实验六 半导体发光器件的电致发光测量

实验六  半导体发光器件的电致发光测量
实验六  半导体发光器件的电致发光测量

半导体发光器件的电致发光测量

一、实验内容与目的

1.了解半导体发光材料电致发光的基本概念。

2.了解并掌握半导体显微探针测试台、光纤光谱仪的使用。

3.掌握半导体发光材料电致发光特性的测量方法。

二、实验原理概述

1. 辐射跃迁

半导体材料受到某种激发时,电子产生由低能级向高能级的跃迁,形成非平衡载流子。这种处于激发态的电了在半导体中运动一段时间后,又回到较低的能量状态,并发生电子-空穴对的复合。复合过程中,电了以不同的形式释放出多余的能量。如跃迁过程伴随着放出光子,这种跃迁成为辐射跃迁。作为半导体发光材料,必须是辐射跃迁占优势。

半导体中的主要辐射复合过程包括:带边复合、电子从自由态到束缚态的复合、施主-受主对复合、等电了杂质束缚激子复合、通过深能级的复合等。带边复合包括导带电子与价带空穴复合、自由激子复合、束缚在中性或电离状态的浅施主和受主上的束缚激子复合等。导带的电子跃迁到价带,与价带空穴相复合,伴随的光子发射,称为本征跃迁。显然这种带与带之间的电子跃辽所引起的发光过程,是本征吸收的逆过程。如图6.1(a)所示,对于直接带隙半导体,导带与价带极值都在k空间原点,本征跃迁为直接跃迁。由于直接跃迁的发光过程只涉及一个电了一空穴对和一个光子,其辐射效率较高。直接带隙半导体,包括Ⅱ-Ⅳ族和部分Ⅲ-Ⅴ族(如GaAs等)化合物,都是常用的发光材料。如图8.1(b)所示,间接带隙半导体中,导带和价带极值对应于不同的波矢k,这时发生的带与带之间的跃迁是间接跃迁。在间接跃迁过程中,除了发射光子外,还有声子参与。因此,这种跃迁比直接跃迁的几率小得多,Ge、Si和部分Ⅲ-Ⅴ族半导体都是间接带隙半导体,它们的发光比较微弱。

图6.1 本征幅射跃迁

图6.2施主受主间跃迁

如果将杂质掺入半导体,则会在带隙中产生施主(Donor)及受主(Acceptor)的能级,因此又可能产生不同的复合而发出光。电子从导带跃迁到杂质能级,或杂质能级上的电子跃迁入价带,或电子在杂质能级间的跃迁都可以引起发光,这类跃迁称为非本征跃迁。间接带隙半导体本征跃迁几率很小,非本征跃迁起主要作用。图 6.2所示为施主与受主之间的跃迁。这种跃迁效率高,多数发光二极管属于这种跃迁机理。在施主-受主对的复合中,过剩电子、空穴先分别被电离的施主和受主俘获,然后中性施主上的电予隧道跃迁到中性受主并发射一个光子。若把施主和受主看成点电荷,把晶体看作连续介质,施主与受主之间的库仑作用力使受激态能量增大,其增量与施主-受主杂质问距离r成正比,所发射的光子能量为:

ην=E

g ?(E

D

+E

A

)+q

2

4πεε

r

式中,ED和EA分别为施主和受主的电离能,ε是晶体的低频介电常数。对简单的替位施主和受主杂质,r只能取一系列的不连续值,因此,施主-受主复合发光是一系列分离谱线,随着r的增大,成为一发射带。

图6.3 p-n结能带

2. 电致发光

根据不同的激发过程,可以有各种发光过程,如:光致发光、阴极发光、电致发光等。

半导体的电致发光(EL),也称场致发光,是由电流(电场)激发载流子,将电能直接转变成光能的过程。EL包括低场注入型发光和高场电致发光。前者是发光二极管(LED)和半导体激光器的基础。本实验只涉及这类EL谱的测量。

发光二极管是通过电光转换实现发光的光电子厂器件,是主要的半导体发光器件之一,具有广泛的应用,如各类显示、数据通讯等。特别是通过白色发光二极管实现固体照明,不仅可以节省能源、减少污染,而且体积小、寿命长,因此固态照明已被全世界重视。

图6.4 在双异质结中由宽带隙半导体材料隔

开的中间发光区,更高的载流子浓度及载

流子限定的改善。

所有商用LED都具有p-n结结构,因此以p-n结的发光为例来说明注入发光机制。p型半导体是掺杂了受主杂质,而n型则是掺杂了施主杂质,将两种材料放在一起,即得到p-n 结。n型半导体中产生电子,p型半导体中产生空穴,在其中间产生耗尽层。图6.3所示为发光二极管p-n结的能带结构。p-n结处于平衡时,存在一定的势垒区,如图86场也相应地减弱(图8.3(b))。这样继续发生载流子的扩散,即电子由n区注入p区,同时空穴由p 区注入到n区。进入p区的电子和进入n区的空穴都是非平衡少数载流子。这些非平衡少数载流子不断与多数载流子复合而发光。

如果采用异质结,发光效率可以得到显著的提高。图 6.4所示为由宽带隙半导体材料隔开的中间发光区,两种类型的过剩载流子从两侧注入并被限制在同一区域,过剩载流子数目显著提高。随着载流子浓度的提高,辐射寿命缩短,导致更为有效的辐射复合。如果中间有源区域减小到10nm或更小就形成量子阱,由于其厚度与德布罗意波长相近,量子力学效应出现,载流子状态密度变得更高,从而可以获得很高的发光效率。这是目前商用LED的实际结构。

对于LED应用,最重要的半导体材料包括:AlGaAs(覆盖从红光到红外的很宽的波长范围),InAlGaP(覆盖了红、橙、黄、绿可见光谱区域),InGaN(覆盖绿光、蓝光和紫外光谱),GaAsP(覆盖了从红外到可见光谱中部的很宽的波长范围)。InGaN是可实现蓝光和紫外光的LED的重要材料,成为发展白光固态照明的关键。图6.5给出了基于InGaN量子阱的蓝光LED的典型结构。

图6.5 基于InGaN量子阱的蓝光LED的典型结构3. 电致发光性质的测量系统

图6.6 电致发光实验系统示意图

图6.7 一台手动式半导体显微探针测试台

电致发光谱的测量系统如图 6.6所示,其基本结构与光致发光测量装置类似,主要区是用高稳定度直流电源代替了光致发光谱测量中所用的激发光源。针对半导体发光器件的电致发光的测量中,电源与发光器件的连接通常在探针测试台上进行,由金属微探针压在发光器件上预制的电极表面形成欧姆接触,使直流电源输出的电压和电流无损耗地加到被测器件上。实际生产的LED,其核心部分是包含制备于半导体衬底上的量子阱的半导体晶片,称为LED芯片。通常在封装前单个LED芯片的面积小于lmm2,因此探针与其电极的连接需要在显微镜下完成。图 6.7显示了一台实验室常用的手动式半导体显微探针测试台,其基本构造包括支架平台,载物台,探针座以及显微系统。其中载物台可通过精密机械机构进行360度自由旋转及X-Y平移,配合探针座的移动保证被测芯片上的任意位置都能被点测到。载物台上有若干吸附孔,与真空泵连接,能够吸住被测芯片平贴于台面上,防止测试时滑动。探针座上也包含高精度的X-Y-Z线性移动机构,用来移动探针精确点扎到预定的电极上。探针座通过磁力吸附于支架平台上。测试探针安装于探针座探针针杆上。用于电致发光测试的探针其针尖材质通常为钨,针杆材质为镍,具有小的接触电阻和高的柔性,能与被测芯片表面形成良好接触并不损伤芯片。探针针尖的曲率半径为1-20μm可选。探针座上引出导线可与直流电源输出端连接。

本实验的光谱测量采用微型光纤光谱仪。这类光谱仪具有体积小、即插即用、检测速度快、配置灵活、操作方便等特点。图6.8为一台USB接口的微型光纤光谱仪的结构图。其中内置了先进的探测器和强大的高速电路系统,与扫描式单色仪相比,由于采用了线性探测器阵列,不需要转动光栅来工作,光栅永久固定,保证了性能的长期稳定,并能够实现高速检测,配合电子快门,全谱测量的最短积分时间可达到数毫秒。

图6.8一台USB微型光纤光谱仪的内部结构。(1)SMA905连接器,由光纤导入的信号线经由SMA905连接器进入光学平台。SMA905连接器精确地对准光纤断面,固定狭缝、滤光片等。(2)固定入射狭缝,信号光首先通过作为入射孔的固定狭缝。狭缝的宽度从5μm 到200μm可选。狭缝固定在SMA905连接器中,和光纤端面对准。(3)长通吸收滤光片。(4)准直镜。将入射光准直后,投射到光栅上。(5)光栅。(6)聚焦镜。将一级衍射光谱聚焦到探测器面板上。(7)探测器聚光透镜。被固定于探测器的窗片上,将通过狭缝高度方向的信号光聚焦到窄小的探测器像元上,提高采集信号光的效率。(8)探测器。采用包含数千像元的线性CCD阵列。每个像元对不同波长的信号光产生响应。产生的电信号经过软件处理后得到完整的光谱。

三、实验方法与步骤

实验仪器与材料

手动式半导体显微探针测试台:1台

探针座:2只

探针:2根

石英光纤(SMA905接头):1根

卤钨灯光源(SMA905接头):1台

高精度直流电源:1台

微型光纤光谱仪:1台

微型计算机:1台

InGaN或AIGaAs LED芯片:若干

实验方法与操作步骤

(一)测试系统的连接与调整

1.用石英光纤连接探针测试台上光收集单元与卤钨灯光

源,开启卤钨灯光源,根据被测样品在载物台上的实际位置调整探针测试台上光

收集单元的位置与方向,使其出射光斑(定位光斑)照射于显微镜视野可及的区

域,作为实际的测试点位置。

2.以导线连接探针座电极与直流电源输出端。开启直流

电源,根据需要调整限流电流(如为l00)。

3.将被测LED芯片放置于载物台上,覆盖其上的吸附

孔。开启真空泵和真空阀门开关,使芯片被稳固地吸附于载物台平面上。通过载

物台平移机构将芯片移动到定位光斑位置。

4.关闭卤钨灯光源。将石英光纤连接卤钨灯光源端改接

到微型光纤光谱仪的输入端口。用USB连接线连接微型光纤光谱仪与计算机。开

启光谱仪电源。启动计算机。启动光谱仪控制程序。

(二)探针与电极的连接

1.调节显微镜的倍率,以能够清楚观察探针尖端及LED

芯片上电极为度。

2.使用载物台上X轴/Y轴平移机构移动载物平台,将待

测电极移动至显微镜视野中央。

3.待测点位置确认好后,再调节探针座的位置,将探针

装上后可先通过目艮视将探针移到接近待测点的位置旁,再使用探针座上下左右

三个旋钮,慢慢的通过显微镜观察将探针移至测试点,此时动作一定要小心,以

防动作太大而碰伤到芯片,将探针针尖轻触或稍微悬空到待测电极上。(滑动探针

可以电极上留下划痕,视为接触)

4.调节探针座的Z轴旋钮使探针尖扎在待测电极上,确

保针尖和电极良好接触。则可以通过连接的测试设各开始测试。

(三)电致发光的测量

1.调节直流电压源的输出电压V(0-4伏),记录直流电

压源的输出电流(驱动电流)I,绘制LED芯片的I-V曲线。

数据记录如下:

V(v) 2.

2.6 2.7 2.8 2.9 3

3.1 3.2 3.3 3.4 3.5 3.6 3.7 3.8 3.9 4

5

I(mA) 0 1 3 6 10 14 19 23 29 34 40 47 53 60 67 75

2.通过微型光纤光谱仪测量与一组预定的驱动电流值对

应的LED的电致发光谱,绘制光谱曲线。

记录的相应的电压与电流值如下:

I(mA) 5 10 15 20 25 30 35 40 45 50

V(v) 2.79 2.94 3.07 3.16 3.26 3.36 3.44 3.53 3.62 3.71 画的曲线如下:

光谱曲线如下:

3.

根据电致发光谱计算出发光峰的面积,绘制发光峰面

积-驱动电流曲线。

计算的面积如下: I(mA) 5 10

15

20

25

30

35

40

45

50 area

43,175.10765 49,920.6035 53,248.14705 60,716.28975 91,895.92035 167,544.787

244,824.19475 341,892.78755 415,894.2585

5

500,895.27125

绘的曲线如下:

四、思考与讨论

1.试举出几种典型的电致发光器件,并进行简要说明。

答:如LED灯,半导体激光器等。LED发出的光谱线较宽,而且人们希望得到能发出白光的光源,而半导体激光器则恰恰相反,半导体激光器发出的光一般谱线较窄,而且人们希望得到更窄的谱线。

2.介绍几种发光二极管在日常生活中的应用。

答:做显示及照明,如LED灯,二极管的报警装置灯等。还可以做指示灯,背光灯灯,比如用作广告牌,车尾灯,背光键盘等。

3.比较发光二极管与光电二极管的工作机理,设计一个由发光二极管和光电二极管组成

的运动感知机构。

答:发光二极管:利用电的泵浦,产生大量的电子-空穴对,电子和空穴会经过复合而产生光。

光电二极管:光照射在PN结上会被电子吸收,相应的电子因此而获得动能而运动(突破了能级的束缚),会因此而产生光电流。

设计:将发光二极管绑定在运动的物体上,用光电二极管做探测器,当物体运动时,发光二极管与光电二极管之间的距离会发生改变,由于光强与距离的平方成反比,因此光电二极管接受的光强会随距离有规律的变化,相应产生的电流也会变化,通过测量产生的电流可以得到物体运动的规律。

半导体专业实验补充silvaco器件仿真..

实验2 PN结二极管特性仿真 1、实验内容 (1)PN结穿通二极管正向I-V特性、反向击穿特性、反向恢复特性等仿真。 (2)结构和参数:PN结穿通二极管的结构如图1所示,两端高掺杂,n-为耐压层,低掺杂,具体参数:器件宽度4μm,器件长度20μm,耐压层厚度16μm,p+区厚度2μm,n+区厚度2μm。掺杂浓度:p+区浓度为1×1019cm-3,n+区浓度为1×1019cm-3,耐压层参考浓度为5×1015 cm-3。 图1 普通耐压层功率二极管结构 2、实验要求 (1)掌握器件工艺仿真和电气性能仿真程序的设计 (2)掌握普通耐压层击穿电压与耐压层厚度、浓度的关系。 3、实验过程 #启动Athena go athena #器件结构网格划分; line x loc=0.0 spac= 0.4 line x loc=4.0 spac= 0.4 line y loc=0.0 spac=0.5 line y loc=2.0 spac=0.1 line y loc=10 spac=0.5 line y loc=18 spac=0.1 line y loc=20 spac=0.5 #初始化Si衬底; init silicon c.phos=5e15 orientation=100 two.d #沉积铝; deposit alum thick=1.1 div=10 #电极设置 electrode name=anode x=1 electrode name=cathode backside #输出结构图 structure outf=cb0.str tonyplot cb0.str #启动Atlas go atlas #结构描述

半导体器件基础测试题

第一章半导体器件基础测试题(高三) 姓名班次分数 一、选择题 1、N型半导体是在本征半导体中加入下列物质而形成的。 A、电子; B、空穴; C、三价元素; D、五价元素。 2、在掺杂后的半导体中,其导电能力的大小的说法正确的是。 A、掺杂的工艺; B、杂质的浓度: C、温度; D、晶体的缺陷。 3、晶体三极管用于放大的条件,下列说法正确的是。 A、发射结正偏、集电结反偏; B、发射结正偏、集电结正偏; C、发射结反偏、集电结正偏; D、发射结反偏、集电结反偏; 4、晶体三极管的截止条件,下列说法正确的是。 A、发射结正偏、集电结反偏; B、发射结正偏、集电结正偏; C、发射结反偏、集电结正偏; D、发射结反偏、集电结反偏; 5、晶体三极管的饱和条件,下列说法正确的是。 A、发射结正偏、集电结反偏; B、发射结正偏、集电结正偏; C、发射结反偏、集电结正偏; D、发射结反偏、集电结反偏; 6、理想二极管组成的电路如下图所示,其AB两端的电压是。 A、—12V; B、—6V; C、+6V; D、+12V。 7、要使普通二极管导通,下列说法正确的是。 A、运用它的反向特性; B、锗管使用在反向击穿区; C、硅管使用反向区域,而锗管使用正向区域; D、都使用正向区域。 8、对于用万用表测量二极管时,下列做法正确的是。 A、用万用表的R×100或R×1000的欧姆,黑棒接正极,红棒接负极,指针偏转; B、用万用表的R×10K的欧姆,黑棒接正极,红棒接负极,指针偏转; C、用万用表的R×100或R×1000的欧姆,红棒接正极,黑棒接负极,指针偏转; D、用万用表的R×10,黑棒接正极,红棒接负极,指针偏转; 9、电路如下图所示,则A、B两点的电压正确的是。 A、U A=3.5V,U B=3.5V,D截止;

半导体发光器件试题及答案

半导体发光器件 一、1. 590nm波长的光是黄光;380nm波长的光是紫光(填颜色),可见光的波长范围是380-780 nm。 2. LED TV背光源常用到的LED芯片型号为2310,其尺寸为 23mil×10mil,即 584.2 um×254 um。1mil=25.4um 3. 发光二极管的亮度用__L_符号表示,单位是cd/m2 . 4、目前市场主流的白光LED产品是由蓝光芯片产生的蓝光与其激发YAG荧光粉产生的黄光混合而成的,且该方面的专利技术主要掌握在日本日亚化学公司手中。 5、色温越偏蓝,色温越高(冷),偏红则色温越低(暖)。 6、对于GaAs、SiC衬底的大功率LED芯片,采用银胶来固晶;对于蓝宝石绝缘衬底的LED 芯片,采用双电极或V型型电极,利用绝缘胶来固定芯片。 7. 银胶的性能和作用主要体现在:固定芯片、导电性、导热性。 二、1. LED灯具的光是聚光还是散光的?(A) A. 两者都有 B. 聚光 C. 散光 D. 两者皆无 2. 对于多芯片集成的大功率LED进行封装时,下列说法错误的 是( B )p57 A. 要对LED芯片进行严格挑选,正向电压相差应在±0.1V之内,反向电压要大于10V B. 排列芯片时,要让芯片之间没有间隙 C. LED芯片要保持高度一致, D. 铝基板挖槽的大小和深度,要根据芯片的多少和出光角度大小来确定 3. 下列关于数码管说法中,不正确的是(D)p41 A. 数码管是一种平面发光器件 B. 反射罩式数码管具有字形大、用料省、组装灵活的优点 C. 数码管一般采用共阴极或者共阳极电路 D. 4位0.4英寸的单色数码管需要用到28个LED芯片,组成4个“日”字4. 大功率LED的L型电极封装方式中,芯片与热沉之间用的粘结材料为(B)P54 A. 金锡合金或银锡合金 B. 导热硅胶 C. 环氧树脂 D. 绝缘胶 5. 光效和照度的单位分别是?(B)P104 A. Lm, lux B. Lm/w, lux C. Lm, lm/w D. Lm/w,MCD 6. 以下哪种指的是反向电压(D)P97 A. IR B. VF C. IF D. VR 7. LED路灯的设计中,需要注意的是(B) A. 灯具到达路面的亮度应该均匀 B. 路面的照度应该均匀一致 C. 灯具的配光曲线要符合朗伯曲线 D. 路灯的亮度越高越好 8.以下哪种不是LED的正极表示方式 (D ) A. + B. P C. 阳极 D. 阴极 9.以下哪种不是发光二极管的优点 ( B ) A. 体积小 B. 色彩丰富 C:节能 D:单颗亮度高 10.LED作为汽车的刹车灯是因为 ( C ) A. 体积小 B. 色彩鲜艳 C. 反应速度快 D. 省电 11.目前我国常用蓝光芯片的材质为 ( C ) A. InGaP B. InGaAs C. InGaN D. InGaAl 12.下列哪种材料不能作为LED的衬底材料。(D ) A.砷化镓 B.硅 C. 蓝宝石 D.PPV 三、1.使用普通的线性稳压器MC7809,可以实现对直流电的降压,如下图所示,电路图中的MC7809输入电压为17V,输出恒压9V,每只白光LED的正向工作电压V F=3.5V,工作电流I F=350mA,求解:

实验六 半导体器件仿真实

实验六半导体器件仿真实验 姓名:林少明专业:微电子学学号11342047 【实验目的】 1、理解半导体器件仿真的原理,掌握Silvaco TCAD 工具器件结构描述流程及特 性仿真流程; 2、理解器件结构参数和工艺参数变化对主要电学特性的影响。 【实验原理】 1. MOSFET 基本工作原理(以增强型NMOSFET 为例): 图 1 MOSFET 结构图及其夹断特性 当外加栅压为0 时,P 区将N+源漏区隔开,相当于两个背对背PN 结,即使在源漏之间加上一定电压,也只有微小的反向电流,可忽略不计。当栅极加有正向电压时,P 型区表面将出现耗尽层,随着V GS的增加,半导体表面会由耗尽层转为反型。当V GS>V T时,表面就会形成N 型反型沟道。这时,在漏源电压V DS的作用下,沟道中将会有漏源电流通过。当V DS一定时,V GS越高,沟道越厚,沟道电流则越大。

2. MOSFET 转移特性 V DS 恒定时,栅源电压 V GS 和漏源电流 I DS 的关系曲线即是 MOSFET 的转移特性。 对于增强型 NMOSFET ,在一定的 V DS 下, V GS =0 时, I DS =0;只有 V GS >V T 时,才有 I DS >0。图 2 为增强型 NMOSFET 的转移特性曲线。 图 2 增强型 NMOSFET 的转移特性曲线 图中转折点位置处的 V GS (th ) 值为阈值电压。 3. MOSFET 的输出特性 对于 NMOS 器件,可以证明漏源电流: 令n = ox WC L μβ,称β为增益因子。 (1)()DS GS T V V V <<- 由于 V DS 很小,忽略2DS V 项,可得:

几种新型半导体发光材料的研究进展(精)

几种新型半导体发光材料的研究进展 摘要:概述了三种新型半导体发光材料氮化镓、碳化硅、氧化锌各自的特性,评述了它 们在固态照明中的使用情况,及其研究现状,并对其未来的发展方向做出了预测。 关键词:LED发光二极管;发光材料;ZnO, SiC,GaN 1引言 在信息技术的各个领域中,以半导体材料为基础制作的各种各样的器件,在人们的生活中几乎无所不及,不断地改变着人们的生活方式、思维方式,提高了人们的生活质量,促进了人类社会的文明进步。它们可用作信息传输,信息存储,信息探测,激光与光学显示,各种控制等等。半导体照明是一种基于半导 体发光二极管新型光源的固态照明,是21世纪最具发展前景的高技术领域之一,已经成为人类照明史上继白炽灯、荧光灯之后的又一次飞跃。固态照明是一种新型的照明技术,它具有电光转换效率高、体积小、寿命长、安全低电压、节能、环保等优点。发展固态照明产业可以大规模节约能源,对有效地保护环境,有利 于实现我国的可持续发展具有重大的战略意义。从长远来看,新材料的开发是重 中之重。发光材料因其优越的物理性能、必需的重要应用及远大的发展前景而在材料行业中备受关注。 本文综述了近几年来对ZnQ SiC, GaN三种新型半导体发光材料的研究进展。 2几种新型半导体发光材料的特征及发展现状 在半导体的发展历史上,1990年代之前,作为第一代的半导体材料以硅(包括锗)材料为主元素半导体占统治地位?但随着信息时代的来临,以砷化镓(GaAS 为代表的第二代化合物半导体材料显示了其巨大的优越性?而以氮化物(包括SiC、ZnO等宽禁带半导体)为第三代半导体材料,由于其优越的发光特征正成为最重要的半导体材料之一.以下对几种很有发展前景的新型发光材料做简要介绍? 2.1氮化傢(GaN) 2.1.1氮化镓的一般特征 GaN是一种宽禁带半导体(Eg=3.4 ev),自由激子束缚能为25mev,具有宽的直接带隙,川族氮化物半导体InN、GaN和A lN的能带都是直接跃迁型,在性质上相互接近,它们的三元合金的带隙可以从1.9eV连续变化到6.2eV,这相应于覆盖光谱中整个可见光及远紫外光范围?实际上还没有一种其他材料体系具有如此宽的和连续可调的直接带隙? GaN!优良的光电子材料,可以实现从红外到紫外全可见光范围的光发射和红、黄、蓝三原色具备的全光固体显示,强的原子键,高的热导率和强的抗辐射能力,其光跃迁几率比间接带隙的高一个数量级.GaNM有较高的电离度,在川-V的化合物中是最高的(0.5或0.43).在大气压下,GaN一般是六方纤锌矿结构.它的一个原胞中有4个原子,原子体积大约为GaAS勺一半.GaN是极稳定的化合物,又是坚硬的高熔点材 :1

电致发光及原理

电致发光及原理 电致发光ElectroluminescenceEL是物质在一定的电场作用下被相应的电能所激发而产生的发光现象。电致发光EL是一种直接将电能转化为光能的现象。早在20世纪初虞瑟福就发现了SiC晶体在电场作用下的发光。电致发光作为一种平面光源引起了人们的极大爱好。人们企图实现照明光源从点光源、线光源到面光源的革命。自从无机发光板硫化锌和磷砷化镓化合物发明以来电致发光已被广泛应用在很多领域取得了令人瞩目的成就。尽管粉末电致发光现象早在1937年就被发现但直到50年代将硫化锌和有机介质涂敷在透明导电玻璃上再做上第二电极加上交流电压才实现稳定的电致发光。人们逐渐把目光投向了性能更为优良的新一代平板显示器件工艺更简单的新型有机电致发光器件OLED。 1.电致发光材料从发光材料角度可将电致发光分为无机电致发光和有机电致发光。无机电致发光材料一般为等半导体材料。有机电致发光材料依占有机发光材料的分子量的不同可以区分为小分子和高分子两大类。小分子OLED材料以有机染料或颜料为发光材料高分子OLED材料以共轭或者非共轭高分子聚合物为发光材料典型的高分子发光材料为PPV及其衍生物。有机电致发光材料依据在OLED器件中的功能及器件结构的不同又可以区分为空穴注进层HIL、空穴传输层HTL、发光层EML、电子传输层ETL、电子注进层EIL等材料。其中有些发光材料本身具有空穴传输层或者电子传输层的功能这样的发光材料也通常被称为主发光体发光材料层中少量掺杂的有机荧光或者磷光染料可以接受来自主发光体的能量转移和经过载流子捕捉carriertrap的机制而发出不同颜色的光这样的掺杂发光材料通常也称为客发光体或者掺杂发光体英文用Dopant表示。从发光原理角度电致发光可以分为高场电致发光和低场电致发光。 2.电致发光的原理和器件结构从发光原理电致发光可以分为高场电致发光和低场电致发光。高场电致发光是一种体内发光效应。发光材料是一种半导体化合物掺杂适当的杂质引进发光中心或形成某种介电状

实验六 半导体发光器件的电致发光测量1

实验六半导体发光器件的电致发光测量 081190088 杨静 一.实验内容与目的 (1)了解半导体发光材料电致发光的基本概念。 (2)了解并掌握半导体显微探针测试台、光纤光谱仪的使用。 (3)掌握半导体发光材料电致发光特性的测量方法。 二.实验原理概述 1.辐射跃迁 半导体材料受到某种激发时,电子产生由低能级向高能级的跃迁,形成非平衡载流子。这种处于激发态的电子在半导体中运动一段时间后,又回到较低的能量状态,并发生电子—空穴对的复合。复合过程中,电子以不同的形式释放出多余的能量。如跃迁过程伴随着放出光子,这种跃迁成为辐射跃迁。作为半导体发光材料,必须是辐射跃迁占优势。 导带的电子跃迁到价带,与价带空穴相复合,伴随的光子发射,称为本征跃迁。显然这种带与带之间的电子跃迁所引起的发光过程,是本征吸收的逆过程。对于直接带隙半导体,导带与价带极值都在k 空间原点,本征跃迁为直接跃迁。由于直接跃迁的发光过程只涉及一个电子—空穴对和一个光子,其辐射效率较高。间接带隙半导体中,导带与价带极值对应于不同的波矢k,这时发生的带与带之间的跃迁是间接跃迁。在间接跃迁过程中,除了发射光子外,还有声子参与。因此,这种跃迁比直接跃迁的几率小的多,发光比较微弱。

如果将杂质掺入半导体,则会在带隙中产生施主及受主的能级,因此又可能产生不同的复合而发光。电子从导带跃迁到杂质能级,或杂质能级上的电子跃迁入价带,或电子在杂质能级间的跃迁都可以引起发光,这类跃迁称为非本征跃迁。间接带隙半导体本征跃迁几率较小,非本征跃迁起主要作用。施主与受主之间的跃迁效率较高,多数发光二极管属于这种跃迁机理。在施主—受主对的复合中,过剩电子、空穴先分别被电离的施主和受主看成点电荷,把晶体看作连续介质,施主与受主之间的库伦作用力使受基态能量增大,其增量与施主—受主杂质间距离r 成正比,所发射的光子能量为: ην=E g -(E D +E A )+r πεε402q 式中E D 和E A 分别为施主和受主的电离能,ε是晶体的低频介电常数。 对简单的替位施主和受主杂质,r 只能取一系列的不连续值,因此,施主—受主复合发光是一系列分离谱线,随着r 的增大,成为一发射带。 2.电致发光 根据不同的激发过程,可以有各种发光过程,如:光致发光、阴极发光、电致发光等。 半导体的电致发光(EL ),也称场致发光,是由电流(电场)激发载流子,将电能直接转变成光能的过程。EL 包括低场注入型发光和高场电致发光。前者是发光二极管(LED )和半导体激光器的基础。本实验只涉及这类EL 谱的测量。 发光二极管是通过电光转换实现发光的光电子器件,是主要的半

模电实验报告——半导体器件特性仿真

实验报告 课程名称:___模拟电子技术基础实验_____实验名称:____半导体器件特性仿真____实验类型:__EDA___ 一、实验目的和要求(必填) 二、实验内容和原理(必填) 三、主要仪器设备(必填) 四、操作方法和实验步骤 五、实验数据记录和处理 六、实验结果与分析(必填) 七、讨论、心得 一、 实验目的和要求 1、了解PSPICE 软件常用菜单和命令的使用。 2、掌握PSPICE 电路图的输入和编辑。 3、学习PSPICE 分析设置、仿真、波形查看等方法。 4、学习半导体器件特性的仿真分析方法。 二、 实验内容和原理 1、二极管伏安特性测试电路如图3.1.1所示,输入该电路图,设置合适的分析方式及参数,用PSpice 程序仿真分析二极管的伏安特性。 2、在直流分析中设置对温度的内嵌分析,仿真分析二极管在不同温度下的伏安特性。 3、将电源Vs 用VSIN 元件代替,并设置合适的元件参数,仿真分析二极管两端的输出波形。 4、三极管特性测试电路如图3.1.2所示,用PSpice 程序仿真分析三极管的输出特性,并估算电压放大倍数。 图3.1.1 二极管特性测试电路 图3.1.2 三极管特性测试电路 三、 主要仪器设备 装有PSpice 程序的PC 机 四、 操作方法和实验步骤 1、二极管特性的仿真分析

受温度影响。用PSpice仿真时,从元件库中选出相应元件,连线,设置分析参数。二极管特性测试电路的直流扫描分析参数可设置为:扫描变量类型为电压源,扫描变量为Vs,扫描类型为线性扫描,初始值为-200V,终值为40V,增量为0.1V。为了仿真分析二极管在不同温度下的伏安特性,还需设置直流扫描的内嵌分析(Nested Sweep),内嵌分析参数可设置为:扫描变量类型为温度,扫描类型为列表扫描,扫描值为-10(℃),0(℃),30(℃)。在Probe程序中可查看到二极管的伏安特性曲线,其横坐标应为二极管两端电压V(2)。为了分析温度对二极管伏安特性的影响,可以改变X坐标轴和Y坐标轴的范围,得到二极管在不同温度下的正向伏安特性曲线。 2、三极管特性的仿真分析 三极管的共射输出特性曲线是在一定的基极电流下,三极管的集电极电流与集电极发射极电压之间的关系。用PSpice仿真时,从元件库中选出相应元件,连线,设置分析参数。直流扫描分析参数可设置为:扫描变量类型为电压源,扫描变量为VCC,扫描类型为线性扫描,初始值为0V,终值为50V,增量为0.1V。设置直流扫描的内嵌分析(Nested Sweep),内嵌分析参数可设置为:扫描变量类型为电流源,扫描类型为IB,扫描类型为线性扫描,初始值为0,终值为100μA,增量为10μA。在Probe程序中可查看到三极管集电极电流IC(Q1)的曲线,需将X轴变量设置为三极管集电极与发射极之间的电压V(Q1:c),并选择合适的坐标范围 ,可得到三极管的输出特性曲线。 五、实验数据记录和处理 1、二极管特性的仿真分析

半导体发光器件(led常识)(精)

半导体发光器件(led常识) 半导体发光器件包括半导体发光二极管(简称LED)、数码管、符号管、米字管及点阵式显示屏(简称矩阵管)等。事实上,数码管、符号管、米字管及矩阵管中的每个发光单元都是一个发光二极管。 一、半导体发光二极管工作原理、特性及应用 (一)LED发光原理 发光二极管是由Ⅲ-Ⅳ族化合物,如GaAs(砷化镓)、GaP(磷化镓)、GaAsP(磷砷化镓)等半导体制成的,其核心是PN结。因此它具有一般P-N结的I-N特性,即正向导通,反向截止、击穿特性。此外,在一定条件下,它还具有发光特性。在正向电压下,电子由N区注入P区,空穴由P区注入N区。进入对方区域的少数载流子(少子)一部分与多数载流子(多子)复合而发光,如图1所示。 假设发光是在P区中发生的,那么注入的电子与价带空穴直接复合而发光,或者先被发光中心捕获后,再与空穴复合发光。除了这种发光复合外,还有些电子被非发光中心(这个中心介于导带、介带中间附近)捕获,而后再与空穴复合,每次释放的能量不大,不能形成可见光。发光的复合量相对于非发光复合量的比例越大,光量子效率越高。由于复合是在少子扩散区内发光的,所以光仅在靠近PN结面数μm以内产生。 理论和实践证明,光的峰值波长λ与发光区域的半导体材料禁带宽度Eg有关,即 λ≈1240/Eg(mm) 式中Eg的单位为电子伏特(eV)。若能产生可见光(波长在380nm紫光~780nm红光),半导体材料的Eg应在3.26~1.63eV之间。比红光波长长的光为红外光。现在已有红外、红、黄、绿及蓝光发光二极管,但其中蓝光二极管成本、价格很高,使用不普遍。 (二)LED的特性 1.极限参数的意义 (1)允许功耗Pm:允许加于LED两端正向直流电压与流过它的电流之积的最大值。超过此值,LED 发热、损坏。 (2)最大正向直流电流IFm:允许加的最大的正向直流电流。超过此值可损坏二极管。 (3)最大反向电压VRm:所允许加的最大反向电压。超过此值,发光二极管可能被击穿损坏。 (4)工作环境topm:发光二极管可正常工作的环境温度范围。低于或高于此温度范围,发光二极管将不能正常工作,效率大大降低。 2.电参数的意义

有机电致发光综述

有机电致发光综述 本文对有机电致发光显示器件的发展历史,器件结构、工作特征、获得彩色显示的方法以及所具有的优缺点、发展现状和趋势等都做了简要的概括。详细比较了小分子OLED与聚合物PLED、OLED与LCD性质上的比较,对OLED显示的发光机理进行了详细的综述。此外,对获得彩色显示的无源驱动电路和有源驱动电路的结构进行了总结,认为有源驱动将是最终发展趋势。最后总结了国内外OLED技术的发展状况。 关键词:小分子有机电致发光有机聚合物电致发光无源驱动有源驱动 (作者:姚华文,上海华嘉光电技术有限公司,上海市嘉定区招贤路928号,201821) 有机电致发光显示(organic electroluminesence Display)技术被誉为具有梦幻般显示特征的平面显示技术,因其发光机理与发光二极管(LED)相似,所以又称之为OLED(organic light emitting diode)。2000年以来,OLED受到了业界的极大关注,开始步入产业化阶段。 1.发展历史 1936年,Destriau将有机荧光化合物分散在聚合物中制成薄膜,得到最早的电致发光器件。 20 世纪50年代人们就开始用有机材料制作电致发光器件的探索,A. Bernanose等人在蒽单晶片的两侧加上400V的直流电压观测到发光现象,单晶厚10mm~20mm,所以驱动电压较高。1963年M. Pope等人也获得了蒽单晶的电致发光。70年代宾夕法尼亚大学的Heeger 探索了合成金属[1]。1987年Kodak公司的邓青云首次研制出具有实用价值的低驱动电压(<10V,>1000cd/m2)OLED器件(Alq作为发光层)[2]。1990年,Burroughes及其合作者研究成功第一个高分子EL(PLED)(PPV作为发光层),更为有机电致发光显示器件实用化进一步奠定了基础。1997年单色有机电致发光显示器件首先在日本产品化,1999年月,日本先锋公司率先推出了为汽车音视通信设备而设计的多彩有机电致发光显示器面板,并开始量产,同年9月,使用了先锋公司多色有机电致发光显示器件的摩托罗拉手机大批量上市[3]。这一切都表明,OLED技术正在逐步实用化,显示技术又将面临新的革命[4]。 2.器件分类 按照组件所使用的载流子传输层和发光层有机薄膜材料的不同,OLED可区分为两种不同的技术类型。 一是以有机染料和颜料等为发光材料的小分子基OLED,典型的小分子发光材料为Alq(8-羟基喹啉铝);另一种是以共轭高分子为发光材料的高分子基OLED,简称为PLED,典型的高分子发光材料为PPV(聚苯撑乙烯及其衍生物[5]。 3.基本结构和发光机理 OLED是基于有机材料的一种电流型半导体发光器件。其典型结构是在ITO玻璃上制作一层几十纳米厚的有机发光材料作发光层,发光层上方有一层低功函数的金属电极。当电极上

新型半导体发光材料分析及发展

西安工程大学产品造型材料与工艺 半 导 体 发 光 材 料 氮 化 镓 学校:西安工程大学 班级:13级工设01班 姓名:陈龙 学号:41302020103 日期:2015 05 10

新型半导体发光材料氮化镓(GaN)分析及发展 摘要:概述了新型半导体发光材料氮化镓的特性, 评述了它在固态照明中的使用情况,及其研究现状,并对其未来的发展方向做出了预测。 关键词:LED发光二极管;发光材料 GaN 1引言 在信息技术的各个领域中,以半导体材料为基础制作的各种各样的器件,在人们的生活中几乎无所不及,不断地改变着人们的生活方式、思维方式,提高了人们的生活质量,促进了人类社会的文明进步。它们可用作信息传输,信息存储,信息探测,激光与光学显示,各种控制等等。半导体照明是一种基于半导体发光二极管新型光源的固态照明,是21世纪最具发展前景的高技术领域之一,已经成为人类照明史上继白炽灯、荧光灯之后的又一次飞跃。固态照明是一种新型的照明技术,它具有电光转换效率高、体积小、寿命长、安全低电压、节能、环保等优点。发展固态照明产业可以大规模节约能源,对有效地保护环境,有利于实现我国的可持续发展具有重大的战略意义。从长远来看,新材料的开发是重中之重。发光材料因其优越的物理性能、必需的重要应用及远大的发展前景而在材料行业中备受关注。 本文综述了近几年来对GaN新型半导体发光材料的研究进展。 2新型半导体发光材料氮化镓(GaN)的特征及发展现状 在半导体的发展历史上,1990年代之前,作为第一代的半导体材料以硅(包括锗)材料为主元素半导体占统治地位.但随着信息时代的来临,以砷化镓(GaAs)为代表的第二代化合物半导体材料显示了其巨大的优越性.而以氮化物(包括SiC、ZnO等宽禁带半导体)为第三代半导体材料,由于其优越的发光特征正成为最重要的半导体材料之一.以下对其中一种很有发展前景的新型发光材料做简要介绍. 2.1 氮化镓(GaN) 2.1.1 氮化镓的一般特征 GaN 是一种宽禁带半导体(Eg=3.4 ev),自由激子束缚能为25mev,具有宽的直接带隙,Ⅲ族氮化物半导体InN、GaN 和A lN 的能带都是直接跃迁型, 在性质上相互接近, 它们的三元合金的带隙可以从1.9eV连续变化到6.2eV,这相应于覆盖光谱中整个可见光及远紫外光范围.实际上还没有一种其他材料体系具有如此宽的和连续可调的直接带隙. GaN是优良的光电子材料,可以实现从红外到紫外全可见光范围的光发射和红、黄、蓝三原色具备的全光固体显示,强的原子键,高的热导率和强的抗辐射能力,其光跃迁几率比间接带隙的高一个数量级.GaN具有较高的电离度,在Ⅲ-V的化合物中是最高的(0.5或0.43).在大气压下,GaN一般是六方纤锌矿结构.它的一个原胞中有4个原子,原子体积大约为GaAS的一半.GaN是极稳定的化合物,又是坚硬的高熔点材料,熔点约为1700?C.文献[1]列出了纤锌矿GaN和闪锌矿GaN的特性

半导体发光材料

半导体发光材料具有优异的光电催化及光电转化活性等特性, 已应用于光学材料, 太阳能材料,压电晶体和激光材料等领域。近年来,由于纳米材料科学的兴起人们对半导体发光材料的制备方法,性能及其应用进行了大量的研究,取得了重要的成就。 ZnSe半导体发光材料的研究进展 美国贝尔实验室在所制备的CdSe纳米粉体中发现,随着CdSe颗粒尺寸的减小发光带的波长逐渐变小,通过控制CdSe纳米颗粒的大小,制得了可在红、绿、蓝光之间变化的可调谐发光管。 1991年,美国3M公司研制成功了世界上第一个ZnSe基电泵浦蓝绿色激光器,引 起了国际上学术界极大的轰动。 近年来,对ZnSe基蓝绿色半导体激光器的研究,取得了里程碑式的研究成果。用ZnSe材料制成的半导体蓝色激光器和发光二极管在水下通讯、通信、复印、高密度的信息储存、高分辨率的图像显示、信号指示以及医学、基础研究、环境检测、战地生 化检测等方面有着极为广阔的应用前景。蓝色激光器用于彩色高分辨率的图像传真,在海底等一些特殊环境下通信更为安全可靠以蓝色激光取代目前激光打印机上普遍采 用的红外激光或红色激光,由于其感应灵敏度的提高,可使打印速度提高一到二个量级。 在当前材料科学研究中ZnSe 半导体发光材料的制备技术倍受关注,追求获得成分纯正、结晶良好、光电性能稳定、低欧姆接触电阻、长寿命的ZnSe材料,成为21世 纪引人注目的焦点。经过40 多年的漫长探索,人们打破传统的“热平衡生长”材料制备方法,ZnSe材料的制备技术已取得了长足的进步。 尽管ZnSe基蓝绿色半导体激光器在四到五年内,连续工作时间由秒级提高到现 在的400h,工作电压也由最初的20v左右降低到目前的3.7v取得了长足的进步与发 展!但如何获得高净空浓度的p型掺杂,实现良好的低阻欧姆接触,延长器件使用寿命,使之达到实用化,仍然存在大量的课题,还需要不懈的努力与探索。 LED用半导体发光材料的产业现状 半导体技术在引发微电子革命之后,又在孕育一场新的产业革命——照明革命, 其标志就是用半导体光源逐步替代白炽灯和荧光灯。

半导体发光器件包括半导体发光二极管(简称LED)(精)

半导体发光器件包括半导体发光二极管(简称LED)、数码管、符号管、米字管及点阵式显示屏(简称矩阵管)等。事实上,数码管、符号管、米字管及矩阵管中的每个发光单元都是一个发光二极管。 一、半导体发光二极管工作原理、特性及应用 (一)LED发光原理 发光二极管是由Ⅲ-Ⅳ族化合物,如GaAs(砷化镓)、GaP(磷化镓)、GaAsP(磷砷化镓)等半导体制成的,其核心是PN结。因此它具有一般 P-N结的I-N特性,即正向导通,反向截止、击穿特性。此外,在一定条件下,它还具有发光特性。在正向电压下,电子由N区注入P区,空穴由P区注入N区。进入对方区域的少数载流子(少子)一部分与多数载流子(多子)复合而发光,如图1所示。 假设发光是在P区中发生的,那么注入的电子与价带空穴直接复合而发光,或者先被发光中心捕获后,再与空穴复合发光。除了这种发光复合外,还有些电子被非发光中心(这个中心介于导带、介带中间附近)捕获,而后再与空穴复合,每次释放的能量不大,不能形成可见光。发光的复合量相对于非发光复合量的比例越大,光量子效率越高。由于复合是

在少子扩散区内发光的,所以光仅在靠近PN结面数μm以内产生。 理论和实践证明,光的峰值波长λ与发光区域的半导体材料禁带宽度Eg有关, 即λ≈1240/Eg(mm)式中Eg的单位为电子伏特(eV)。若能产生可见光(波长在380nm紫光~780nm红光),半导体材料的Eg应在3.26~1.63eV 之间。比红光波长长的光为红外光。现在已有红外、红、黄、绿及蓝光发光二极管,但其中蓝光二极管成本、价格很高,使用不普遍。 (二)LED的特性 1.极限参数的意义 (1)允许功耗Pm:允许加于LED两端正向直流电压与流过它的电流之积的最大值。超过此值,LED发热、损坏。 (2)最大正向直流电流IFm:允许加的最大的正向直流电流。超过此值可损坏二极管。 (3)最大反向电压VRm:所允许加的最大反向电压。超过此值,发光二极管可能被击穿损坏。 (4)工作环境topm:发光二极管可正常工作的环境温度范围。低于或高于此温度范围,发光二极管将不能正常工作,效率大大降低。

电致发光显示

论文:电致发光显示(LED) 学院:理学院 班级:物理12 姓名:骆宾祥 学号:120123802038

电致发光电显示(LED) 姓名:骆宾祥学号:120123802038 引言:随着行业的继续发展,技术的飞跃突破,应用的大力推广,LED的光效也在不断提高,价格不断走低。新的组合式管芯的出现,也让单个LED管(模块)的功率不断提高。通过同业的不断努力研发,新型光学设计的突破,新灯种的开发,产品单一的局面也有望在进一步扭转。控制软件的改进,也使得LED照明使用更加便利。这些逐步的改变,都体现出了LED发光二极管在照明应用的前景广阔。LED产品在世界各个领域都有很好的应用前景,主要在:LED电子显示屏,交通信号灯,汽车用灯,液晶屏背光源,灯饰,照明光源等六大领域应用。 关键词:LED,电致发光材料,应用 目录: 一.电致发光材料介绍 ----------------------------------------------------------------------------------------- 3 1.电致发光的定义: --------------------------------------------------------------------------------------- 3 2.电致发光的种类 ------------------------------------------------------------------------------------------ 3 3.电致发光材料分类 --------------------------------------------------------------------------------------- 3 二.无机电致发光材料的的发展及展望 ------------------------------------------------------------------ 3 三.无机电致发光显示(LED) ------------------------------------------------------------------------------- 3 1.发光二极管------------------------------------------------------------------------------------------------- 3 2.LED构造 --------------------------------------------------------------------------------------------------- 4 3.LED材料 --------------------------------------------------------------------------------------------------- 5 4.LED光源原理--------------------------------------------------------------------------------------------- 6 5.LED发光原理--------------------------------------------------------------------------------------------- 6 6.LED工作原理--------------------------------------------------------------------------------------------- 7 7.LED光源的特点------------------------------------------------------------------------------------------ 8 四.单色光LED和白光LED --------------------------------------------------------------------------------- 8 1.单色光LED---------------------------------------------------------------------------------------------7 2.白光LED --------------------------------------------------------------------------------------------------- 8 五.电致发光显示(LED)的应用领域------------------------------------------------------------------- 10 1. LED显示屏 ---------------------------------------------------------------------------------------------- 10 2. 交通信号灯 ---------------------------------------------------------------------------------------------- 10 3.汽车用灯--------------------------------------------------------------------------------------------------- 11 4.液晶屏背光源 -------------------------------------------------------------------------------------------- 11 5.灯饰--------------------------------------------------------------------------------------------------------- 11 6.照明光源--------------------------------------------------------------------------------------------------- 11

半导体器件综合测试实验报告

1实验目的 了解、熟悉半导体器件测试仪器,半导体器件的特性,并测得器件的特性参数。掌握半导体管特性图示仪的使用方法,掌握测量晶体管输入输出特性的测量方法; 测量不同材料的霍尔元件在常温下的不同条件下(磁场、霍尔电流)下的霍尔电压,并根据实验结果全面分析、讨论。 2实验内容 测试3AX31B、3DG6D的放大、饱和、击穿等特性曲线,根据图示曲线计算晶体管的放大倍数; 测量霍尔元件不等位电势,测霍尔电压,在电磁铁励磁电流下测霍尔电压。 3实验仪器 XJ4810图示仪、示波器、三极管、霍尔效应实验装置。 4实验原理 4.1三极管的主要参数 4.1.1 直流放大系数 共发射极直流放大系数β β=-( 4-1) (I I)/I C CEO B 时,β可近似表示为 当I I C CEO β=( 4-2) I/I C B 4.1.2 交流放大系数 共发射极交流放大系数β定义为集电极电流变化量与基极电流变化量之比,即

CE C B v i i β=?=?常数 ( 4-3) 4.1.3 反向击穿电压 当三极管内的两个PN 结上承受的反向电压超过规定值时,也会发生击穿,其击穿原理和二极管类似,但三极管的反向击穿电压不仅与管子自身的特性有关,而且还取决于外部电路的接法。 4.2霍尔效应 霍尔效应是导电材料中的电流与磁场相互作用而产生电动势的效应,从本质上讲,霍尔效应是运动的带电粒子在磁场中受洛仑兹力的作用而引起的偏转。当带电粒子(电子或空穴)被约束在固体材料中,这种偏转就导致在垂直电流和磁场的方向上产生正负电荷在不同侧的聚积,从而形成附加的横向电场。 图4-1 霍尔效应示意图 如图4-1所示,磁场B 位于Z 的正向,与之垂直的半导体薄片上沿X 正向通以电流s I (称为控制电流或工作电流),假设载流子为电子(N 型半导体材料),它沿着与电流s I 相反的X 负向运动。由于洛伦兹力L f 的作用,电子即向图中虚线箭头所指的位于y 轴负方向的B 侧偏转,并使B 侧形成电子积累,而相对的A 侧形成正电荷积累。与此同时运动的电子还受到由于两种积累的异种电荷形成的反向电场力E f 的作用。随着电荷积累量的增加,E f 增大,当两力大小相等(方向相反)时,L f =-E f ,则电子积累便达到动态平衡。这时在A 、B 两端面之间建立的电场称为霍尔电场H E ,相应的电势差称为霍尔电压H V 。

新型半导体材料与器件仿真实验项目

新型半导体材料与器件仿真实验项目 课程介绍与课件 电子科学与技术专业及微电子科学与工程专业的教学内容中,涉及到半导体纳米材料与器件。纳米材料与器件的宏观物理特性是由材料的微观电子结构所决定的。但是,材料的微观电子结构无法直接观察和测量,对学生理解和掌握所学知识带来了一定的难度;其次,制备纳米材料时需要考虑很多因素,如起始反应物的选择、反应物用量和配比,反应条件的设计。为了获得性能好的产品,往往需要进行大量重复性的实验,对每一次实验结果进行分析检测,再改进方案重新实验。即不断反复试验、不断摸索、不断修改,一直到获得最佳的结果为止。如果需要摸索的条件多,实验研究的过程相应会增长,不利于提高研究效率。 通过虚拟仿真实验,以图形化、视频化的方式,栩栩如生的向学生展示了纳米材料的微观电子结构与宏观光学特性之间的关系;降低了实验成本。加深了学生对学科基础理论知识的理解,使学生掌握本专业领域常用的设计与仿真软件工具,增强学生分析问题、解决问题的能力,进而达到较佳的教学效果。 在教学中,以启发式教学为主的教学方法。采用录像、视频的形式,演示课程中所涉及的文物保护纳米涂层的作用,演示纳米材料的吸收光谱随纳米线尺寸的变化。这部分穿插在多媒体课件中实施,解决传统课程黑板讲述不直观的问题。激发学生的学习兴趣。每次实验前,将学生分成若干个小组,通过小组讨论,进行合作学习,培养学生的思维表达能力,让学生多多参与,亲自动手、亲自操作、激发学习兴趣、促进学生主动学习。小组讨论后,指导教师先进行一个基本的实验流程操作,对一些关键或容易出错之处进行强调,使学生首先有一个感性的认识。每次实验都编排有依实验过程的相关问题的实验报告,学生一边实验操作一边思考,达到对理论或难点知识的深刻理解。为了给学生提供一个良好的实验条件, 在课后学生可以在校园网内任何网络端口可全天候上机实践,并与指导老师进行交互。若有任何问题,学生可以在网络平台给教师留言,进行意见反馈。

半导体发光器件

半导体发光器件_一、半导体发光二极管工作原理、特性及应用 作者:佚名文章来源:不详 点击数:440 更新时间:2005-11-13 半导体发光器件包括半导体发光二极管(简称LED)、数码管、符号管、米字管及点阵式显示屏(简称矩阵管)等。事实上,数码管、符号管、米字管及矩阵管中的每个发光单元都是一个发光二极管。 一、半导体发光二极管工作原理、特性及应用 (一)LED发光原理 发光二极管是由Ⅲ-Ⅳ族化合物,如GaAs(砷化镓)、GaP(磷化镓)、GaAsP(磷砷化镓)等半导体制成的,其核心是PN结。因此它具有一般P-N结的I-N特性,即正向导通,反向截止、击穿特性。此外,在一定条件下,它还具有发光特性。在正向电压下,电子由N 区注入P区,空穴由P区注入N区。进入对方区域的少数载流子(少子)一部分与多数载流子(多子)复合而发光,如图 1所示。 假设发光是在P区中发生的,那么注入的电子与价带空穴直接复合而发光,或者先被发光中心捕获后,再与空穴复合发光。除了这种发光复合外,还有些电子被非发光中心(这个中心介于导带、介带中间附近)捕获,而后再与空穴复合,每次释放的能量不大,不能形成可见光。发光的复合量相对于非发光复合量的比例越大,光量子效率越高。由于复合是在少子扩散区内发光的,所以光仅在靠近PN结面数μm以内产生。 理论和实践证明,光的峰值波长λ与发光区域的半导体材料禁带宽度Eg有关,即 λ≈1240/Eg(mm) 式中Eg的单位为电子伏特(eV)。若能产生可见光(波长在380nm紫光~780nm红光),半导体材料的Eg应在3.26~1.63eV之间。比红光波长长的光为红外光。现在已有红外、红、黄、绿及蓝光发光二极管,但其中蓝光二极管成本、价格很高,使用不普遍。 (二)LED的特性

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