硅片生产流程

硅片生产流程
硅片生产流程

硅片生产流程及主要设备

作为一种取之不尽的清洁能源,太阳能的开发利用正引起人类从未有过的极大关注。商业化太阳能电池采用的是无毒性的晶硅,单晶和多晶硅电池的特点是光电转换效率高、寿命长且稳定性好。硅片是晶体硅光伏电池加工成本中最昂贵的部分, 随着半导体制造技术的不断成熟完善,硅片制造成本不断降低。硅片切割是太阳能光伏电池制造工艺中的关键部分,太阳能电池所用硅片的切割成本一直居高不下,要占到太阳能电池总制造成本的30%以上。所以降低这部分的制造成本对于提高太阳能对传统能源的竞争力至关重要。目前硅片的切割方法都是围绕如何减小切缝损失、降低切割厚度、增大切片尺寸及提高切割效率方面进行的。

1.工艺流程:硅锭(硅棒)--切块(切方)--倒角抛光--粘胶--切片--脱胶清洗--分选检验、包装

2.工艺简介

切块/切方:将硅锭或者硅棒切成适合切片的尺寸,一般硅锭切成25 块(主流)。

倒角抛光:将晶柱的圆面棱角研磨成符合要求的尺寸,对表面进行抛光处理,从而获得高度平坦的晶片。

粘胶:用粘附剂把晶柱固定在由铝板和玻璃板组成的夹具上,自然硬化或用恒温炉使其硬化。

切片:把晶柱切割成硅片,切割的深度要达到夹具上的玻璃板,

以便在之后的程序中把硅片和玻璃板分开。

脱胶清洗:用清水清洗切成的硅片,再用热水浸泡,使硅片与玻璃板分开。

分选检验包装:抽样检查厚度、尺寸、抗阻值等指标,全部检查破损、裂痕、边缘缺口,挑选出符合要求的硅片进行包装。3.太阳能硅片切割方法

太阳能硅片切割方法主要有: 外圆切割、内圆切割和磨料线切割和电火花切割(WEDM )等。80年代中期之前的硅片切割都是由外圆切割机床或者内圆切割机床完成的, 这两种切割方法在那时的研究已经达到了鼎盛时期, 相当多功能的全自动切片机相继商品化, 生产主要分布在瑞士、德国、日本、美国等地方。 90年中后期以来, 多线切割技术逐渐走向成熟,其切缝损失小、切割直径大、成片效率高、适合大批量硅片加工, 在国内外太阳

能电池的硅片切割上,得到广泛的应用。WEDM 经过近半个世纪的发展, 技术已经十分成熟, 达到了相当高的工艺水平, 是一种非接触、宏观加工力很小的加工方式, 理论上采用WEDM 切割, 硅片的厚度可以达到很薄。

3.1外圆切割

外圆切割机主要有卧式和立式两种, 由主轴系统、冷却循环系统、工业机控制系统、电磁旋转工作台等组成, 其中主轴系统是它的核心系统, 刀片安装在主轴上面, 一般是在钢质圆片基体外圆部分电镀一层金刚石磨粒, 可以单刀切割或者多刀切割。

切割时由于刀片太薄容易产生变形和侧向摆动, 导致硅片的切缝较大(1 mm左右) , 晶面不平整, 且切割硅片的直径也不能太大(100 mm以内) 。

3.2内圆切割

内圆切割机与外圆切割机相类似,内圆切割时, 圆盘型刀片外圆张紧,利用内圆刃口边切割硅锭。但它的刀片是在基体的内圆部分电镀一层金刚石磨粒,外圆部分有多个小孔, 安装固定在刀盘上面,通过刀盘上的专用机构张紧,刃部钢性得到增强,切割阻力及外力引起的对刃口的振动减小。其刀片稳定性好、晶向可以调节、机床技术成熟、切割的硅片表面粗糙度小、切缝可以缩小到300μm左右,切割硅料直径主要为Φ150mm-200 mm,最大达到了Φ300 mm。但由于刀片高速旋转会产生轴向振动,刀片与硅片的摩擦力增加,切割时会产生较大的残留切痕和微裂纹,损伤层深度可达20μm-30μm,切割结束时易出现硅片崩片边的现象。3.3多线切割

多线切割也称为线锯,通常是利用一根表面镀铜的不锈钢丝 (直径80μm-200 μm,长600km-800 km)来回绕过导轮(有两轴、三轴或四轴几种),保持20 N-30 N的张紧力,形成一排成百的锯带, 在导轮带动下以5 m/s-15 m/s的速度高速运转。将含有粒度约10μm—25 μm的SiC或者金刚石磨料的粘性浆料带入硅棒切割区域,磨料滚压嵌入硅晶体形成三体磨料磨损从而产生切割作用。它加工出硅片弯曲度(BOW)、翘曲度(WARP)、总厚度公差

(TTV)、切缝损失都很小,而且平行度(TAPER)好、表面损伤层浅。其研究主要集中在切割机理、振动切割、切割方向、线张力、温度控制等方面,并已取得很好的成果,已成为直径大于200 mm 硅片切割的主流技术,切缝损失在150μm-210μm,硅片厚度可以达到100μm-200μm,损伤层深度15μm—25μm,但在表面会留下明显的线痕,同时金刚砂切磨硅材料时产生的切削力会对脆性硅材料表面产生冲击,同样使得大尺寸超薄硅片切割非常困难。

3.4电火花线切割

电火花线切割加工原理是利用工件和电极丝之间的脉冲性电火花放电,产生瞬间高温使工件材料局部熔化或气化,从而达到加工目的太阳能级硅晶体由于其掺杂浓度比较高,电阻率在 0.1 Ω·cm-10Ω·cm 范围内,利用WEDM 切割是比较适合的。比利时鲁文大学采用低速走丝电火花线切割(WEDM-LS)技术进行了硅片切割研究,日本岡山大学采用WEDM进行了单晶硅棒切割加工研究,并研制了电火花线切割原理样机。目前试验条件下电火花线切割硅片的厚度可以控制在120μm以内,这是传统加工方法根本无法达到的切割厚度,弯曲程度与多线切割结果相近;切割的钼丝直径250μm,切缝造成的硅材料损失大约280μm,与多线切割法得到的数值相当。

3.5几种切割方式的比较

内圆切割相对于外圆切割由于其刀片韧性较大,可以用来切割较

大直径的硅片;与多线切割比较优点是不需要供给砂浆、废弃物处理小、切片成本是它的1/3-1/4、每片可以进行晶向调整和厚度调整、小批量多规格加工,缺点是表面损伤较大、切缝损失大、生产效率低,是中小尺寸硅片小批量生产的主要方法。从目前WEDM的切割试验来看,所获得的硅片总厚度变化和弯曲程度与多线切割结果几乎一样,而且其成本比多线切割低许多,将成为一种非常有竞争力的加工手段。下表是这几种切割方法的比较。

4 主要设备介绍

4.1 切方机

切方机是用来对硅棒、硅锭进行切割的设备。该设备目前在国内

已实现规模化生产,上海日进、上海汉虹、大连连城、北京京仪世纪等公司已有成熟的产品投入市场。一条50MW的硅片生产线需要配1台切方机即可,国产设备价格为280万元左右。

4.2 多线切割机

多线切割机是目前市场上用于切片最主流,也是最先进的设备。它的基本原理是通过一根高速运动的钢线带动附着在钢丝上的切割刃料对硅棒进行摩擦,从而将硅棒等硬脆材料一次同时切割为数千片薄片的一种切割加工方法。多线切割由于其更高效、更小切割损失以及更高精度的优势,适用于切割贵重、超硬材料。近十年来已取代传统的内圆切割成为硅片切割加工的主要方式。在光伏行业切片领域,到2011年底国内市场基本被瑞士的HCT、MeyerBurger(梅耶博格)和日本的 NTC 所统治。近年来国内设备厂家上海日进、电子集团 45 所、兰州瑞德、无锡开源、大连连城、北京京联发、湖南宇晶等也陆续推出了多线切割机样机。从样机来看,技术原理和设计主要都是借鉴了日本的NTCMWM442D 机型的很多理念,样机基本属于小型机。国内开发的多线切割机样机都面临着类似的问题,成品率低、断线率高、控制精度差等。加上硅料价格高昂,客户尝试新机器的成本非常高,每次的损失可能动辄几万甚至几十万,这也是制约设备制造企业获得更多的生产性实验数据来改进设备的原因之一。硅片的厚度对硅片成本的影响很大,如今市场上的硅片180um 和200um为主导,同时各企业正在不停地探索更薄硅片的切割工

艺。目前国内小部分企业硅片的硅耗量已经达到 5.8g/w。一条50MW 的硅片生产线需要配置 5~7台(单晶生产线所需切割机比多晶少)多线切割机,每台价格为200~400万元,国外同类产品的价格为500~600万元。据估算,一条50MW的硅片生产线,设备总成本大概为2000~3000万元。

硅片生产工艺流程及注意要点

硅片生产工艺流程及注意要点 简介 硅片的准备过程从硅单晶棒开始,到清洁的抛光片结束,以能够在绝好的环境中使用。期间,从一单晶硅棒到加工成数片能满足特殊要求的硅片要经过很多流程和清洗步骤。除了有许多工艺步骤之外,整个过程几乎都要在无尘的环境中进行。硅片的加工从一相对较脏的环境开始,最终在10级净空房内完成。 工艺过程综述 硅片加工过程包括许多步骤。所有的步骤概括为三个主要种类:能修正物理性能如尺寸、形状、平整度、或一些体材料的性能;能减少不期望的表面损伤的数量;或能消除表面沾污和颗粒。硅片加工的主要的步骤如表1.1的典型流程所示。工艺步骤的顺序是很重要的,因为这些步骤的决定能使硅片受到尽可能少的损伤并且可以减少硅片的沾污。在以下的章节中,每一步骤都会得到详细介绍。 表1.1 硅片加工过程步骤 1.切片 2.激光标识 3.倒角 4.磨片 5.腐蚀 6.背损伤 7.边缘镜面抛光 8.预热清洗 9.抵抗稳定——退火 10.背封 11.粘片 12.抛光 13.检查前清洗 14.外观检查

15.金属清洗 16.擦片 17.激光检查 18.包装/货运 切片(class 500k) 硅片加工的介绍中,从单晶硅棒开始的第一个步骤就是切片。这一步骤的关键是如何在将单晶硅棒加工成硅片时尽可能地降低损耗,也就是要求将单晶棒尽可能多地加工成有用的硅片。为了尽量得到最好的硅片,硅片要求有最小量的翘曲和最少量的刀缝损耗。切片过程定义了平整度可以基本上适合器件的制备。 切片过程中有两种主要方式——内圆切割和线切割。这两种形式的切割方式被应用的原因是它们能将材料损失减少到最小,对硅片的损伤也最小,并且允许硅片的翘曲也是最小。 切片是一个相对较脏的过程,可以描述为一个研磨的过程,这一过程会产生大量的颗粒和大量的很浅表面损伤。 硅片切割完成后,所粘的碳板和用来粘碳板的粘结剂必须从硅片上清除。在这清除和清洗过程中,很重要的一点就是保持硅片的顺序,因为这时它们还没有被标识区分。 激光标识(Class 500k) 在晶棒被切割成一片片硅片之后,硅片会被用激光刻上标识。一台高功率的激光打印机用来在硅片表面刻上标识。硅片按从晶棒切割下的相同顺序进行编码,因而能知道硅片的正确位置。这一编码应是统一的,用来识别硅片并知道它的来源。编码能表明该硅片从哪一单晶棒的什么位置切割下来的。保持这样的追溯是很重要的,因为单晶的整体特性会随着晶棒的一头到另一头而变化。编号需刻的足够深,从而到最终硅片抛光完毕后仍能保持。在硅片上刻下编码后,即使硅片有遗漏,也能追溯到原来位置,而且如果趋向明了,那么就可以采取正确的措施。激光标识可以在硅片的正面也可在背面,尽管正面通常会被用到。

晶体硅太阳能电池的制造工艺流程

晶体硅太阳能电池的制造 工艺流程 This model paper was revised by the Standardization Office on December 10, 2020

提高太阳能电池的转换效率和降低成本是太阳能电池技术发展的主流。 晶体硅太阳能电池的制造工艺流程说明如下: (1)切片:采用多线切割,将硅棒切割成正方形的硅片。 (2)清洗:用常规的硅片清洗方法清洗,然后用酸(或碱)溶液将硅片表面切割损伤层除去30-50um。 (3)制备绒面:用碱溶液对硅片进行各向异性腐蚀在硅片表面制备绒面。 (4)磷扩散:采用涂布源(或液态源,或固态氮化磷片状源)进行扩散,制成PN+结,结深一般为-。 (5)周边刻蚀:扩散时在硅片周边表面形成的扩散层,会使电池上下电极短路,用掩蔽湿法腐蚀或等离子干法腐蚀去除周边扩散层。 (6)去除背面PN+结。常用湿法腐蚀或磨片法除去背面PN+结。 (7)制作上下电极:用真空蒸镀、化学镀镍或铝浆印刷烧结等工艺。先制作下电极,然后制作上电极。铝浆印刷是大量采用的工艺方法。 (8)制作减反射膜:为了减少入反射损失,要在硅片表面上覆盖一层减反射膜。制作减反射膜的材料有MgF2 ,SiO2 ,Al2O3,SiO ,Si3N4 ,TiO2 ,Ta2O5等。工艺方法可用真空镀膜法、离子镀膜法,溅射法、印刷法、PECVD法或喷涂法等。 (9)烧结:将电池芯片烧结于镍或铜的底板上。 (10)测试分档:按规定参数规范,测试分类。

由此可见,太阳能电池芯片的制造采用的工艺方法与半导体器件基本相同,生产的工艺设备也基本相同,但工艺加工精度远低于集成电路芯片的制造要求,这为太阳能电池的规模生产提供了有利条件。

电池片等级分类表

1.目的 为规范成品太阳电池片的外观判检工作,保证检验项目完整、检验作业方法和检验数据准确;统一生产、质量、销售认识以满足顾客所需,特制定本本电池片检验标准。 2.适用范围 本标准内部适用,检验范围为本公司生产的单多晶硅太阳能电池片。 3. 工作职责 质量管理部负责外观判检项目的具体实施,对所有成品太阳电池片进行目测全检;所有检验人员严格按照本文件规定进行操作。 4. a判检工具 PVC 手套、日光灯、塞尺、外观判检模具、直尺、塑料垫片、插片盒、高密度泡沫盒、黑色油笔、口罩。 b判检作业条件 1、照度800lx 日光灯下; 2、洁净水平的判检操作台面上; 3、每片电池片自然水平放置于判检操作台面,不得人为挤压; 4、佩戴PVC 手套、轻拿轻放,保持3 秒/片检片速度; 5、统一由一个检验员先进行背面判检再由另外的检验员进行正面判检,避免判检翻片过程中的电池片损伤。 6、判检人员保持直立坐姿,从正上方(视线与判检水平桌面呈80°~90°)对电池片进行观测,前胸距离电池片中心点水平距离约16cm,人眼距离电池片中心点视线距离约28cm 5. 检验标准 (一)包括各等级的分类、检验项目及说明、各等级产品的接收条件等,列于下表: 检验项目及说明 A类B类C类 A级A1级B1级B2级C级1.效率光电转换效率(Eff.) 2.正面 次栅断 开无 断栅宽度L≤1 mm, 数量≤3条 断栅宽度L>1 mm, 数量≤3条 超过B1标准 3.正面 栅线结 点 无无 数量≤2处, 且长、宽分别小 于2 mm和0.3 mm 超过B1标准L

4.正面是否漏 浆由网版原因引起的漏 浆 无无 漏浆面积≤ 1mm2,数量≤2 个 超过B1标准 5.正面 主栅缺 损无无 缺损面积≤ 4mm2 超过B1标准 6.正面印刷图案偏 离因为硅片与网版未完 全对准而引起的图案 偏离无 印刷边界到硅 片边沿的距离 差别≤0.5 mm 印刷边界到硅 片边沿的距离 差别0.5 mm<d <2mm 印刷边界到 硅片边沿的 距离差别0.5 mm<d< 2mm 超过B类标 准为等外 品 7.正面 色差PECVD沉积氮化硅减 反射膜的色彩及均匀 性 单片蓝色, 色彩均匀, 且同一包 电池片的 色彩一致 单片色差肉眼 观察不明显, 且同一包电池 片的色彩一致 肉眼可见色差, 透过毛玻璃观 察不明显;且同 一包电池片的 色彩一致 超过B1标 准;同一包色 彩一致 8.正面色斑. 因制绒或脏污引起的 色彩不均匀 无 轻微色斑面积 总计≤1.5cm2, 无点状色斑 色斑面积总计 ≤4cm2 严重色斑 9.黄金 斑PECVD时电池片正面被颗 粒掩盖引起 无 色斑面积≤ 1mm2,数量≤3 个 色斑面积≤ 1mm2,数量>3 个 超过B1标准 10.正面玷污因各种原因引起的玷 污 无无 沾污面积≤ 1mm2,数量>3 个 超过B1标准 11.正面划伤电池工艺过程中因各 种原因造成的正面划 伤、绒面破坏 无 轻微划伤,长 度<5cm 超过A1标准 12.正面水痕去除磷硅玻璃层后,经 清洗、烘干(或甩干) 后留下的水痕 无无 水痕颜色较浅, 长度≥5cm;水 痕颜色较明显, 长度<5cm 超过B1标准 13.正面指印操作过程中在电池片 正面留下的指纹 无 轻微指纹,色 差较浅 引起色差 引起较重色 差 d

硅片等级分类及标准

硅片等级分类及标准(150×150) 一、优等品(Ⅰ类片) 1、物理、化学特性 ①型号:P 晶向〈100〉±1°; ②氧含量: ≤1.0×1018at/cm3; ③碳含量: ≤5×1016at/cm3; ④少子寿命:τ=1.3-3.0μs(在测试电压≥20mv下裸片的数据); ⑤电阻率: 0.9-1.2、1.2-3.0、3.0-6.0Ω·cm; ⑥位错密度:≤3000个/cm2; 2、几何尺寸 ①边长:125×125±0.5mm; ②对角:150×150±0.5mm; ③同心度:任意两弧的弦长之差≤1mm; ④垂直度:任意两边的夹角90°±0.3°; ⑤厚度:200±20μm; (中心点厚度≥195μm,边缘四点厚度≥180 μm) 180±20μm; (中心点厚度≥175μm,边缘四点厚度≥160 μm) ⑥TTV:≤30μm; ⑦弯曲度:≤40μm; 3、表面指标 ①线痕:无可视线痕; ②目视表面:无沾污、无水渍、染色、白斑、指印等; ③无崩边、无可视裂纹、边缘光滑、目视无翘曲; 二、合格品(Ⅱ类片) 1、物理化学特性 ①型号:P 晶向〈100〉±1°; ②氧含量: ≤1.0×1018at/cm3; ③碳含量: ≤5×1016at/cm3; ④少子寿命:τ=1.0-1.2μs(在测试电压≥20mv下裸片的数据); ⑤电阻率:0.5-0.8Ω·cm; ⑥位错密度:≤3000个/cm2; 2、几何尺寸 ①边长:125×125±0.5mm; ②对角:150×150±0.5mm; ③同心度:任意两弧的弦长之差≤1.5mm; ④垂直度:任意两边的夹角90°±0.3°; ⑤厚度:200±20μm;(中心点厚度≥195μm,边缘四点厚度≥180 μm) 180±20μm;(中心点厚度≥175μm,边缘四点厚度≥160 μm)

硅片生产工艺技术流程

顺大半导体发展有限公司太阳能用 硅单晶片生产技术 目录 一、硅片生产工艺中使用的主要原辅材料 1、拉制单晶用的原辅材料,设备和部件: 2、供硅片生产用的原辅材料,设备和部件: 二、硅片生产工艺技术 1、硅单晶生产部 (1)、腐蚀清洗工序生产工艺技术 对处理后原材料质量要求 (2)、腐蚀清洗生产工艺流程 ①多晶硅块料,复拉料和头,尾料处理工艺流程 ②边皮料酸碱清洗处理工艺流程 ③埚底料酸清洗处理工艺流程 ④废片的清洗处理工艺流程 (3)、硅单晶生长工艺技术 (4)、单晶生长中的必备条件和要求 ①单晶炉 ②配料与掺杂 (5),单晶生长工艺参数选择 (6)、质量目标: (7)、硅单晶生长工艺流程

2、硅片生产部 (1)、硅片加工生产工艺技术 (2)、硅片加工工艺中的必备条件和要求 ①切割机 ②切割浆液 (3)、质量目标 (4)、硅片加工工艺技术流程 ①开方锭生产工艺流程 ②切片生产工艺流程 (5)、硅片尺寸和性能参数检测

前言 江苏顺大半导体发展有限公司座落于美丽的高邮湖畔。公司始创生产太阳能电池用各种尺寸的单晶和多晶硅片。拥有国内先进的拉制单晶设备104台,全自动单晶炉112台。年产量可达到××××吨。拥有大型先进的线切割设备×××台。并且和无锡尚德形成了合作联盟(伙伴),每×可以向尚德提供×××硅单晶片。同时河北晶于2004年,占地面积××××。公司现在有×××名员工,从事澳、南京等光伏组件公司都和顺大形成了长年的合作关系。为了公司的进一步发展,扩大产业链,解决硅单晶的上下游产品的供需关系,2006年在扬州投资多晶硅项目,投资规模达到××亿。工程分两期建设,总规模年产多晶硅6000吨。2008年底首期工程已经正式投入批量生产,年产多晶硅×××吨。 太阳能用硅片生产工艺十分复杂,要通过几十道工序才能完成,只有发挥团队精神才能保证硅片的最终质量。编写该篇壮大资料的目的:首先让大家了解整个硅片生产过程,更重要的是让各生产工序中的每一位操作人员明确自己的职责,更自觉地按操作规程和规范做好本职工作,为顺大半导体发展有限公司的发展,尽自己的一份力量。

电池片生产工艺流程汇总

电池片生产工艺流程 一、制绒 a.目的 在硅片的表面形成坑凹状表面,减少电池片的反射的太阳光,增加二次反射的面积。一般情况下,用碱处理是为了得到金字塔状绒面; 用酸处理是为了得到虫孔状绒面。不管是哪种绒面,都可以提高硅片的陷光作用。 b.流程 1.常规条件下,硅与单纯的HF、HNO3(硅表面会被钝化,二氧化硅与HNO3不反应)认为是不反应的。但在两种混合酸的体系中,硅则可以与溶液进行持续的反应。 硅的氧化 硝酸/亚硝酸(HNO2)将硅氧化成二氧化硅(主要是亚硝酸将硅氧化) Si+4HNO3=SiO2+4NO2+2H2O (慢反应 3Si+4HNO3=3SiO2+4NO+2H2O (慢反应 二氧化氮、一氧化氮与水反应,生成亚硝酸,亚硝酸很快地将硅氧化成二氧化硅。 2NO2+H2O=HNO2+HNO3 (快反应 Si+4HNO2=SiO2+4NO+2H2O (快反应(第一步的主反应)

4HNO3+NO+H2O=6HNO2(快反应 只要有少量的二氧化氮生成,就会和水反应变成亚硝酸,只要少量的一氧化氮生成,就会和硝酸、水反应很快地生成亚硝酸,亚硝酸会很快的将硅氧化,生成一氧化氮,一氧化氮又与硝酸、水反应,这样一系列化学反应最终的结果是造成硅的表面被快速氧化,硝酸被还原成氮氧化物。 二氧化硅的溶解 SiO2+4HF=SiF4+2H2O(四氟化硅是气体 SiF4+2HF=H2SiF6 总反应 SiO2+6HF=H2SiF6+2H2O 最终反应掉的硅以氟硅酸的形式进入溶液。 2.清水冲洗 3.硅片经过碱液腐蚀(氢氧化钠/氢氧化钾),腐蚀掉硅片经酸液腐蚀后的多孔硅 4.硅片经HF、HCl冲洗,中和碱液,如不清洗硅片表面残留的碱液,在烘干后硅片的表面会有结晶 5.水冲洗表面,洗掉酸液 c.注意

硅片检验标准2016-2-1

文件更改申请单编号:LW-CX-001-A1-03

硅片检验标准 1 目的 规范多晶硅片检测标准。 2 适用范围 本标准规定了多晶硅片的电性能、外观尺寸的检验项目、测量器具、判定依据,适用于正常生产的多晶硅片的质量检验。 3 定义 3.1检测工具: 数显千分尺、henneck分选机、直尺、三丰粗糙仪、MS203电阻率测试、少子寿命测试WT-2000。 3.2检测术语 斑点定义:在光强430-650LUX下,距离眼睛40cm,成30-45°角目视能看到颜色异于周围颜色的点即为斑点。 翘曲度:硅片的中面和参考面之间的最大距离和最小距离之差(即a值)。 弯曲度:硅片中心凸起处于参考平面距离差值(即z值)。 硅落:硅片表面有硅晶脱落现象且未穿透。 崩边:以硅片边缘为参考线向内部延伸深度≤0.5mm、长度≤1.5mm及不能崩透的缺损属于崩边。缺口:光强430-650LUX,目光与硅片成30-45°,距离25-35cm可以看到贯通硅片的称为缺口,看不到的不属于缺口。 水印:未充分烘干,水分蒸发后残留物。 表面玷污:硅片的表面或侧面沾有残胶或油污等杂物。 游离碳黑线:清洗后距离硅片上边缘5mm以内的黑色区域。 微晶:每1cm2长度上晶粒个数>10个。

4 职责权限 4.1 技术部负责制定硅片检验标准; 4.2 质量部严格按照本文件中检验标准检验硅片。 5 正文 5.1 表面质量 表面质量通过生产人员的分选判定,目测外观符合附表1相关要求。对整包硅片重点查看B4(崩边),B7(线痕)、B8(厚度差值)、缺口、碎片、油污等情况;整包里的B4片在迎光侧表现为“亮点”背光侧较暗;B7、B8片手感表现较重,不易区分或存在争议时,利用分选机重新分选。 5.2 外型尺寸 几何尺寸符合附表1相关要求,在研磨倒角处控制。如认为硅片尺寸存在问题使用分选机进行检验。 5.3 电性能 依据硅锭/硅块测试数据判定,必要时用相关测试仪器核实。硅片电阻率测量一点数值,当超出B级范围时,测量五个晶粒的电阻率,计算平均值X,以X值作为最终判定值。 5.4抽检方法 (1)对硅片车间自检合格的包装硅片或直传片,采取一次抽检(抽检比例8%),不合格比例不高于0.5%。每次抽检不合格率大于0.5%时,通知清洗班长重新分选,对重新分选片抽检合格后可入库。 (2)抽取8%硅片进行检测,其结果作为该批硅片合格的判定依据。 6 相关文件 无 7 相关记录 无

单晶硅片制作工艺流程

单晶硅电磁片生产工艺流程 ?1、硅片切割,材料准备: ?工业制作硅电池所用的单晶硅材料,一般采用坩锅直拉法制的太阳级单晶硅棒,原始的形状为圆柱形,然后切割成方形硅片(或多晶方形硅片),硅片的边长一般为10~15cm,厚度约200~350um,电阻率约1Ω.cm的p型(掺硼)。 ?2、去除损伤层: ?硅片在切割过程会产生大量的表面缺陷,这就会产生两个问题,首先表面的质量较差,另外这些表面缺陷会在电池制造过程中导致碎片增多。因此要将切割损伤层去除,一般采用碱或酸腐蚀,腐蚀的厚度约10um。 ? ? 3、制绒: ?制绒,就是把相对光滑的原材料硅片的表面通过酸或碱腐蚀,使其凸凹不平,变得粗糙,形成漫反射,减少直射到硅片表面的太阳能的损失。对于单晶硅来说一般采用NaOH加醇的方法腐蚀,利用单晶硅的各向异性腐蚀,在表面形成无数的金字塔结构,碱液的温度约80度,浓度约1~2%,腐蚀时间约15分钟。对于多晶来说,一般采用酸法腐蚀。 ? 4、扩散制结:

?扩散的目的在于形成PN结。普遍采用磷做n型掺杂。由于固态扩散需要很高的温度,因此在扩散前硅片表面的洁净非常重要,要求硅片在制绒后要进行清洗,即用酸来中和硅片表面的碱残留和金属杂质。 ? 5、边缘刻蚀、清洗: ?扩散过程中,在硅片的周边表面也形成了扩散层。周边扩散层使电池的上下电极形成短路环,必须将它除去。周边上存在任何微小的局部短路都会使电池并联电阻下降,以至成为废品。 目前,工业化生产用等离子干法腐蚀,在辉光放电条件下通过氟和氧交替对硅作用,去除含有扩散层的周边。 扩散后清洗的目的是去除扩散过程中形成的磷硅玻璃。 ? 6、沉积减反射层: ?沉积减反射层的目的在于减少表面反射,增加折射率。广泛使用PECVD淀积SiN ,由于PECVD淀积SiN时,不光是生长SiN 作为减反射膜,同时生成了大量的原子氢,这些氢原子能对多晶硅片具有表面钝化和体钝化的双重作用,可用于大批量生产。 ? 7、丝网印刷上下电极: ?电极的制备是太阳电池制备过程中一个至关重要的步骤,它不仅决定了发射区的结构,而且也决定了电池的串联电阻和电

晶体硅的生产过程

一、单晶硅的制法通常是先制得多晶硅或无定形硅,然后用直拉法或悬浮区熔法从熔体中生长出棒状单晶硅。熔融的单质硅在凝固时硅原子以金刚石晶格排列成许多晶核,如果这些晶核长成晶面取向相同的晶粒,则这些晶粒平行结合起来便结晶成单晶硅。 单晶硅棒是生产单晶硅片的原材料,随着国内和国际市场对单晶硅片需求量的快速增加,单晶硅棒的市场需求也呈快速增长的趋势。 单晶硅圆片按其直径分为6英寸、8英寸、12英寸(300毫米)及18英寸(450毫米)等。直径越大的圆片,所能刻制的集成电路越多,芯片的成本也就越低。但大尺寸晶片对材料和技术的要求也越高。单晶硅按晶体生长方法的不同,分为直拉法(CZ)、区熔法(FZ)和外延法。直拉法、区熔法生长单晶硅棒材,外延法生长单晶硅薄膜。直拉法生长的单晶硅主要用于半导体集成电路、二极管、外延片衬底、太阳能电池。目前晶体直径可控制在Φ3~8英寸。区熔法单晶主要用于高压大功率可控整流器件领域,广泛用于大功率输变电、电力机车、整流、变频、机电一体化、节能灯、电视机等系列产品。目前晶体直径可控制在Φ3~6英寸。外延片主要用于集成电路领域。 由于成本和性能的原因,直拉法(CZ)单晶硅材料应用最广。在IC工业中所用的材料主要是CZ抛光片和外延片。存储器电路通常使用CZ抛光片,因成本较低。逻辑电路一般使用价格较高的外延片,因其在IC制造中有更好的适用性并具有消除Latch-up的能力。 单晶硅也称硅单晶,是电子信息材料中最基础性材料,属半导体材料类。单晶硅已渗透到国民经济和国防科技中各个领域,当今全球超过2000亿美元的电子通信半导体市场中95%以上的半导体器件及99%以上的集成电路用硅。 二、硅片直径越大,技术要求越高,越有市场前景,价值也就越高。 日本、美国和德国是主要的硅材料生产国。中国硅材料工业与日本同时起步,但总体而言,生产技术水平仍然相对较低,而且大部分为2.5、3、4、5英寸硅锭和小直径硅片。中国消耗的大部分集成电路及其硅片仍然依赖进口。但我国科技人员正迎头赶上,于1998年成功地制造出了12英寸单晶硅,标志着我国单晶硅生产进入了新的发展时期。 目前,全世界单晶硅的产能为1万吨/年,年消耗量约为6000吨~7000吨。未来几年中,

硅片的等级标准

硅片的检测 1:硅片表面光滑洁净 2:TV:220±20um 。 3:几何尺寸: 边长:125±0.5mm;对角150±0.5mm、148±0.5mm、165±0.5mm; 边长:103±0.5mm、对角:135±0.5mm; 边长:150±0.5mm、156±0.5mm、对角:203±0.5mm、200±0.5mm、。 同心度:任意两个弧的弦长之差≤1mm 垂直度:任意两边的夹角:90°±0.3 二、合格品 一级品:垂直度:任意两边的夹角:90°±0.5 二级品:1:表面有少许污渍、线痕。凹痕、轻微崩边。 2:220±30um ≤TV≤220±40um。 3:凹痕:硅片表面凹痕之和≤30um 4:崩边范围:崩边口不是三角形,崩边口长度≤1mm ,深度≤0.5mm 5:几何尺寸: 边长:125±0.52mm;对角150±0.52mm、148±0.52mm、165±0.52mm; 边长:103±0.52mm、对角:135±0.52mm; 边长:150±0.52mm、156±0.52mm、对角:203±0.52mm、200±0.52mm、。 同心度:任意两个弧的弦长之差≤1.5mm 垂直度:任意两边的夹角:90°±0.8 三级品: 1:表面有油污但硅片颜色不发黑,有线痕和硅洛现象。 2:220±40um ≤TV≤220±60um。 3:硅落:整张硅片边缘硅晶脱落部分硅晶脱落。 三、不合格品

严重线痕、厚薄片:TV>220±60um。 崩边片:有缺陷但可以改¢103的硅片 气孔片:硅片中间有气孔 外形片:切方滚圆未能磨出的硅片。 倒角片(同心度):任意两个弧的弦长之差>1.5mm 菱形片:(垂直度):任意两边的夹角>90°±0.8 凹痕片:硅片两面凹痕之和>30um 脏片:硅片表面有严重污渍且发黄发黑 尺寸偏差片:几何尺寸超过二级片的范围。 注:以上标准针对的硅片厚度为220um 。 硅片等级分类及标准(150*150) 一、优等品(Ⅰ类片) 1、物理、化学特性 ①型号:P 晶向[100]±1° ②氧含量:≤1.0X1018at/cm3 ③碳含量:≤5X1016 at/cm3 ④勺子寿命:T=1.3—3.0us(在测试电压≥20mv下裸片的数据) ⑤电阻率:0.9—1.2、1。2—3.0 、3.0-6.0Ω/cm ⑥位错密度:≤3000个/cm 2、几何尺寸: ①边长:125*125±0.5mm ②对角:150*150±0.5mm ③同心度:任意两弧长之差≤1mm ④垂直度:任意两办的夹角90°±0.3° ⑤厚度:200±20 um,(中心点厚度≥195um,边缘四角厚度≥195um) 180±20 um,(中心点厚度≥175um,边缘四角厚度≥160um) ⑥TTV: ≤30um ⑦弯曲度:≤40um 3、表明指标: ①线痕:无可视线痕 ②目视表面:无粘污、无水渍、染色、白斑、指印等 ③无崩边:无可视裂纹、边缘光滑、目视无翘曲 二、合格品(Ⅱ类片) 2、物理、化学特性 ①型号:P 晶向[100]±1° ②氧含量:≤1.0X1018at/cm3 ③碳含量:≤5X1016 at/cm3 ④勺子寿命:T=1.3—3.0us(在测试电压≥20mv下裸片的数据) ⑤电阻率:0.5-0.8Ω/cm ⑥位错密度:≤3000个/cm 2、几何尺寸:

单晶硅生产工艺及单晶硅片生产工艺

单晶硅生产工艺及单晶硅片生产工艺 单晶硅原子以三维空间模式周期形成的长程有序的晶体。多晶硅是很多具有不同晶向的小单晶体单独形成的,不能用来做半导体电路。多晶硅必须融化成单晶体,才能加工成半导体应用中使用的晶圆片。 加工工艺: 加料—→熔化—→缩颈生长—→放肩生长—→等径生长—→尾部生长(1)加料:将多晶硅原料及杂质放入石英坩埚内,杂质的种类依电阻的N或P型而定。杂质种类有硼,磷,锑,砷。 (2)熔化:加完多晶硅原料于石英埚内后,长晶炉必须关闭并抽成真空后充入高纯氩气使之维持一定压力范围内,然后打开石墨加热器电源,加热至熔化温度(1420℃)以上,将多晶硅原料熔化。 (3)缩颈生长:当硅熔体的温度稳定之后,将籽晶慢慢浸入硅熔体中。由于籽晶与硅熔体场接触时的热应力,会使籽晶产生位错,这些位错必须利用缩颈生长使之消失掉。缩颈生长是将籽晶快速向上提升,使长出的籽晶的直径缩小到一定大小(4-6mm)由于位错线与生长轴成一个交角,只要缩颈够长,位错便能长出晶体表面,产生零位错的晶体。 (4)放肩生长:长完细颈之后,须降低温度与拉速,使得晶体的直径渐渐增大到所需的大小。 (5)等径生长:长完细颈和肩部之后,借着拉速与温度的不断调整,可使晶棒直径维持在正负2mm之间,这段直径固定的部分即称为等径部分。单晶硅片取自于等径部分。 (6)尾部生长:在长完等径部分之后,如果立刻将晶棒与液面分开,那么热应力将使得晶棒出现位错与滑移线。于是为了避免此问题的发生,必须将晶棒的直径慢慢缩小,直到成一尖点而与液面分开。这一过程称之为尾部生长。长完的晶棒被升至上炉室冷却一段时间后取出,即完成一次生长周期。 单晶硅棒加工成单晶硅抛光硅片 加工流程: 单晶生长—→切断—→外径滚磨—→平边或V型槽处理—→切片 倒角—→研磨腐蚀—→抛光—→清洗—→包装

硅片等级分类及标准

硅片等级分类及标准(1503150) 一、优等品(Ⅰ类片) 1、物理、化学特性 错误!未找到引用源。型号:P 晶向〈100〉±1°; 错误!未找到引用源。氧含量: ≤1.031018at/cm3; 错误!未找到引用源。碳含量: ≤531016at/cm3; 错误!未找到引用源。少子寿命:τ=1.3-3.0μs(在测试电压≥20mv下裸片的数据); 错误!未找到引用源。电阻率: 0.9-1.2、1.2-3.0、3.0-6.0Ω2cm; 错误!未找到引用源。位错密度:≤3000个/cm2; 2、几何尺寸 错误!未找到引用源。边长:1253125±0.5mm; 错误!未找到引用源。对角:1503150±0.5mm; 错误!未找到引用源。同心度:任意两弧的弦长之差≤1mm; 错误!未找到引用源。垂直度:任意两边的夹角90°±0.3°; 错误!未找到引用源。厚度:200±20μm; (中心点厚度≥195μm,边缘四点厚度≥180 μm) 180±20μm; (中心点厚度≥175μm,边缘四点厚度≥160 μm) 错误!未找到引用源。TTV:≤30μm; 错误!未找到引用源。弯曲度:≤40μm; 3、表面指标 错误!未找到引用源。线痕:无可视线痕; 错误!未找到引用源。目视表面:无沾污、无水渍、染色、白斑、指印等;错误!未找到引用源。无崩边、无可视裂纹、边缘光滑、目视无翘曲; 二、合格品(Ⅱ类片) 1、物理化学特性 错误!未找到引用源。型号:P 晶向〈100〉±1°; 错误!未找到引用源。氧含量: ≤1.031018at/cm3; 错误!未找到引用源。碳含量: ≤531016at/cm3; 错误!未找到引用源。少子寿命:τ=1.0-1.2μs(在测试电压≥20mv下裸片的数据); 错误!未找到引用源。电阻率:0.5-0.8Ω2cm; 错误!未找到引用源。位错密度:≤3000个/cm2; 2、几何尺寸 错误!未找到引用源。边长:1253125±0.5mm; 错误!未找到引用源。对角:1503150±0.5mm; 错误!未找到引用源。同心度:任意两弧的弦长之差≤1.5mm; 错误!未找到引用源。垂直度:任意两边的夹角90°±0.3°;

硅片检测

1618845313 一、硅片检测 硅片是太阳能电池片的载体,硅片质量的好坏直接决定了太阳能电池片转换效率的高低,因此需要对来料硅片进行检测。该工序主要用来对硅片的一些技术参数进行在线测量,这些参数主要包括硅片表面不平整度、少子寿命、电阻率、P/N型和微裂纹等。该组设备分自动上下料、硅片传输、系统整合部分和四个检测模块。其中,光伏硅片检测仪对硅片表面不平整度进行检测,同时检测硅片的尺寸和对角线等外观参数;微裂纹检测模块用来检测硅片的内部微裂纹;另外还有两个检测模组,其中一个在线测试[url=]模组[/url]主要测试硅片体电阻率和硅片类型,另一个模块用于检测硅片的少子寿命。在进行少子寿命和电阻率检测之前,需要先对硅片的对角线、微裂纹进行检测,并自动剔除破损硅片。硅片检测设备能够自动装片和卸片,并且能够将不合格品放到固定位置,从而提高检测精度和效率。 二、表面制绒 单晶硅绒面的制备是利用硅的各向异性腐蚀,在每平方厘米硅表面形成几百万个四面方锥体也即金字塔结构。由于入射光在表面的多次反射和折射,增加了光的吸收,提高了电池的短路电流和转换效率。硅的各向异性腐蚀液通常用热的碱性溶液,可用的碱有氢氧化钠,氢氧化钾、氢氧化锂和乙二胺等。大多使用廉价的浓度约为1%的氢氧化钠稀溶液来制备绒面硅,腐蚀温度为70-85℃。为了获得均匀的绒面,还应在溶液中酌量添加醇类如乙醇和异丙醇等作为络合剂,以加快硅的腐蚀。制备绒面前,硅片须先进行初步表面腐蚀,用碱性或酸性腐蚀液蚀去约20~25μm,在腐蚀绒面后,进行一般的化学清洗。经过表面准备的硅片都不宜在水中久存,以防沾污,应尽快扩散制结。 三、扩散制结 太阳能电池需要一个大面积的PN结以实现光能到电能的转换,而扩散炉即为制造太阳能电池PN结的专用设备。管式扩散炉主要由石英舟的上下载部分、废气室、炉体部分和气柜部分等四大部分组成。扩散一般用三氯氧磷液态源作为扩散源。把P型硅片放在管式扩散炉的石英容器内,在850---900摄氏度高温下使用氮气将三氯氧磷带入石英容器,通过三氯氧磷和硅片进行反应,得到磷原子。经过一定时间,磷原子从四周进入硅片的表面层,并且通过硅原子之间的空隙向硅片内部渗透扩散,形成了N型半导体和P型半导体的交界面,也就是PN结。这种方法制出的PN结均匀性好,方块电阻的不均匀性小于百分之十,少子寿命可大于10ms。制造PN结是太阳电池生产最基本也是最关键的工序。因为正是PN结的形成,才使电子和空穴在流动后不再回到原处,这样就形成了电流,用导线将电流引出,就是直流电。 四、去磷硅玻璃 该工艺用于太阳能电池片生产制造过程中,通过化学腐蚀法也即把硅片放在氢氟酸溶液中浸泡,使其产生化学反应生成可溶性的络和物六氟硅酸,以去除扩散制结后在硅片表面形成的一层磷硅玻璃。在扩散过程中,POCL3与O2反应生成P2O5淀积在硅片表面。P2O5与Si反应又生成SiO2和磷原子,这样就在硅片表面形成一层含有磷元素的SiO2,称之为磷硅玻璃。去磷硅玻璃的设备一般由本体、清洗槽、伺服驱动系统、机械臂、电气控制系统和自动配酸系统等部分组成,主要动力源有氢氟酸、氮气、压缩空气、纯水,热排风和废水。氢氟酸能够溶解二氧化硅是因为氢氟酸与二氧化硅反应生成易挥发的四氟化硅气体。若氢氟酸过量,反应生成的四氟化硅会进一步与氢氟酸反应生成可溶性的络和物六氟硅酸。 五、等离子刻蚀 由于在扩散过程中,即使采用背靠背扩散,硅片的所有表面包括边缘都将不可避免地扩散上磷。PN结的正面所收集到的光生电子会沿着边缘扩散有磷的区域流到PN结的背面,而造成短路。因此,必须对太阳能电池周边的掺杂硅进行刻蚀,以去除电池边缘的PN结。通常采用等离子刻蚀技术完成这一工艺。等离子刻蚀是在低压状态下,反应气体CF4的母体分子在射频功率的激发下,产生电离并形成等离子体。等离子体是由带电的电子和离子组成,反应腔体中的气体在电子的撞击下,除了转变成离子外,还能吸收能量并形成大量的活性基团。活性反应基团由于扩散或者在电场作用下到达SiO2表面,在那里与被刻蚀材料表面发生化学反应,并形成挥发性的反应生成物脱离被刻蚀物质表面,被真空

单晶多晶硅片生产工艺流程详解

在【技术应用】单晶、多晶硅片生产工艺流程详解(上)中,笔者介绍了单晶和多晶硅片工艺流程的前半部分,概述了一些工艺流程和概念,以及术语的相关知识。而本文则是从切片工艺开始了解,到磨片和吸杂,看硅片如何蜕变。 切片 切片综述 当单晶硅棒送至硅片生产区域时,晶棒已经过了头尾切除、滚磨、参考面磨制的过程,直接粘上碳板,再与切块粘接就能进行切片加工了。 为了能切割下单个的硅片,晶棒必须以某种方式进行切割。切片过程有一些要求:能按晶体的一特定的方向进行切割;切割面尽可能平整;引入硅片的损伤尽可能的少;材料的损失尽量少。 碳板 当硅片从晶棒上切割下来时,需要有某样东西能防止硅片松散地掉落下来。有代表性的是用碳板与晶棒通过环氧粘合在一起从而使硅片从晶棒上切割下来后,仍粘在碳板上。 碳板不是粘接板的唯一选择,任何种类的粘接板和环氧结合剂都必须有以下几个特性:能支持硅片,防止其在切片过程中掉落并能容易地从粘板和环氧上剥离;还能保护硅片不受污染。其它粘板材料还有陶瓷和环氧。 石墨 是一种用来支撑硅片的坚硬材料,它被做成与晶棒粘接部位一致的形状。大多数情况下,碳板应严格地沿着晶棒的参考面粘接,这样碳板就能加工成矩形长条。当然,碳板也可以和晶棒的其它部位粘接,但同样应与该部位形状一致。碳板的形状很重要,因为它要求能在碳板和晶棒间使用尽可能少的环氧和尽量短的距离。这个距离要求尽量短,因为环氧是一种相当软的材料而碳板和晶棒是很硬的材料。当刀片从硬的材料切到软的材料再到硬的材料,可能会引起硅片碎裂。 这里有一些选择环氧类型参考:强度、移动性和污染程度。粘接碳板与晶棒的环氧应有足够强的粘度,才能支持硅片直到整根晶棒切割完成,因此,它必须能很容易地从硅片上移走,只有最小量的污染。 刀片 当从晶棒上切割下硅片时,期望切面平整、损伤小、沿特定方向切割并且损失的材料尽量小。有一个速度快、安全可靠、经济的切割方法是很值得的。 在半导体企业,两种通常被应用的方法是环型切割和线切割。环型切割通常是指内圆切割,是将晶棒切割为硅片的最广泛采用的方法。

硅片生产流程

硅片生产流程 小组成员:吴国栋徐浩王汉杰王超 简介 硅片的准备过程从硅单晶棒开始,到清洁的抛光片结束,以能够在绝好的环境中使用。期间,从一单晶硅棒到加工成数片能满足特殊要求的硅片要经过很多流程和清洗步骤。除了有许多工艺步骤之外,整个过程几乎都要在无尘的环境中进行。硅片的加工从一相对较脏的环境开始,最终在10级净空房内完成。 工艺过程综述 硅片加工过程包括许多步骤。所有的步骤概括为三个主要种类:能修正物理性能如尺寸、形状、平整度、或一些体材料的性能;能减少不期望的表面损伤的数量;或能消除表面沾污和颗粒。硅片加工的主要的步骤如表1.1的典型流程所示。工艺步骤的顺序是很重要的,因为这些步骤的决定能使硅片受到尽可能少的损伤并且可以减少硅片的沾污。在以下的章节中,每一步骤都会得到详细介绍。 硅片加工过程步骤 1. 切片 2. 激光标识 3. 倒角 4. 磨片 5. 腐蚀 6. 背损伤 7. 边缘镜面抛光 8. 预热清洗 9. 抵抗稳定——退火 10. 背封 11. 粘片 12. 抛光 13. 检查前清洗 14. 外观检查 15. 金属清洗

16. 擦片 17. 激光检查 18. 包装/货运 切片(class 500k) 硅片加工的介绍中,从单晶硅棒开始的第一个步骤就是切片。这一步骤的关键是如何在将单晶硅棒加工成硅片时尽可能地降低损耗,也就是要求将单晶棒尽可能多地加工成有用的硅片。为了尽量得到最好的硅片,硅片要求有最小量的翘曲和最少量的刀缝损耗。切片过程定义了平整度可以基本上适合器件的制备。 切片过程中有两种主要方式——内圆切割和线切割。这两种形式的切割方式被应用的原因是它们能将材料损失减少到最小,对硅片的损伤也最小,并且允许硅片的翘曲也是最小。 切片是一个相对较脏的过程,可以描述为一个研磨的过程,这一过程会产生大量的颗粒和大量的很浅表面损伤。 硅片切割完成后,所粘的碳板和用来粘碳板的粘结剂必须从硅片上清除。在这清除和清洗过程中,很重要的一点就是保持硅片的顺序,因为这时它们还没有被标识区分。 激光标识(Class 500k) 在晶棒被切割成一片片硅片之后,硅片会被用激光刻上标识。一台高功率的激光打印机用来在硅片表面刻上标识。硅片按从晶棒切割下的相同顺序进行编码,因而能知道硅片的正确位置。这一编码应是统一的,用来识别硅片并知道它的来源。编码能表明该硅片从哪一单晶棒的什么位置切割下来的。保持这样的追溯是很重要的,因为单晶的整体特性会随着晶棒的一头到另一头而变化。编号需刻的足够深,从而到最终硅片抛光完毕后仍能保持。在硅片上刻下编码后,即使硅片有遗漏,也能追溯到原来位置,而且如果趋向明了,那么就可以采取正确的措施。激光标识可以在硅片的正面也可在背面,尽管正面通常会被用到。 倒角 当切片完成后,硅片有比较尖利的边缘,就需要进行倒角从而形成子弹式的光滑的边缘。倒角后的硅片边缘有低的中心应力,因而使之更牢固。这个硅片边缘的强化,能使之在以后的硅片加工过程中,降低硅片的碎裂程度。图1.1举例说明了切片、激光标识和倒角的过程。 磨片(Class 500k) 接下来的步骤是为了清除切片过程及激光标识时产生的不同损伤,这是磨片过程中要完成的。在磨片时,硅片被放置在载体上,并围绕放置在一些磨盘上。硅片的两侧都能与磨盘接触,从而使硅片的两侧能同时研磨到。磨盘是铸铁制的,边缘锯齿状。上磨盘上有一系列的洞,可让研磨砂分布在硅片上,并随磨片机运动。磨片可将切片造成的严重损伤清除,只留下一些均衡的浅显的伤痕;磨片的第二个好处是经磨片之后,硅片非常平整,因为磨盘是极其平整的。 磨片过程主要是一个机械过程,磨盘压迫硅片表面的研磨砂。研磨砂是由将氧化铝溶液延缓煅烧后形成的细小颗粒组成的,它能将硅的外层研磨去。被研磨去的外层深度要比切片造成的损伤深度更深。

一文看懂半导体硅片所有猫腻

一文看懂半导体硅片所有猫腻 半导体单晶硅片的生产工艺流程 单晶硅片是单晶硅棒经由一系列工艺切割而成的,制备单晶硅的方法有直拉法(CZ 法)、区熔法(FZ 法)和外延法,其中直拉法和区熔法用于制备单晶硅棒材。区熔硅单晶的最大需求来自于功率半导体器件。 单晶硅制备流程 直拉法简称CZ 法。CZ 法的特点是在一个直筒型的热系统汇总,用石墨电阻加热,将装在高纯度石英坩埚中的多晶硅熔化,然后将籽晶插入熔体表面进行熔接,同时转动籽晶,再反转坩埚,籽晶缓慢向上提升,经过引晶、放大、转肩、等径生长、收尾等过程,得到单晶硅。 区熔法是利用多晶锭分区熔化和结晶半导体晶体生长的一 种方法,利用热能在半导体棒料的一端产生一熔区,再熔接单晶籽晶。调节温度使熔区缓慢地向棒的另一端移动,通过整根棒料,生长成一根单晶,晶向与籽晶的相同。区熔法又分为两种:水平区熔法和立式悬浮区熔法。前者主要用于锗、GaAs 等材料的提纯和单晶生长。后者是在气氛或真空的炉室中,利用高频线圈在单晶籽晶和其上方悬挂的多晶硅棒的接触处产生熔区,然后使熔区向上移动进行单晶生长。由于硅熔体完全依靠其表面张力和高频电磁力的支托,悬浮于多

晶棒与单晶之间,故称为悬浮区熔法。 巨头垄断硅片市场进口替代可能性高 直拉法和区熔法的比较 单晶硅是从大自然丰富的硅原料中提纯制造出多晶硅,再通过区熔或直拉法生产出区熔单晶或直拉单晶硅,进一步形成硅片、抛光片、外延片等。直拉法生长出的单晶硅,用在生产低功率的集成电路元件。而区熔法生长出的单晶硅则主要用在高功率的电子元件。直拉法加工工艺:加料→熔化→缩颈生长→放肩生长→等径生长→尾部生长,长完的晶棒被升至上炉室冷却一段时间后取出,即完成一次生长周期。 悬浮区熔法加工工艺:先从上、下两轴用夹具精确地垂直固定棒状多晶锭。用电子轰击、高频感应或光学聚焦法将一段区域熔化,使液体靠表面张力支持而不坠落。移动样品或加热器使熔区移动。这种方法不用坩埚,能避免坩埚污染,因而可以制备很纯的单晶,也可采用此法进行区熔。 半导体单晶硅片加工工艺流程 工业生产中对硅的需求主要来自于两个方面:半导体级和光伏级。半导体级单晶硅和光伏级单晶硅在加工工艺流程中存在着一些差异,半导体级单晶硅的纯度远远高于光伏级单晶硅。半导体级单晶硅片的加工工艺流程:单晶生长→切断→外径滚磨→平边或V 型槽处理→切片,倒角→研磨,腐蚀--抛光→清洗→包装。

硅片生产过程详解

培训目的: 1、确定硅片生产过程整个目标; 2、为工艺过程确定一典型流程; 3、描述每个工艺步骤的目的; 4、在硅片生产过程中,硅片性能的三个主要关系的确定。 简介 硅片的准备过程从硅单晶棒开始,到清洁的抛光片结束,以能够在绝好的环境中使用。期间,从一单晶硅棒到加工成数片能满足特殊要求的硅片要经过很多流程和清洗步骤。除了有许多工艺步骤之外,整个过程几乎都要在无尘的环境中进行。硅片的加工从一相对较脏的环境开始,最终在10级净空房内完成。 工艺过程综述 硅片加工过程包括许多步骤。所有的步骤概括为三个主要种类:能修正物理性能如尺寸、形状、平整度、或一些体材料的性能;能减少不期望的表面损伤的数量;或能消除表面沾污和颗粒。硅片加工的主要的步骤如表1.1的典型流程所示。工艺步骤的顺序是很重要的,因为这些步骤的决定能使硅片受到尽可能少的损伤并且可以减少硅片的沾污。在以下的章节中,每一步骤都会得到详细介绍。 表1.1 硅片加工过程步骤 1.切片 2.激光标识 3.倒角 4.磨片 5.腐蚀 6.背损伤 7.边缘镜面抛光 8.预热清洗 9.抵抗稳定——退火 10.背封 11.粘片 12.抛光 13.检查前清洗 14.外观检查 15.金属清洗 16.擦片 17.激光检查 18.包装/货运

切片(class 500k) 硅片加工的介绍中,从单晶硅棒开始的第一个步骤就是切片。这一步骤的关键是如何在将单晶硅棒加工成硅片时尽可能地降低损耗,也就是要求将单晶棒尽可能多地加工成有用的硅片。为了尽量得到最好的硅片,硅片要求有最小量的翘曲和最少量的刀缝损耗。切片过程定义了平整度可以基本上适合器件的制备。 切片过程中有两种主要方式——内圆切割和线切割。这两种形式的切割方式被应用的原因是它们能将材料损失减少到最小,对硅片的损伤也最小,并且允许硅片的翘曲也是最小。 切片是一个相对较脏的过程,可以描述为一个研磨的过程,这一过程会产生大量的颗粒和大量的很浅表面损伤。 硅片切割完成后,所粘的碳板和用来粘碳板的粘结剂必须从硅片上清除。在这清除和清洗过程中,很重要的一点就是保持硅片的顺序,因为这时它们还没有被标识区分。 激光标识(Class 500k) 在晶棒被切割成一片片硅片之后,硅片会被用激光刻上标识。一台高功率的激光打印机用来在硅片表面刻上标识。硅片按从晶棒切割下的相同顺序进行编码,因而能知道硅片的正确位置。这一编码应是统一的,用来识别硅片并知道它的来源。编码能表明该硅片从哪一单晶棒的什么位置切割下来的。保持这样的追溯是很重要的,因为单晶的整体特性会随着晶棒的一头到另一头而变化。编号需刻的足够深,从而到最终硅片抛光完毕后仍能保持。在硅片上刻下编码后,即使硅片有遗漏,也能追溯到原来位置,而且如果趋向明了,那么就可以采取正确的措施。激光标识可以在硅片的正面也可在背面,尽管正面通常会被用到。 倒角 当切片完成后,硅片有比较尖利的边缘,就需要进行倒角从而形成子弹式的光滑的边缘。倒角后的硅片边缘有低的中心应力,因而使之更牢固。这个硅片边缘的强化,能使之在以后的硅片加工过程中,降低硅片的碎裂程度。图1.1举例说明了切片、激光标识和倒角的过程。 图1.1 磨片(Class 500k) 接下来的步骤是为了清除切片过程及激光标识时产生的不同损伤,这是磨片过程中要完成的。在磨片时,硅片被放置在载体上,并围绕放置在一些磨盘上。硅片的两侧都能与磨盘接触,从而使硅片的两侧能同时研磨到。磨盘是铸铁制的,边缘锯齿状。上磨盘上有一系列的洞,可让研磨砂分布在硅片上,并随磨片机运动。磨片可将切片造成的严重损伤清除,只留下一些均衡的浅显的伤痕;磨片的第二个好处是经磨片之后,硅片非常平整,因为磨盘是极其平整的。 磨片过程主要是一个机械过程,磨盘压迫硅片表面的研磨砂。研磨砂是由将氧化铝溶液延缓煅烧后形成的细小颗粒组成的,它能将硅的外层研磨去。被研磨去的外层深度要比切片造成的损伤深度更深。

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