀液中无机、有机杂质和硫酸铜的质量浓度等。特别是Cl-不足, 即便是光亮剂在正常范围内也难以获得整平性好的光亮镀层;当Cl-的质量浓度 过高时,将加快光亮剂的消耗。 长期使用的镀液,一部分光亮剂随着工件的带出和镀层的夹杂作用而消耗掉; 一部分将分解成有机杂质;还有一部分留在镀液中而使光亮剂本身的组分发生变 化。这些情况都有可能影响镀层的光亮性,造成镀层缺陷。在生产中除了按所用 光亮剂的使用说明书使用之外,还要力求准确地掌握光亮剂的消耗情况,并注意 经验的积累和细心的观察,采用少加勤加的办法及时补充光亮剂,以保持光亮剂 在镀液中恒定。 光亮整平性优异,镀层脆性小;允许电流密度高,阴极电流效率高,镀速快;不 含络合剂,氨氮含量甚微,废水处理简单;该工艺已成为无氰镀铜的主流工艺,被

PCB线路板的电镀铜工艺

PCB线路板的电镀铜工艺 一.电镀工艺的分类: 酸性光亮铜电镀电镀镍/金电镀锡 二.工艺流程: 浸酸→全板电镀铜→图形转移→酸性除油→二级逆流漂洗→微蚀→二级→浸酸→镀锡→二级逆流漂洗 逆流漂洗→浸酸→图形电镀铜→二级逆流漂洗→镀镍→二级水洗→浸柠檬酸→镀金→回收→2-3级纯水洗→烘干 三.流程说明: (一)浸酸 ①作用与目的: 除去板面氧化物,活化板面,一般浓度在5%,有的保持在10%左右,主要是防止水分带入造成槽液硫酸含量不稳定; ②酸浸时间不宜太长,防止板面氧化;在使用一段时间后,酸液出现浑浊或铜含量太高时应及时更换,防止污染电镀铜缸和板件表面; ③此处应使用C.P级硫酸; (二)全板电镀铜:又叫一次铜,板电,Panel-plating ①作用与目的: 保护刚刚沉积的薄薄的化学铜,防止化学铜氧化后被酸浸蚀掉,通过电镀将其加后到一定程度 ②全板电镀铜相关工艺参数:槽液主要成分有硫酸铜和硫酸,采用高酸低铜配方,保证电镀时板面厚度分布的均匀性和对深孔小孔的深镀能力;硫酸含量多在180克/升,多者达到240克/升;硫酸铜含量一般在75克/升左右,另槽液中添加有微量的氯离子,作为辅助光泽剂和铜光剂共同发挥光泽效果;铜光剂的添加量或开缸量一般在3-5ml/L,铜光剂的添加一般按照千安小时的方法来补充或者根据实际生产板效果;全板电镀的电流计算一般按2安/平方分米乘以板上可电镀面积,对全板电来说,以即板长dm×板宽dm×2×2A/DM2;铜缸温度维持在室温状态,一般温度不超过32度,多控制在22度,因此在夏季因温度太高,铜缸建议加装冷却温控系统; ③工艺维护: 每日根据千安小时来及时补充铜光剂,按100-150ml/KAH补充添加;检查过滤泵是否工作正常,有无漏气现象;每隔2-3小时应用干净的湿抹布将阴极导电杆擦洗干净;每周要定期分析铜缸硫酸铜(1次/周),硫酸(1次/周),氯离子(2次/周)含量,并通过霍尔槽试验来调整光剂含量,并及时补充相关原料;每周要清洗阳极导电杆,槽体两端电接头,及时补充钛篮中的阳极铜球,用低电流0。2—0。5ASD电解6—8小时;每月应检查阳极的钛篮袋有无破损,破损者应及时更换;并检查阳极钛篮底部是否堆积有阳极泥,如有应及时清理干净;并用碳芯连续过滤6—8小时,同时低电流电解除杂;每半年左右具体根据槽液污染状况决定是否需要大处理(活性炭粉);每两周要更换过滤泵的滤芯; ④大处理程序:A.取出阳极,将阳极倒出,清洗阳极表面阳极膜,然后放在包装铜阳极的桶内,用微蚀剂粗化铜角表面至均匀粉红色即可,水洗冲干后,装入钛篮内,方入酸槽内

PCB印制电路板电镀铜及镍金工艺

PCB印制电路板电镀铜及镍金工艺 现代电镀网讯: 一.电镀工艺的分类: 酸性光亮铜电镀电镀镍/金电镀锡 二.工艺流程: 浸酸→全板电镀铜→图形转移→酸性除油→二级逆流漂洗→微蚀→二级 →浸酸→镀锡→二级逆流漂洗 逆流漂洗→浸酸→图形电镀铜→二级逆流漂洗 →镀镍→二级水洗→浸柠檬酸→镀金→回收→2-3级纯水洗→烘干 三.流程说明: (一)浸酸 ①作用与目的: 除去板面氧化物,活化板面,一般浓度在5%,有的保持在10%左右,主要是防止水分带入造成槽液硫酸含量不稳定; ②酸浸时间不宜太长,防止板面氧化;在使用一段时间后,酸液出现浑浊或铜含量太高时应及时更换,防止污染电镀铜缸和板件表面; ③此处应使用C.P级硫酸; (二)全板电镀铜:又叫一次铜,板电,Panel-plating①作用与目的:保护刚刚沉积的薄薄的化学铜,防止化学铜氧化后被酸浸蚀掉,通过电镀将其加后到一定程度 ②全板电镀铜相关工艺参数:槽液主要成分有硫酸铜和硫酸,采用高酸低铜配方,保证电镀时板面厚度分布的均匀性和对深孔小孔的深镀能力;硫酸含量多在180克 /升,多者达到240克/升;硫酸铜含量一般在75克/升左右,另槽液中添加有微量的氯离子,作为辅助光泽剂和铜光剂共同发挥光泽效果;铜光剂的添加量或开缸量一般在3-5ml/L,铜光剂的添加一般按照千安小时的方法来补充或者根据实际生产板效果;全板电镀的电流计算一般按2安/平方分米乘以板上可电镀面积,对全板电来说,以即板长dm×板宽dm×2×2A/ DM2;铜缸温度维持在室温状态,一般温度不超过32度,多控制在22度,因此在夏季因温度太高,铜缸建议加装冷却温控系统; ③工艺维护: 每日根据千安小时来及时补充铜光剂,按100-150ml/KAH补充添加;检查过滤泵是否工作正常,有无漏气现象;每隔2-3小时应用干净的湿抹布将阴极导电杆擦洗干净;每周要定期分析铜缸硫酸铜(1次/周),硫酸(1次/周),氯离子(2次/周)含量,并通过霍尔槽试验来调整光剂含量,并及时补充相关原料;每周要清洗阳极导电杆,槽体两端电接头,及时补充钛篮中的阳极铜球,

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