最新北京大学透射电镜F20与F30-操作流程详细步骤整理--邓玉豪-1220
精品文档
精品文档北京大学透射电镜F20与F30 操作流程详细步骤整理
一．登陆检查
1.登陆账户用户名和密码。
2.检查之前的实验记录本，有异常请汇报。
3.检查电镜状态，CCD是开的（绿灯亮），左边屏幕三
个窗口，右边屏幕一个窗口。打开左边屏幕窗口
vacuum overview，菜单内GUN=1，COLUMN=6-12，
CAMERA<40。GUN\COLUMN\ CAMERA背景为浅绿色，
COL VALVES COLSED为黄色，其他的灰色。电压300KV，
OPERATE为黄色，EXTRACTION
VOLTAGE=38000-45000V，电流为30-155uA。如果
COLUMN<30，加液氮。盖好黑色挡板，操作台上弄好
毛巾。等待10分钟再操作电镜。
二．样品插入
1.检查COL VALVES COLSED（黄色）是关闭的，Turbo on
为灰色，将样品杆位置归零（Search-stage-holder）。
加液氮，液氮一般使用时间3—4小时。
2.样品杆正面是平的，注意用销子固定好。装样品时将
微栅正面朝下放置。然后盖上固定夹子。旋转180度
到背面，轻敲样品杆，确认样品牢固不掉。切忌不要
触碰黄色金属部分！
3.确认COLUMN<12，样品杆位置归零。确认红色指示
灯不亮。分子泵是关着的。首先接通电缆插座，然后
点击电脑相应的驱动，先回答问题。然后将限位针对
准CLOSE标线插入，插不动了停止，红灯亮，分子泵
开。打开抽真空示意图→Vacuum Overview，开始抽真
空，两个3min。插入过程中切忌转动样品杆。红灯亮
时不可以插拔样品杆。
4.红灯熄灭后，立即绕轴逆时针旋转至OPEN线，让销
钉对准小孔，插入样品杆至最里面。确保到位。三．样品观察
1.将上下联通，SETUP-COLUMN真空<12，开启COL
VALVES，如果储气罐满了，会先抽储气罐应该可以观
察到束斑了。关灯。
2.聚光镜对中和消色散：左边屏幕进入stigmater，按
condenser，用左右多功能钮，将光斑调圆，按象散键，
退出调整。用INTENSITY汇聚光斑，将其平移到荧光
屏中心。按BRIGHTNESS顺时针转散电子束，用聚光
镜前、左旋钮对中，同心圆。反复操作这一步骤。（调
整光斑大小，最后观察得到一个同心圆。）
3.粗调样品高度，先找到需要观察的样品，在10K以上放
大倍数，用INTENSITY调节照明，到样品最透明为止。
放入小聚焦荧光屏，插入针头调节目镜，聚焦钮汇聚，2-8万倍聚焦（正交）步长为3-4，10万以上步长为1-2。
记录DEFOC的数值，在SETUP-SEARCH-STAGE-SET，Z值中填写DEFOC的数值，点击GOTO，再按EUCENTRIC HIGH FOCUS。找到样品记录位置，以免丢失。
4.拍照时的注意事项：插入CCD时，小心腿不要碰到
CCD。光斑要大，如果聚焦太小，光太强容易损坏CCD。
不用的时候一定要关闭。拍照倍数要在M模式下，不
要在LM下。不用CCD时，一定关闭CCD。L2翻起。
其中F20的CCD可以进行视频录制。
5.踩带轴：（1）、2，6合轴，调焦。（2）、86000X，
找到薄区且带有特点易记的区域（踩带轴过程中样品
会动，这样便于识别出自己感兴趣的区域）。（3）、
将光斑汇聚到一点。（4）、按diffraction，寻找菊池
线。菊池线汇聚的焦点一般为一正带轴，菊池线汇聚
数目越多，晶带指数越低。再按diffraction，散开光
斑。用左键盘左上角四个按钮调节样品位置，不断按
diffraction查看带轴是否踩正。不断调节，直至踩正，
踩正后的衍射斑点中心在屏幕中心小黑点处，并且周
围斑点亮度应对称。
6.物镜象散调节（看高分辨的时候需要调节好象散）：
找到样品的非晶区域，放大到500Kx，用CCD采集显
微像，打开实时FFT，调节聚焦观察圆斑变化，打开
stigmater菜单，按OBJECTIVE。用多功能钮调整成圆
形，再调节聚焦，观察是否为圆形。关闭象散窗口。
象散需要在高分辨倍数调节，例如500Kx。
7.衍射图像：选区衍射的面积约200nm，如果过小的样
品或者小的晶体混在一起难以做出好的选取衍射图
案。（移出选区光阑，选区光阑3为800nm，选区光
阑4为200nm。）选定感兴趣的区域，调整高度和聚
焦，放大倍数在100Kx左右（加入选区光阑），用
INTENSITY散开电子，按DIFFRACTION，得到衍射花
样，调节INTENSITY观察方向。调节AB将衍射花样调
整到中心（左上角A增大，左下角B增大）。电子衍
A+ B+
精品文档
精品文档
射拍照需要找老师！衍射光太强，很容易损坏CCD ，要特别注意！再按一次DIFFRACTION 。再按DIFFRACTION 退出衍射模式。（移出选区光阑）。 8. 高分辨图像： （1）选样品，首先样品要薄，最好样品在微栅孔中间悬空样品，碳膜上高分辨会有很严重的衬底，高分辨不清晰。选好样品点击Add 记录样品位置，F20点击tracks 还可以记录移动的位置防止在重复位置找样品。 （2）先观察光斑园否？不圆需要先进行聚光镜消象散！再调Z 轴，首先粗调，在一定步长下调节样品至最透明状态（聚焦），记录此时的DEFOC 值，在 SETUP-SEARCH-STAGE-SET ，Z 值中填写DEFOC 的数值（F20电镜需要绝对值加10—15），点击GOTO 到相应的Z 坐标位置，再按EUCENTRIC HIGH FOCUS 基于此时的Z 值左边进行聚焦校正。再到高倍下调节，如果DEFOC 值再变化，记下此时的DEFOC 值再加上原来的Z 值，再输入到其中，点击GOTO 到相应的Z 坐标位置，再按EUCENTRIC HIGH FOCUS 基于此时的Z 值坐标进行聚焦校正。直到高倍下最佳聚焦状态DEFOC 值在+-5上下波动，越靠近0电镜性能越好。 （3）对于纳米线等需要调取向需要先将衍射斑点调对称，晶带轴与电子束平行；如果是纳米颗粒等可以多找几个样品，找最好的。然后在放大倍数在500Kx 左右，按L2打开挡板，打开CCD ，可以观察高分辨像。打开live-FET ，按stigmater （小灯变红），再调节X\Y 以调节物镜象散，live-FET 环与斑一定要调很圆，然后在高倍下细调聚焦，直到出现非常清晰
的高分辨条纹（利用多功能键XY 调象散，先使用一个键调节直到环相对最好状态，再用另一个调到最好）。对于在晶相很好的区域，会出现点而无园斑，此时可以调节欠焦状态出现园斑，调节象散。在CCD 开得时候，不要调节放大倍数。请关闭CCD ，切换到荧光屏模式下调节。 四． 样品EDX 1、将A 调整到15-18度，找到要测的样品，1.7万倍
左右，调整到聚焦位置，调节高度Z ，按EUCENTRIC
HIGH FOCUS 。可以用小荧光屏观察。（对于F20，不
使用纳米模式进行观察，直接在明场下进行EDX ，F30
也可以使用明场采谱）（纳米模式：按R2，切换到
纳米模式，位置会有一些漂移，找到样品。）根据样
品大小厚度选择SPOT SIZE=6-9（SPOT SIZE 越大光强越弱），样品厚度不可以太厚，否则太强会容易爆表。 2、然后点IN 加入探测器。点ANAYLISIS 中的VIEW 示数要小于40，如果大于，请增大SPOT SIZE 知道满足条件。满足后，ACQURIE 采谱。超过1000停止，存储即可，点out 。（退出纳米模式。） 3、如果是线扫描步骤如下：将A 调整到15-18度，找到要测的样品，1.7万倍左右，调整到正交位置，
调节高度Z ，按EUCENTRIC HIGH FOCUS 。然后在菜单里打开STEM ，如果没开在下面点击TIA ，点击STEM ，spotsize 如果是50纳米用7，如果是200纳米的用9。倍数在两万左右，在点击INSHAADF 。然后按SEARCH ，，插入RTEM ，点击IN ，再按FOCUS 对焦，在SEARCH ，然后放大合适的倍数。然后STEM 中的acquire 。在anaysis 里面的expei 点击第一条的第二个，右拉菜单选择数据点的量。然后拉线。点击一下VIEW ，然后在STEM acquire 一下，确认没有跑掉。然后EXP 中的acquire 。结束的时候先out ，再点击INSHAADF ，最后STEM 。数据分析，右键增加边框，元素分析，PROCESS extra map,右边点击一下。 五． 样品取出 1. 将倍数调整到1-2万倍，将电子束调整到中心。 2. 关闭COL VALVES COLSED ，变成黄色（上面有红色框）。将样品杆位置归零（Search-stage-holder ）。向外拔样品杆，到了限位孔位置，顺时针旋转
向外拔出样品杆。拔下样品杆插头。 六． 结束检查 1. 填写实验记录本，退出登录即可。加满液氮，关灯。 2. 晚上最后一个做TEM ，待做完之后需要做真空循环，在Setup-Vacuum(User)-CRYO 栏目，点击CRYO CYCLE 即可。将杜瓦瓶中的剩余液氮回收。
F20注意事项：先插样品杆，再连接通电缆插座；转角 时A 正负30度，B 正负25度。200倍以下与200倍以上光路不同，位置会移动。高分辨首先一定要调好象散以及Z 轴高度，并且晶带轴与倾仰角也要调好！ 其中F20的CCD 可以进行视频录制，相关操作找张老师培训，不过视频原始文件很大，需要剪切回去，否则太占电
脑存储。
透射电镜样品制备方法
透射电镜样品制备方法 由于电子束穿透能力限制，必须把标本切成厚度小于0.1um以下的薄片才适用，这种薄片称为超薄切片。常用的超薄切片厚度是50-70nm。 在透射电镜的样品制备方法中，超薄切片技术是最基本、最常用的制备技术。超薄切片的制作过程基本上和石蜡切片相似，需要经过取材、固定、脱水、渗透、包埋聚合、切片及染色等步骤。 一．取材的基本要求 组织从生物活体取下后，如果不立即进行适当处理，会由于细胞内部的各种酶作用，出现细胞自溶现象。此外还可能由于污染，微生物在组织内繁殖使细胞的微细结构遭受破坏，因此，为了细胞结构尽可能保持天然状态，必须做到快、小、准、冷。 （1）动作迅速，组织从活体取下后应在最短的时间内（争取1分钟内）投入2.5%戊二醛固定液。 （2）所取组织的体积要小，一般不超过1mm*1mm*1mm。也可将组织修成1mm*1mm*2mm大小长条形。因为固定剂的渗 透能力较弱，组织块如果太大，块的内部将不能得到良好的 固定。 （3）机械损伤要小，解剖器械应锋利，操作宜轻，避免牵拉、挫伤与挤压。 （4）操作最好在低温（0℃~4℃）下进行，以降低酶的活性，防
止细胞自溶。 （5）取材部位要准确。 二．取材方法 将取出的组织放在洁净的蜡版上，滴一滴预冷的固定液，用新的、锋利的刀片将组织切下并修小，然后用牙签或者镊子将组织块移至盛有冷的固定液的1.5ml离心管中。如果组织块带有较多的血液和组织液，应先用PBS洗几遍，然后切成小块固定。 1.动物及人体组织的取材（在冰浴上进行） 动物组织的取材，应麻醉（1%戊巴比铵5ml/kg体重腹腔注射）或断头急性处死，解剖出所需器官，用解剖剪刀剪取一 小块组织，放在干净的纸板上，滴一滴冷却的固定液，用新的、无油污的锋利双面刀片将材料切成大约1mm宽，2~3mm长的 小块并从中选出受损伤较小的小条，再将其切成1mm3的小块，最后用牙签将这些小块逐一放入盛有预冷的、新鲜固定液的 1.5ml管内，放入冰箱冷藏室低温固定（0~4℃）2-4小时或以 上。 *固定结束后，将固定液用PBS稀释三倍，样品于该溶液中在4℃冰箱保存。送样前请用PBS浸泡清洗3次，贴好标签 送至电镜室。 2.体外培养细胞的取材（在冰浴上进行） 培养在培养瓶中的细胞取材时，先倒出部分培养液，然后用刮刀轻轻刮下瓶壁上的细胞，将细胞悬液转移到离心管中，
透射电镜实验报告
透射电镜实验报告 实验报告 课程名称电镜技术成绩姓名学号实验日期 2013.3.27 实验名称透射电子显微镜原理、结构、性能及成像方指导教师 式 一、实验目的与任务 1. 初步了解透射电镜操作过程 2. 初步掌握样品的制样方法(主要是装样过程) 3.拍摄多晶金晶体的低分辨率照片(<300000倍)和高分辨率照片(>300000 倍)，并对相关几何参数、形态给予描述。用能谱分析仪对样品的成分进行分析。 二、实验基本原理 1.仪器原理 透射电子显微镜是以图像方式提供样品的检测结果，其成像的决定因素是样品对入射电子的散射，包括弹性散射和非弹性散射两个过程。样品成像时，未经散射的电子构成背景，而像的衬底取决于样品各部分对电子的不同散射特性。采用不同的实验条件可以得到不同的衬底像，透射电子显微镜不仅能显示样品显微组织的形貌，而且可以利用电子衍射效应同样获得样品晶体学信息。本次实验将演示透射电镜的透射成像方式和衍射成像方式。 (1)成像方式 电子束通过样品进入物镜，在其像面形成第一电子像，中间镜将该像放大，成像在自己的像面上，投影镜再将中间镜的像放大，在荧光屏上形成最终像。 (2)衍射方式
如果样品是晶体，它的电子衍射花样呈现在物镜后焦面上，改变中间镜电流，使其对物镜后焦面成像，该面上的电子衍射花样经中间镜和投影镜放大，在荧光屏上获得电子衍射花样的放大像。 2.仪器结构 主机主要由:照明系统、样品室、放大系统、记录系统四大部分构成。 3.透射电子显微镜的样品制备技术 4.图像观察拍照技术 透射电镜以图像提供实验结果。在观察样品之前对电子光学系统进行调查，包括电子枪及象散的消除。使仪器处于良好状态。观察过程中选合适的加速电压和电流。明场、暗场像及选区电子衍射的观察和操作方法不同，应按况选择。三、实验方法与步骤 1( 登陆计算机 2( 打开操作软件 3( 检查电镜状态 4( 装载样品 5( 插入样品杆 6( 加灯丝电流 7( 开始操作 8( 结束操作 9( 取出样品杆 10( 卸载样品 11( 刻录数据 12( 关闭操作软件 13( 退出计算机
透射电镜的样品制备方法详解
透射电镜的样品制备 透射电镜的样品制备是一项较复杂的技术，它对能否得到好的ＴＥＭ像或衍射谱是至关重要的．投射电镜是利用样品对如射电子的散射能力的差异而形成衬度的，这要求制备出对电子束＂透明＂的样品，并要求保持高的分辨率和不失真．电子束穿透固体样品的能力主要取决加速电压，样品的厚度以及物质的原子序数．一般来说，加速电压愈高，原子序数愈低，电子束可穿透的样品厚度就愈大．对于１００～２００ＫＶ的透射电镜，要求样品的厚度为５０～１００ｎｍ，做透射电镜高分辨率，样品厚度要求约１５ｎｍ（越薄越好）． 透射电镜样品可分为：粉末样品，薄膜样品，金属试样的表面复型．不同的样品有不同的制备手段，下面分别介绍各种样品的制备． （１）粉末样品因为透射电镜样品的厚度一般要求在１００ｎｍ以下，如果样品厚于１００ｎｍ，则先要用研钵把样品的尺寸磨到１００ｎｍ以下，然后将粉末样品溶解在无水乙醇中，用超声分散的方法将样品尽量分散，然后用支持网捞起即可． （２）薄膜样品绝大多数的ＴＥＭ样品是薄膜样品，薄膜样品可做静态观察，如金相组织；析出相形态；分布，结构及与基体取向关系，错位类型，分布，密度等；也可以做动态原位观察，如相变，形变，位错运动及其相互作用．制备薄膜样品分四个步骤： ａ将样品切成薄片（厚度１００～２００微米），对韧性材料（如金属），用线锯将样品割成小于２００微米的薄片；对脆性材料（如Ｓｉ，ＧａＡｓ，ＮａＣｌ，ＭｇＯ）可以刀将其解理或用金刚石圆盘锯将其切割，或用超薄切片法直
接切割． ｂ切割成φ３ｍｍ的圆片用超声钻或ｐｕｎｃｈｅｒ将φ３ｍｍ薄圆片从材料薄片上切下来． ｃ预减薄使用凹坑减薄仪可将薄圆片磨至１０μｍ厚．用研磨机磨（或使用砂纸），可磨至几十μｍ． ｄ终减薄对于导电的样品如金属，采用电解抛光减薄，这方法速度快，没有机械损伤，但可能改变样品表面的电子状态，使用的化学试剂可能对身体有害．对非导电的样品如陶瓷，采用离子减薄，用离子轰击样品表面，使样品材料溅射出来，以达到减薄的目的．离子减薄要调整电压，角度，选用适合的参数，选得好，减薄速度快．离子减薄会产生热，使样品温度升至１００～３００度，故最好用液氮冷却样品．样品冷却对不耐高温的材料是非常重要的，否则材料会发生相变，样品冷却还可以减少污染和表面损伤．离子减薄是一种普适的减薄方法，可用于陶瓷，复合物，半导体，合金，界面样品，甚至纤维和粉末样品也可以离子减薄（把他们用树脂拌合后，装入φ３ｍｍ金属管，切片后，再离子减薄）．也可以聚集离子术（ＦＩＢ）对指定区域做离子减薄，但ＦＩＢ很贵．对于软的生物和高分子样品，可用超薄切片方法将样品切成小于１００ｎｍ的薄膜．这种技术的特点是样品不会改变，缺点是会引进形变．（３）金属试样的表面复型即把准备观察的试样的表面形貌（表面显微组织浮凸）用适宜的非晶薄膜复制下来，然后对这个复制膜（叫做复型）进行透射电镜观察与分析．复型适用于金相组织，断口形貌，形变条纹，磨损表面，第二相形态及分布，萃取和结构分析等． 制备复型的材料本身必须是＂无结构＂的，即要求复型材料在高倍成像时也
HITACHI H-7650 透射电镜操作规程
HITACHI H-7650 透射电镜操作规程编号: QW148 样品准备及要求: 1.般生物样品在观察前须制成超薄切片，并且要充分晚干，切片后室温放置1天左右 2.严禁观察磁性样品。， 操作步骤: 一、开机顺序 1.开墙上主机电源电源的开关，开启冷却循环水: 2.开启主机钥匙从OFF到EVC;等1分钟或30分钟后再将钥匙转到Column; 3.仪器自动进入操作软件。 二、样品安装 A: 取样品步骤: 1.关掉灯丝电压; 2.将样品杆拔出一小段距离; 3.顺时针旋转样品杆15度; 4.将样品杆拔出一大段距离; 5.逆时针旋转45度: 6.将真空开关从EVAC拨到AIR; 7.AIR红灯从亮到灭后水平取出样品杆。 B:装样品步骤: 1.在样品杆架上安装好样品于样品杆上; 2.平行将样品杆装入镜筒到AIR灯亮起; 3.将真空开关从AIR拨到EVAC; 4等到EVAC绿灯亮起; 5在EVAC绿灯亮起的30秒内(若超过30秒绿灯会自动熄灭，此时应再次将EVAC 拨到AIR再拨到EVAC,这时EVAC绿灯会再次亮起); 6.将样品杆顺时针转动45度: 7.将样品杆“送进”一大段距离; 8.逆时针旋转样品杆15度; 9.慢慢送入整个样品杆; 三、图像观察 1.通过Stage X、γ旋钮选择想要观察的区域; 2.通过Mag旋钮进一步增大放大倍数;同时需要通过Brightness调整光斑亮度; 3.若光斑不再中心需通过BH旋钮随时将光斑拉致荧光屏中心; 4.使用Focus旋钮将图像调整清晰;用CCD进行拍照存储图像或者通过底片存储图像。 四、数据的存储刻录 1.数据只能用新光盘(非可擦写光盘)刻录，刻录数据应由仪器管理人员操作，严禁用移动硬盘、u盘等从电脑上拷贝数据(出于系统安全考虑); 2.电脑上的数据会定期清理(一般一个月)，请及时拷贝备份。
2012_02_26100958_JEM-200CX 透射电镜使用说明
JEM-200CX透射电镜使用说明 操作要点 1.双倾台严格使用φ3mm样品。 2.改变操作电压、更换样品时，应使灯丝束流降至OFF。 3.更换灯丝时，除特殊情况外，应两人以上在场，并尽量缩短安装时间。 4.每个操作者应为下一个操作者至少留10张未曝光底片，并保证予抽室中有待用底片；更换底片盒和装卸底片时必须带手套。 5.上机者不得随便更换束斑尺寸，不能变动B操作盘最右端旋钮；注意勿动各TILT钮；不许触动下列键： VACUUM SYSTEM下GUN 和COLUMN，EMERGENCY STOP，操作盘G中GUN LIFT。 6.更换灯丝后必须进行对中，以保证仪器处于良好的使用状态 7.注意察看循环水流量。 8.详细填写工作记录，仪器出现故障要及时报告负责人。 9.使用空调机保持进气口过滤板的清洁。 操作规程 一、开机程序 1.确认下列开关和部位在正常位置： ●READY 绿灯亮 ●AIRLOCK OPEN 绿灯亮 ●ACCELERATING VOLTAGE：HT--- OFF ●FILAMENT EMISSION： OFF ●物镜光栏位置---0 ●选区光栏位置---0
●样品台倾转角---0 2.开机： ●开启冷却水循环装置； ●启动稳压电源，稳定于220V；查看电源箱供电指示灯亮； ●用钥匙启动主机：从OFF位快旋到START位，松手后钥匙自动回至ON位。等待约20分钟，仪器自动抽空（表现为：面板灯亮--压缩机工作--机械泵工作--水循环开始--真空系统DP绿灯亮--真空系统HIGH绿灯亮、READY绿灯亮）。 二、找电子束 1.确认READY和AIRLOCK OPEN绿灯亮； 2.样品台已插入镜筒； 3.加高压：按下HT键后，80－100－120－160－200KV依次缓慢按键，并注意观察束流表指示是否正常，200KV下束流在95～115μA。 4.加灯丝：将FILAMENT EMISSION 钮慢旋至锁定位置。 在LOW MAG或MAG＜1万倍下，调节大小CONDENSER钮，得到光斑。（若无光，则移动样品或样品台退出光路后找亮）。 5.用CONDENSER钮将光斑大小改变，若光斑偏离荧光屏中心， 6.用左右ALIGNMENT：TRANS将光斑拉回 三、聚光镜光栏（一般不动） 1.确认电子束流已聚于屏中心（无样品挡光）； 2.SCAN模式下，将聚光镜光栏顺旋插入（常用2号）； 3.用CONDENSER改变光斑大小，调节聚光镜光栏小旋钮，使光以屏中心同心扩展、收缩，即得同心圆。 四、1－3合轴（一般勿调） 1.SPOT SIZE 2，调出亮斑并会聚、移至屏中心。 2.MAG模式，＜1万倍, SPOT SIZE 1。
TEM_透射电镜习题答案与总结
电子背散射衍射：当入射电子束在晶体样品中产生散射时，在晶体向空间所有方向发射散射电子波。如果这些散射电子波河晶体中某一晶面之间恰好符合布拉格衍射条件将发生衍射，这就是电子背散射衍射。 二、简答 1、透射电镜主要由几大系统构成? 各系统之间关系如何? 答：三大系统:电子光学系统,真空系统,供电系统。 其中电子光学系统是其核心。其他系统为辅助系统。 2、照明系统的作用是什么？它应满足什么要求？ 答：照明系统由电子枪、聚光镜和相应的平移对中、倾斜调节装置组成。它的作用是提供一束亮度高、照明孔经角小、平行度好、束流稳定的照明源。它应满足明场和暗场成像需求。 3、成像系统的主要构成及其特点、作用是什么？ 答：主要由物镜、物镜光栏、选区光栏、中间镜和投影镜组成. 1）物镜：强励磁短焦透镜（f=1-3mm）,放大倍数100—300倍。 作用：形成第一幅放大像 2）物镜光栏：装在物镜背焦面，直径20—120um，无磁金属制成。 作用：a.提高像衬度，b.减小孔经角，从而减小像差。C.进行暗场成像3）选区光栏：装在物镜像平面上，直径20-400um， 作用：对样品进行微区衍射分析。 4）中间镜：弱压短透镜，长焦，放大倍数可调节0—20倍 作用a.控制电镜总放大倍数。B.成像/衍射模式选择。 5）投影镜：短焦、强磁透镜，进一步放大中间镜的像。投影镜孔径较小，使电子束进入投影镜孔径角很小。 小孔径角有两个特点： a.景深大，改变中间镜放大倍数，使总倍数变化大，也不影响图象清晰度。 焦深长，放宽对荧光屏和底片平面严格位置要求。 4、分别说明成像操作与衍射操作时各级透镜（像平面与物平面）之间的相对位置关系，并 画出光路图。 答：如果把中间镜的物平面和物镜的像平面重合，则在荧光屏上得到一幅放大像，这就是电子显微镜中的成像操作，如图（a）所示。如果把中间镜的物平面和物镜的后焦面重合，则在荧光屏上得到一幅电子衍射花样，这就是电子显微镜中的电子衍射操作，如图（b）所示。
透射实验报告参考内容
实验3——TEM结构及组织观察 一、实验内容（5’） 1 学习透射电子显微镜的工作原理及基本结构 2 熟悉塑料-碳二级复型及金属薄膜的制备方法 3 学会分析典型组织的图像 二、实验目的及要求（5’） 1 熟悉透射电子显微镜的结构与工作原理 2 熟悉塑料-碳二级复型及金属薄膜的制备方法 3 了解透射电子显微镜的操作规程 4学会分析典型组织的图像 三、实验仪器设备（5’） 1 透射电子显微镜（型号：） 2 离子减薄仪，电火花切割机 3 真空镀碳膜仪，AC纸 4 超声波清洗仪，电吹风 5 试样 四、实验原理（10’） 透射电子显微镜是以短波长的电子束为照明源，用电磁透镜成像，并与特定的机械装置、电子和高真空技术相结合所构成的现代化大型精密电子光学仪器。 (一)透射电子显微镜的原理和特点 透射电子显微镜简称透射电镜，是一种电子束透过样品而直接成像的电镜。使用短波长的入射电子束与样品作用后产生的透射电子(主要是散射电子)为信号，通过电磁透镜将其聚焦成像，并经过多级放大后，在荧光屏上显示出反映结构信息的电子图像。 透射电镜的特点是分辨率高，已接近或达到仪器的理论极限分辨率(点分辨率0．2～0．3nm，晶格分辨率0．1～0．2 nm)；放大倍率高，变换范围大，可从几百倍到数十万倍(最高已达80万倍)；图像为二维结构平面图像，可以观
察非常薄的样品(样品厚度为50 nm左右)；样品制备的超薄切片为主，操作比较复杂。透射电镜适用于样品内部显微结构及样品外形(状)的观察，也可进行纳米样品粒径大小的测定。 （二）透射电子显微镜的结构及作用 尽管近年来商品电镜的型号繁多，高性能多用途的透射电镜不断出现，但总体说来，透射电镜一般由电子光学系统、真空系统、电源及控制系统三大部分组成。此外，还包括一些附加的仪器和部件、软件等。 （1）电子光学系统：此系统包括电子枪，即电子发射源。电子枪系由阴极、栅极、阳极3个电极组成的静电系统，经50～120 KV的电压加速，成为高速电子流投向聚光镜。聚光镜的作用是将电子枪中射出的电子束聚焦，以最小的损耗递送到样品上。样品室的作用是承载样品。样品室还有一个气锁装置，使在更换样品后数秒钟内即可恢复至正常工作的真空状态。物镜是电镜的关键部件，它决定了电镜的分辨能力，对成像的质量起决定性作用。此外还有中间镜，结构和物镜类似，作用是将经物镜放大的电子像再作二级放大。位于中间镜之下的投影镜，是一个高倍率强透镜。此外就是成像的荧光屏和观察室以及照相装置。 （2）真空系统：电镜的镜筒空间部分是电子束的通道，不许有任何游离的气体存在，工作时必须要保持绝对真空。真空系统通常包括机械泵、空气过滤器、油扩散泵及排气管道等部件。 （3）供电系统：高性能的电镜供电系统包括安全系统、总调压器、真空电源、透镜电源、高压电源及辅助电源系统。 （4）为保证电镜正常工作，要求电子光学系统应处于真空状态下。电镜的真空度一般应保持在10-5Torr(1Torr=133.322Pa)，这需要机械泵和油扩散泵两级串联才能得到保证。目前的透射电镜增加一个离子泵以提高真空度，真空度可高达1．33×10-6Pa或更高。 （三）透射电镜试样制备 1 表面复型法：该法是用碳、硅或火棉胶液的薄膜将标本的表面拓印下来，再在透射电镜观察印在薄膜上的精细结构。可采用塑料和碳复型等方式。
(精品)JEM2100透射电镜简易操作说明
JEM-2100 操作说明 一、合轴操作 1．照明系统合轴 （1）.找亮：当打开灯丝，并且灯丝电流发射之后，应该在荧光屏上找到电子束，若打开灯丝后没有发现电子束，请进行以下操作：将放大倍数降低到10K左右，移动轨迹球，撤除所有光阑，基本上以上操作可以解决大多数没亮的情况 若仍然找不到亮，则需调整GUN TILT进行找亮 当然，也可以在用户模式下直接对GUN进行清零操作NTRL！正常情况下就能找到电子束了。
(2)灯丝像调节:放大倍数为X40K，将光斑用beam shift移动到屏幕中心，慢慢降 低灯丝电流，并且用BRIGHTNESS旋钮将光斑聚到最小，随着灯丝电流下降，可以观察到灯丝像出现。 如图所示标准的六硼化阑灯丝像是均匀对称的四瓣花型的，若发现花瓣不对称，说明灯丝偏了，需要用GUN TILT调节到对称即可。调节完毕后将灯丝电流升高到正常数值，即稍能看到一点灯丝像阴影。 （3）1、5合轴：将束斑调到SPOTSIZE 5，用beam shift 将束斑移动至屏幕中间，切换至SPOTSIZE 1 ，用gun shift将偏移的束斑移动至屏幕中间，重复此过程直到当切换SPOTSIZE1到5时束斑基本上不发生偏移即可。 （4）聚光镜消象散：观察各个束斑形状，如果发现束斑形状椭圆，则用CONDSTIG 键将束斑调圆即可。 （5）加聚光镜光阑：聚光镜光阑红点位置表示退出，其余的点的大小表示当前所加入的光阑孔大小，顺时针加入光阑至合适的孔径，一般用1号或2号光阑孔，加完后用beam shift 将光斑移动至屏幕中心，这时顺时针转动BRIGHTNESS将光斑放大到与屏幕同大，若光阑没有加正，则光斑不是均匀覆盖屏幕，即光斑补随BRIGHTNESS同心放大，此时调节光阑前端和右侧的两个旋钮使光斑圆心与屏幕同心即可。
电镜切片样品制作步骤
扫描电镜样品的准备 A悬浮培养的细胞、细菌、血细胞、精子等； 细胞使用PBS或无血清培养基离心漂洗1~2次以去除血清，离心转速依据不同离心机、不同样品自定，总时间控制在5min内；细胞团根据预设浓度在适量 2.5%戊二醛吹悬，滴加在预先置入青霉素小瓶中的托盘，4℃静置沉降2~3天，在托盘周围加入PBS，以防止样品干燥。 B贴壁培养的细胞： 在培养皿中预先加入盖玻片，使细胞贴附于盖玻片上；PBS或无需请培养基漂洗后，放置在培养板室温固定1h，4℃3 h，注意放置干燥，自行转入青霉素小瓶中，加满PBS送检。 SEM标本处理必须使用玻璃容器，需明确所用盖玻片尺寸可以放入青霉素瓶。 C组织取材 样品观察表面可达8~10mm2,高度小于5mm左右； 样品表面在固定前必须清洁： 使用生理盐水或PBS冲洗掉表面的灰尘以及不需要观察的蛋白、粘液等。能够明确标识标本的观察面。消化道、呼吸道、血管、生殖器官、泌尿等官腔内表面，尤其要注意先清洗再固定。 如需要观察脏器内结构，应依照不同的实验目的，决定目的脏器是否需要灌注清洗；固定 2.5%戊二醛浸没标本，室温1h，4℃固定3h以上，换PBS送检。 附： 2.5%戊二醛的配制
Step 1: 0.2M磷酸缓冲液的配制：--------------------- 磷酸二氢钠（NaH2PO 4.H2O） 2.6xx 磷酸氢二钠(Na2HPO 4.12H2O)29xx 双蒸馏水加至500毫升pH调至 7.4 Step 2: 戊二醛固定液的配制： --------------------- 25%戊二醛1ml 双蒸馏水4ml 0.2mol/L磷酸缓冲液5ml 戊二醛最终浓度 2.5% pH值 7.3-
肾穿刺活检术操作规程
肾穿刺活检术操作规程 一、病例选择： 为明确诊断，指导治疗或判断预后，而又无穿刺禁忌证时，内科各种原发、继发及遗传性肾实质疾病（尤其是弥漫性病变）皆可肾穿刺。 ⑴原发性肾脏疾病： ①急性肾炎综合征，肾功能急剧坏转、疑急进性肾炎时，应尽早穿刺；按 急性肾炎治疗2?3月病情无好转应做肾穿。 ②原发性肾病综合征，先治疗，激素规则治疗8周无效时肾穿刺；或先 穿刺，根据病理类型有区别的治疗。 ③无症状性血尿，变形红细胞血尿临床诊断不清时，无症状性蛋白尿， 蛋白尿持续＞1g/d诊断不清时应做肾穿刺检查。 ⑵继发性或遗传性肾脏病：临床怀疑无法确诊时，临床已确诊，但肾脏病理资料对指导治疗或判断预后有重要意义时应做肾穿刺。 ⑶急性肾功能衰竭：临床及实验室检查无法确定其病因时应及时穿刺（包括慢性肾脏病人肾功能急剧坏转）。 ⑷移植肾：①肾功能明显减退原因不清时，②严重排异反应决定是否切除移植肾；③怀疑原有肾脏病在移植肾中复发。 禁忌症 ⑴绝对禁忌证：①明显出血倾向，②重度高血压，③精神病或不配合操作者，④孤立肾，⑤小肾。 ⑵相对禁忌证：①活动性肾盂肾炎、肾结核、肾盂积水或积脓，肾脓肿或肾周围脓肿。②肾肿瘤或肾动脉瘤。③多囊肾或肾脏大囊肿。④肾脏位置过高（深吸气肾下极也不达十二肋下）或游走肾。⑤慢性肾功能衰竭。⑥ 过度肥胖。⑦重度腹水。⑧心功能衰竭、严重贫血、低血容量、妊娠或年迈者。 风险评估 1. 孤立肾 无论是先天还是后天的孤立肾。目前多数人观点不宜行肾活检检查，因为一旦出现 较严重的并发症，会导致患者失去唯一肾脏而对无对侧肾脏代偿。 2. 明显出血倾向
无论是何种原因导致的出血倾向，均不宜行肾穿刺检查，必须纠正后实施。 3. 重度高血压高血压可明显增加患者穿刺后出血风险，延长出血时间，因此需将血压控制 在合理范围后才可行肾活检术。肾穿刺术安全血压应在160/90m mH以下。 4. 精神疾病患有精神疾病患者不能配合肾穿刺，甚至肾穿刺可诱发精神疾病。 5. 体位不良过度肥胖或大量腹水，或患者病情不允许搬动或翻身等情况存在，不宜行肾 活检检查。 6. 肾脏感染 包括各种感染，如急性肾盂肾炎、肾脓肿、肾盂积水、肾结核、肾周脓肿等。 7. 肾脏肿瘤 在穿刺部位有各种肿瘤时，如恶性肿瘤、血管瘤、大的囊肿等，无法避开穿刺部位，均不宜行肾穿刺。 8. 肾脏位置过高或游走肾无论如何吸气憋气，患者的肾脏均不能达到十二肋一下或固定 位置时，穿刺针无法到达肾脏，不宜行肾穿刺。 9. 慢性肾衰竭 患者双侧肾脏明显缩小（长度<9 厘米）或肾皮质厚度<1 厘米均为肾活检禁忌症。此时肾脏组织大量纤维化，出血风险极大。 10. 其他心肺功能不全、全身严重感染、休克、严重贫血、妊娠等均不宜行肾穿刺检查。 二、术前检查： 1 ）肾脏形态学：双肾B 超或CT； 2）传染性疾病筛查：乙肝、丙肝，HIV、梅毒抗体； 3）凝血功能、血型； 4）肝、肾功能、电解质； 5）心电图（注意有无冠脉供血不足）； 6）科内病例讨论，协调医护配合，评估肾穿风险，制定应急预案。 三、患者知情签名：四、术前准备（术前1-3 天） 1. 宣教：1）术前详细向患者介绍肾穿刺活检术的方法及目的，解除患者的心理负
透射电镜常规样品制备流程
透射电镜样品制备流程 由于透射电镜能观察的样品必须很薄（60～70nm），所以透射电镜的样品准备要求很严格，方法也很单一，仅有一下两种方法： 一．负染色技术 负染色技术简单快速，可以显示生物大分子、细菌、分离的细胞器以及蛋白晶体等样品的形态、结构、大小以及表面结构的特征。尤其在病毒学中，负染色技术有着广泛的应用。 样品要求：①样品悬液的纯度不要求很纯，但是如果杂质太多，如大量的细胞碎片，培养基残渣，糖类以及各种盐类结晶的存在都会干扰染色反应和电镜的观察。尤其是不能有过多的糖类，因为在电子束的轰击下，糖类容易碳化而有碍观察，因此样品要适当提纯。②样品悬液的浓度要适中，太稀在电镜下很难找到样品，太浓样品堆积影响观察。 操作流程：吸取样品悬液滴到有膜的铜网上，静置数分钟，然后用滤纸吸去多余的液体，滴上负染色液，染色1～2min后滤纸吸去负染色液，待干后用于电镜观察。 二、超薄切片技术 超薄切片技术是为透射电镜观察提供薄样品的专门技术，是生物学中研究细胞超微结构最常用的技术。广泛应用于生物体的各种细胞的超微结构观察。一般厚度在10～100nm的切片称为超薄切片，制作这种切片的技术叫做超薄切片技术。超薄切片制作的过程包括取材、固定、脱水、渗透、包埋、聚合、切片和染色等几个环节，和一般光学显微镜的石蜡切片过程相似。但是，超薄切片切片过程更为细致与复杂，要求更严格，而且所用的试剂比较昂贵、配制复杂、强致癌。具体操作步骤、注意事项如下： 1．取材和前固定：快速的切取大小为0.5～1.0mm3的样品块，一分钟内把组织（样品）块浸入2.5％戊二醛（进口品质）溶液（取样前来平台领取），每个离心管内装20个以上的样品块，作为一个样送到平台。要求：①取材前一定要和工作人员取得电话联系！②取材选择部位要准确可靠，确保每块材料都是要观察的部位。③所有植物样品一定要抽真空，能够沉底的样品也抽真空15mins，不能沉底的样品一定要抽真空致沉底！④细菌、散在细胞等不能成块的样品，加戊二醛固定液，离心沉淀后送到平台，由平台工作人员处理。⑤泡在前固定液的材料最多可以放2周。 2．漂洗：用1M PBS Buffer Ph 7.2冲洗3次，每次15mins。 3．后固定：加入1％锇酸处理到样品变黑。植物样品一般处理2.5hours，真菌、细菌一般处理2hours，动物样品处理1hours。注意事项：①锇酸剧毒物质，易挥发，操作时要在毒品柜中谨慎使用。②锇酸比较昂贵，需特别节约使用。
透射电镜粉末样品制备方法
一、样品要求 1．粉末样品基本要求 （1）单颗粉末尺寸最好小于1μm； （2）无磁性； （3）以无机成分为主，否则会造成电镜严重的污染，高压跳掉，甚至击坏高压枪； 2．块状样品基本要求 （1）需要电解减薄或离子减薄，获得几十纳米的薄区才能观察； （2）如晶粒尺寸小于1μm，也可用破碎等机械方法制成粉末来观察； （3）无磁性； （4）块状样品制备复杂、耗时长、工序多、需要由经验的老师指导或制备；样品的制备好坏直接影响到后面电镜的观察和分析。所以块状样品制备之前，最好与TEM的老师进行沟通和请教，或交由老师制备。 二、送样品前的准备工作 1．目的要明确：（1）做什么内容（如确定纳米棒的生长方向，特定观察分析某个晶面的缺陷，相结构分析，主相与第二相的取向关系，界面晶格匹配等等）；（2）希望能解决什么问题； 2．样品通过X-Ray粉末衍射（XRD）测试、并确定结构后，再决定是否做HRTEM；这样即可节省时间，又能在XRD 的基础上获得更多的微观结构信息。 3．做HRTEM前，请带上XRD数据及其他实验结果，与HRTEM老师进行必要的沟通，以判断能否达到目的；同时HRTEM老师还会根据您的其他实验数据，向您提供好的建议，这样不但能满足您的要求，甚至使测试内容做得更深，提高论文的档次。 三、粉末样品的制备 1．选择高质量的微栅网（直径3mm），这是关系到能否拍摄出高质量高分辨电镜照片的第一步；（注：高质量的微栅网目前本实验室还不能制备，是外购的，价格20元/只；普通碳膜铜网免费提供使用。） 2．用镊子小心取出微栅网，将膜面朝上（在灯光下观察显示有光泽的面，即膜面），轻轻平放在白色滤纸上； 3．取适量的粉末和乙醇分别加入小烧杯，进行超声振荡10~30min，过3~5 min 后，用玻璃毛细管吸取粉末和乙醇的均匀混合液，然后滴2~3滴该混合液体到微
透射电镜样品的制备方法(精)
试验材料为经过热处理后的钢材! 一、样品要求 1.粉末样品基本要求 (1)单颗粉末尺寸最好小于1μm; (2)无磁性; (3)以无机成分为主，否则会造成电镜严重的污染，高压跳掉，甚至击坏高压枪; 2.块状样品基本要求 (1)需要电解减薄或离子减薄，获得几十纳米的薄区才能观察; (2)如晶粒尺寸小于1μm，也可用破碎等机械方法制成粉末来观察; (3)无磁性; (4)块状样品制备复杂、耗时长、工序多、需要由经验的老师指导或制备;样品的制备好坏直接影响到后面电镜的观察和分析。所以块状样品制备之前，最好与TEM的老师进行沟通和请教，或交由老师制备。 二、送样品前的准备工作 1.目的要明确：(1)做什么内容(如确定纳米棒的生长方向，特定观察分析某个晶面的缺陷，相结构分析，主相与第二相的取向关系，界面晶格匹配等等);(2)希望能解决什么问题; 2.样品通过X-Ray粉末衍射(XRD)测试、并确定结构后，再决定是否做HRTEM;这样即可节省时间，又能在XRD的基础上获得更多的微观结构信息。 3.做HRTEM前，请带上XRD数据及其他实验结果，与HRTEM老师进行必要的沟通，以判断能否达到目的;同时HRTEM老师还会根据您的其他实验数据，向您提供好的建议，这样不但能满足您的要求，甚至使测试内容做得更深，提高论文的档次。 三、粉末样品的制备 1.选择高质量的微栅网(直径3mm)，这是关系到能否拍摄出高质量高分辨电镜照片的第一步;(注：高质量的微栅网目前本实验室还不能制备，是外购的，价格20元/只;普通碳膜铜网免费提供使用。) 2.用镊子小心取出微栅网，将膜面朝上(在灯光下观察显示有光泽的面，即膜面)，轻轻平放在白色滤纸上; 3.取适量的粉末和乙醇分别加入小烧杯，进行超声振荡10~30min，过3~5 min 后，用玻璃毛细管吸取粉末和乙醇的均匀混合液，然后滴2~3滴该混合液体到微栅网上(如粉末是黑色，则当微栅网周围的白色滤纸表面变得微黑，此时便适中。滴得太多，则粉末分散不开，不利于观察，同时粉末掉入电镜的几率大增，严重影响电镜的使用寿命;滴得太少，则对电镜观察不利，难以找到实验所要求粉末颗粒。建议由老师制备或在老师指导下制备。)
JEM2010高分辨透射电镜
操作规程 1.装入样品。 2.打开各附件电源开关。 3.检查电镜真空指示，真空度要求高于10-5Pa。 4.检查观察窗及双目镜上的保护盖是否盖好，缓慢向 冷阱中加入液氮。 5.将各透镜开关逐一置于ON位置。 6.将高压初始值设置到120KV，按下HT键自动加高 压至120KV，然后用HTS命令计算机程序加高压至200KV，稳定5分钟。 7.缓慢加灯丝电流至Stopper位置。 8.观察灯丝像，照明系统对中及消像散。 9.成像系统对中，调电压中心和电流中心。 10.观察样品，选择区域，调节样品取向，消物镜像散。 11.使用照相系统拍照，记录像。 12.工作完毕后，缓慢退灯丝电流，手动退高压至 120KV后按动HT键关高压。各透镜开关必须全部置于OFF。 13.样品平移及倾转全部回零后，取出样品台。 14.更换底片 15.等样品室和照相室真空达到工作状态后，清除冷阱 液氮。 z详细操作步骤请参阅JEM-2010 TEM操作说明书
管理制度 1.排班每周四预约下周使用时间，原则上每人每周预 约一个单元，特殊情况另行安排。 2.早班人员要做好清扫工作，晚班人员要洗手套。 3.进入电镜室必须换拖鞋，不得将拖鞋穿出电镜室， 不得在电镜室吃东西，喝水。 4.实验结束时，电镜暗盒内不得少于50张底片，预抽 室暗盒也应及时补装至50张底片。 5.不得将电镜室工具拿出室外。 6.新用户须在考核合格后方能独立上机操作。 7.严格遵守操作规程，认真填写实验记录。 8.如果发现异常情况，应立即向有关人员汇报，不得 自行处理。 9.不要变动BIAS值及束流值。 10.不得随意按动自己不知其功能或与正常操作无关的 键。 11.认真进行交接班，做到责任明确。 12.使用完毕后，要对房间水、电等进行安全检查。
透射电镜实验
实验二透射电镜结构原理及明暗场成像 一、实验内容及实验目的 1．结合透射电镜实物介绍其基本结构及工作原理，以加深对透射电镜结构的整体印象，加深对透射电镜工作原理的了解。 2．选用合适的样品，通过明暗场像操作的实际演示，了解明暗场成像原理。 二、透射电镜的基本结构及工作原理 透射电子显微镜是一种具有高分辨率、高放大倍数的电子光学仪器，被广泛应用于材料科学等研究领域。透射电镜以波长极短的电子束作为光源，电子束经由聚光镜系统的电磁透镜将其聚焦成一束近似平行的光线穿透样品，再经成像系统的电磁透镜成像和放大，然后电子束投射到主镜简最下方的荧光屏上而形成所观察的图像。在材料科学研究领域，透射电镜主要可用于材料微区的组织形貌观察、晶体缺陷分析和晶体结构测定。 透射电子显微镜按加速电压分类，通常可分为常规电镜(100kV)、高压电镜(300kV)和超高压电镜(500kV以上)。提高加速电压，可缩短入射电子的波长。一方面有利于提高电镜的分辨率；同时又可以提高对试样的穿透能力，这不仅可以放宽对试样减薄的要求，而且厚试样与近二维状态的薄试样相比，更接近三维的实际情况。就当前各研究领域使用的透射电镜来看，其主要三个性能指标大致如下： 加速电压：80～3000kV 分辨率：点分辨率为0.2～0.35nm、线分辨率为0.1～0.2nm 最高放大倍数：30～100万倍 尽管近年来商品电镜的型号繁多，高性能多用途的透射电镜不断出现，但总体说来，透射电镜一般由电子光学系统、真空系统、电源及控制系统三大部分组成。此外，还包括一些附加的仪器和部件、软件等。有关的透射电镜的工作原理可参照教材，并结合本实验室的透射电镜，根据具体情况进行介绍和讲解。以下仅对透射电镜的基本结构作简单介绍。1．电子光学系统 电子光学系统通常又称为镜筒，是电镜的最基本组成部分，是用于提供照明、成像、显像和记录的装置。整个镜筒自上而下顺序排列着电子枪、双聚光镜、样品室、物镜、中间镜、投影镜、观察室、荧光屏及照相室等。通常又把电子光学系统分为照明、成像和观察记录部分。 2．真空系统 为保证电镜正常工作，要求电子光学系统应处于真空状态下。电镜的真空度一般应保持在10-5托，这需要机械泵和油扩散泵两级串联才能得到保证。目前的透射电镜增加一个离子泵以提高真空度，真空度可高达133．322×10-8Pa或更高。如果电镜的真空度达不到要求会出现以下问题： (1) 电子与空气分子碰撞改变运动轨迹，影响成像质量。 (2) 栅极与阳极间空气分子电离，导致极间放电。 (3) 阴极炽热的灯丝迅速氧化烧损，缩短使用寿命甚至无法正常工作。 (4) 试样易于氧化污染，产生假象。 3．供电控制系统
透射电镜操作规程
试样装填： 将样品杆头部样品安装槽上的垫片取下，用尖头镊子夹取一个装有切片的铜网放入安装槽内，装上垫片，固定好，用洗耳球吹干净杆头，并用手轻轻敲打杆尾部，仔细检查有无松动现象。 进样：先用手拍打以防样品没有固定紧，用手拿稳样品管，对准进样口，到卡口处用拇指将其轻轻推入，再在后方将其轻推入管，听到响声后，红灯亮。打开下方开关，等一会，到绿灯变亮。右拧进样管，会自动吸入，再左回拧5°左右，吸入最底部。 退样：向外拔，右拧回5°，左拧，红灯亮时关闭开关，约20秒后拉出样品管。 调整：先打开下方观察窗，调节放大缩小按钮，亮度按钮，调整光圈和视野，寻找样品。 开始前需先将光线调暗，点击 启动，微调视野。再调节亮度，但不能使超过左方框架中的红色峰超过 界面的一半。 找到合适图像后，按下即可拍照，再点击即可保存。 做完图以后，可以点击停止操作，调整视野等。 一切操作结束后，点击下方Full current中选择OFF停止所有操作。下次开始时，选择Full current中的ON继续开始，注意要等待灯丝预热好。 退样：点击OFF关闭后，红灯亮，向右转拧5°左右，再左拧直至推出即可。 调整界面示意图： 左侧调节按钮 调节视野范围（向上、下）调整光圈位置 调整放大缩小 用来选择适当放大倍数 调整亮度 （越亮光圈越小） WOB autofocus 点此手动调节 清晰度 自动调整光阴影（清 晰度）
H — 600 型电镜操作规程 H-7650－HITACHI 型 投射电子显微镜
?开机操作 ?开循环水电源，水温控制在低于室温约5 ℃。如用自来水，水量尽量开大。 ?推电源闸刀。恒压器电表指示约220~230V ，此时度压器输出92~95V 。 ?开抽气开关，约半小时绿指示灯亮。若长时间不使用仪器时，有关真空排气操作每星期至少要作一天以上的排气维护。 ?二只绿指示灯亮后一刻钟方可开控制台电源。这时要确认真空表指针在黑线附近，即真空度达到10 — 6 Torr 。 ?加高压电源时，要从低至高进行，当指针稳定后再加高一档，一般常用高压为75KV 。当真空度及枪室清洁度不理想时，高压会出现打火现象，可加压至100KV ，再返回75KV ，反复进行，直至打火消失。 ?加灯丝电流，束流值为1.5~2 μ A （靠至定位器）。正常情况下，不必旋动偏压旋钮，此时偏压值正好能使灯丝象饱和。不同的高压有不同的偏压值，要协调灯丝电流、偏压值和荧光屏上灯丝象三者关系。平时经常使用某档高压值时，不必在关机前将偏压值降为0 。为延长灯丝使用寿命，灯丝象宁欠勿过。 ?加C 光栏确保其同心。方法是：光斑正聚焦时，由束手移旋钮（BRIGHT CENTERING ）将光斑移至屏中心，散焦时，调节光栏位置使之同心。 ?加样品。 ⑴试样取出 ?抽出试样保持器到停止点；朝反时针方向转到停止点；再抽出试样保持器到停止点；再朝反时针方向转到停止点。 ?试样室排气开关设定在“ AIR ”位置。 ?抽出试样保持器（动作要轻！）。 ?从保持器取下试样。 ⑵试样装填 ?用专用镊子将试样装填在试样保持器上（试样面朝下）。
透射电镜样品制备方法
?透射电子显微镜成像时，电子束是透过样品成像。 ?由于电子束的穿透能力比较低，用于透射电子显微镜分析的样品必须很薄。 ?根据样品的原子序数大小不同，一般在50～500nm之间。 透射电镜样品的要求： ?1. 样品必须对电子束透明。 ?2. 所制得样品必须具有代表性，以真实反映所分析材料的特征。 主要方法： 粉末样品、复型、离子减薄、电解双喷。
?透射电镜观察用的样品很薄，需放在专用的样品铜网上。 ?透射电子显微镜使用的铜网一般直径为3毫米，上面铳有许多微米大小的孔，在铜网上覆盖了一层很薄的火棉胶膜并在上面蒸镀了碳层以增加其膜的强度，被分析样品就承载在这种支撑膜上。
样品铜网的作用： ?承载样品，并使之在物镜极靴孔内平移、倾斜、旋转，寻找观察区。 ?样品通常放在外径3mm ，200目方孔或圆孔的铜网上，铜网牢固夹持在样品座中保持好的热、点接触，减少因电子照射引起的热或电荷积累而产生样品漂移或损伤。 样品台
透射电子显微镜样品制备 电镜观察时样品受到的影响： (1)真空的影响。含有挥发溶剂或易升华的试样必须冷冻后观 察。 (2)电子损伤的影响。试样在电镜中受到l0－3～1A/cm2的电子 束照射，电子束的能量部分转化为热，使试样内部结构或外形发生变化或污染。观察有机物或聚合物试样时，为防止电子束对试样的损伤和污染，应提高电压。 (3)电子束透射能力的影响。由于电子束透射能力较弱，一般 100kv加速电压时，试样厚度必须在20～200nm之间。
粉末样品制备 ?随着材料科学的发展，超细粉体及纳米材料发展很快，而粉末的颗粒尺寸大小、尺寸分布及形态对最终制成材料的性能有显著影响，因此，如何用透射电镜来观察超细粉末的尺寸和形态便成了电子显微分析的一的一项重要内容。 ?其关键工作是是粉末样品的制备，样品制备的关键是如何将超细粉的颗粒分散开来，使其均匀分散到支持膜上，各自独立而不团聚。
Jem-1011操作步骤
透射电镜Jem-1011操作规程 一、日常开机 二、装样品 1.向外拉样品杆至一固定位置后逆时针旋转90°，在此位置稍停顿几秒后继续 向外拉，取出样品杆。 2.利用镊子拨开样品杆头上的压片，将欲观察样品放入，拨回压片。其中靠近 尖端的为一号样品，另一个为二号样品。 3.使样品杆上的定位销钉对准测角台上的孔插入样品杆并压紧(此处严禁旋转 样品杆)，此时指示灯变亮，待灯变灭后，将样品杆顺时针旋转90°后推入。 三、图像观察 1.待FILAMENT指示灯变亮后，按下相应的开关ON，观察屏上出现光斑。 2.在Low Mag 模式下，找到所要观察的位置，切换到Mag1模式，放大到合适 的倍数，调节SHIFT X, SHIFT Y, BRIGHTNESS 旋钮使光斑大小合适、位置适中，利用IMAGE X, IMAGE Y,测角台上的调高旋钮和OBJ Focus调焦得到样品的结构。 3.点击i-TEM软件上的动态采集，在电脑屏幕上获得样品的结构图像，点击冻 结完成抓图，所得图片暂存在窗口左侧，选中要保存的图像，点击Save，弹出Save对话框，输入文件名，选好存储位置保存即可。 4.仪器状态调整 (1)联动比 在放大倍数为4k下，将束斑调整至最小，同时按下image X 和image Y, 用OBJ Focus将中心调成一个圆，调完后关掉image X 和image Y。 (2)聚光镜像散 在放大倍数为4k下，将束斑调整至最小，若束斑不圆，表明聚光镜有像散，按下COND STIG，用DEF X和DEF Y将束斑调圆，调整完后关掉COND STIG。 (3)一五合轴 在放大倍数为4k下，将束斑调整至最小，调spot size至1，打开GUN SHIFT，用DEF X和DEF Y将束斑调至荧光屏中心，再调spot size至8，打
2200FS操作规程-修改版
JEOL:JEM-2200FS透射电镜操作规程 1.开机： 打开主机控制面板中的“Lens”，将控制电脑高压控制中打开“Normal”，高压自动从160kv升至200kv（最低180kv），暗电流从78μA升至98μA，此过程大约14分钟。在ACD 中加入液氮(先将加热器取出，加液氮，第一次加时有些往外冲，停一会再加满)，以防止样品中挥发物污染境筒，打开Hamamatsu CCD控制器。 2.换样品： 插入和取出样品杆示意图，插入和取出样品杆的过程，一定不要蛮力拧样品杆，防止样品杆损坏。 打开放气开关（提拔开关，switch to air），等待样品杆会自动松动（有氮气轻推样品杆，不要用力拽样品杆），取出样品杆，换上需要观察的样品，一定要轻拧螺丝，不要过力，因为压舌有一定的弧度，轻拧即可达到固定载网的目的。但也不要松垮，防止载网滑落。 插入样品杆（注意：插入样品杆时严禁旋转样品杆）打开真空开关（提拔式，switch to pump）），对样品预抽室抽真空(手先轻抵样品杆底部，等抽真空开始后即可松手，等待)，直至高真空指示灯亮（绿灯），再等待5分钟，切记。将样品杆顺时针分两次共计90度旋入侧角台。旋进时，需加水平方向力拉住样品杆以防样品杆快速吸入测角台，引起测角台损坏。 观察： （check真空，方法：1.软件界面montor value status 观察specimen/PIG电流：33-34微安 2..到隔间看真空度，拧4档后，真空度<1.5即可）打开BeamValve，插入1#聚光镜光阑和2#物镜光阑（操纵板上的按钮CLA-1#-OLA-2#），利用BRIGHT NESS、SHIFT X、SHIFT Y、IMAGE X、IMAGE Y、放大倍数、焦距等旋钮调整TEM的图象，直至满意。(Brightness 需不断调节，逆方向欠焦，欠焦为亮边，顺方向过焦，过焦为黑边，调Z可达到高分辨，3D重构，不宜调Z, 见标题6.) 3.采集图像： 启动Gatan Digital Micrograph软件，（按TV键进行切换，按start view采集图像—不是照相，是转换CCD）须注意，在Gatan CCD （右侧电脑）上观察的图像大约为Hamamazu CCD（左侧电脑）中观察图像的9倍。利用Live FFT （傅立叶变换）调节焦距，像散，获得高质量的图像（）此界面下，出现环则焦点不对，环越少则越好，中心圆最大，不圆则调像散，OBJ stig调物镜像散下方x，y，condense stig调聚光镜像散，上方X,Y 调光斑位置），采集(照相，点击start aquire))。存储位置为E：盘下划好的区域，请大