浅谈半导体光刻技术的发展趋势

樊乡

【摘要】文章通过对目前国内外光刻设备生产厂商对下一代光刻技术的开发及目前已经应用到先进生产线上的光刻技术及设备进行了对比研究,对光刻技术和光刻设备的发展趋势进行了介绍,并对我国今后半导体光刻技术及设备的发展提出了合理化建议.

【期刊名称】《中国高新技术企业》

【年(卷),期】2009(000)006

【总页数】2页(P89-90)

【关键词】半导体光刻技术;PSM技术;离子束曝光技术;极紫外光刻技术

【作者】樊乡

【作者单位】上海交通大学微电子学院,上海,200030

【正文语种】中文

【中图分类】经济财政

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