半导体激光器的安全使用操作

半导体激光器的安全使用操作
半导体激光器的安全使用操作

实验一半导体激光器的安全使用操作一、实验目的

?熟悉半导体激光器的一般常识。

?掌握半导体激光器的安全使用及操作。

?熟悉半导体激光器波导腔的特性及输出偏振特性。

?了解PN结平面及快慢轴方向的分辨。

?熟悉半导体激光器的出厂技术参数。

二. 半导体激光器原理及常识介绍

2.1运行机理

对于典型的双异质结半导体器激光器是靠PN结正向注入和载流子的复合发光的,要使它发射激光需具备的条件是:①粒子数反转分布;②有合适的光谐振腔起反馈作用;③满足一定的阀值条件。对于条件①一般是采用简并的P型和N型半导体构成PN结,大量的载流子注入PN结区,成为反转分布区。对于条件②结型半导体激光器的光谐振腔通常用与PN 结平面相垂直的自然解理面构成的平面腔。在作用区内,开始时导带中的电子自发地跃迁到价带和空穴复合,产生相位/方向并不相同的光子,大部分光子一产生便穿出PN结区,但也有一部分光子在PN结区平面内穿行,并且在PN结内行进相当长的距离,因而它们能够激发产生许多同样的光子。这些光子在两个平行的平面镜间不断地来回反射,每反射一次就得到进-步的放大。这样不断地重复和发展,就使得这种辐射趋于占压倒的优势,即辐射逐渐集中到平面镜上,而且方向垂直于反射面,形成激光输出。对于条件③半导体激光器的阀值电

流密度为(3-1)

其中、分别为增益因子与损耗因子;为谐振腔的长度,R1、R2为两腔镜的反射率。

2. 2波导腔的特性

半导体激光器其腔结构可看成是一波导腔,在垂直于P-N结平面方向(横向)一般为对称或非对称三层波导结构,为降低阈值,其有源层厚度仅为0.1~0.2 μm左右。根椐平板波导原理,在该波导中只允许基模传输,即其输出为基横模,输出偏振为TE,且发散角很

大。而在平行于P-N结平面方向(侧向),一般为增益导引结构,其输出模式称为侧模,空间分布往往非常复杂,输出多模振荡,并随着注入电流增加,振荡模数也增加。

2. 3制造常识

半导体激光器谐振腔最常用的是由垂至于P-N结的两个严格互相平行的(110)解理面构成F-P谐振腔,腔长一般为200 μm~500 μm。半导体材料的折射率都很高,如GaAs的折射率η=3.6,两个解理面在不镀膜的情况下,也能获得32%的反射率。为了提高输出功率和降低工作电流,一般使其中的一个反射面上镀上全反膜,为改善性能,实际中往往采用多种形式的谐振腔,如短腔、分布反馈腔等。

图3-1所示的半导体激光器是把p-n结切成方块,焊上电极,长方形的侧面磨毛,其两断面是平行平面,形成F-P腔,这两个断面可以是磨制而成的,一般直接利用晶体的解理面。当施加于激光器的电流超过阈值时,便产生激光辐射,散热器用来降温,以使激光二极管输出稳定的光强和稳定的波长。这些早期的半导体激光器也称之为边缘发射半导体激光器(edge-emitting semiconductor laser),因其狭窄的断面使得它的输出光束截面不是圆形的,而是椭圆形的,而且其发散角较大。

图3-1 半导体激光器结构示意图

由上图可以看出,由出射激光的光斑即可判断这种边缘发射半导体激光器的结平面方向。发散角较大的方向,如图上的Y方向,它与结平面方向垂直,又称为横向;而发散角较小的方向,如图上的X方向,为与结平面平行的方向,又称为侧向。

我们一般称发散角较大的方向为快轴方向,由于在该方向上是基横模振荡,因此我们把快轴又称为高相干轴。而发散角较小的方向则称为慢轴方向,由于在该方向上是多侧模振荡,因此我们把慢轴又称为低相干轴。

近几年利用集成电路技术,研制了一种所谓垂直腔表面发射半导体激光器(vertical cavity surface-emitting semiconductor laser简称VCSELs),克服了边缘发射半导体激

光器的缺点。它能够在同一块板上集成一百万只小激光器,其激发电流仅1mA,VCSELs的商品化将带来光电脑的革新,有助于实现人工智能;并将带来光纤通信联网的革新等。这种表面发射半导体激光器的重要特征之一,是从垂直于半导体薄片的方向发射激光,这样就使激光束的截面成为圆形,并且激光器的发散角减小了,从而克服了原来从半导体侧面发射激光的缺点。有兴趣的同学可参看半导体激光器方面的资料,本实验不涉及VCSEL激光器。

对于典型的双异质结边发射半导体器激光器,从输出功率来分,可分为LD(Laser Diode) 、LDA(Laser Diode Array) 、LD Bar(Laser Diode Bar)及LD Stack(Laser Diode Stack)。对单管LD,其发光面尺寸一般约为1 μm ′ 3 μm,由于腔内激光功率密度过高,可能造成腔镜膜层的破坏,因此其输出功率小于200 mW。因此,为了增加激光输出功率,只能增加

激光器的侧向长度,由此发展了LD Array, 其发光面尺寸一般可达到1 μm ′ 50 μm 至 1 μm ′ 700 μm, 功率可达到7 W。进而发展了LD Bar, 其发光面尺寸一般为1 μm ′ 1 cm,功率可达几十瓦。更大功率的半导体激光器则采用了一维及二维LD Stack,它是由多个LD Bar排列起来的,制造中考虑了器件的散热情况。

2. 4 半导体激光器的出厂技术参数

每只半导体激光器在出厂时都会附有一份出厂技术参数,基本包含以下内容:

产品系列的编号等内容,包括:Module;Serial No;Chip No。对应激光器的工作特性,包括:Po(最大输出功率)(W);Ith(阈值电流)(A);Io(最大工作电流)(A);Vo(工作电压)(V);Es(斜效率)(W/A);Ep(量子效率)(%);对应激光器的输出特性:中心波长0(nm)及光谱曲线;(慢轴发散角)(deg)(FWHM);(快轴发散角)(deg)(FWHM);测试条件:Tc(温度)()实验中所用的半导体激光器技术参数均可以从计算中查阅。首先在半导体激光器

电源的外壳上找到其相应的固定资产号码(此号码也能在LD的散热片上找到),然后在D:光电子学实验LD技术参数目录下打开文件“LD与固定资产号码对应表”,查到LD管子的Chip No.,再打开该管子号码相应的技术参数文件(.pdf文件)。

2. 5 安全使用及操作

2. 5. 1 半导体激光器

半导体激光器,由于它价格昂贵,操作麻烦,一不小心就会损坏,所以要千万小心。我们从以下几个方面要求大家了解半导体激光器的一般安全知识并遵守操作规程。

(1)激光二极管很容易受到正向浪涌或静电而击穿,导致永久损坏。为了高效的、且可在低电压下驱动激光二极管,必须阈值电流()低、微分量子效率()高,如此则加大了静电击穿的可能性。比如我们直接用手接触没有任何保护措施的半导体激光器,立即导致管子的静电击穿。而正向浪涌能导致发光端面击穿(光学性击穿),这种击穿大多数是因为自动功率控制电路的设计不良(偏移调整、振荡、接触不良、杂散电容等),比如由于电流无缓慢启动装置,因上升瞬态特性而被正向浪涌击穿;或者当激光二极管工作时,在旁接通同一交流线上的荧光灯开关时,突然产生浪涌,激光二极管一瞬间为过电流击穿。在使用半导体激光器时应采取以下一些措施:

a) 必须使用具有电流缓慢启动装置的驱动电源。

b) 当我们必须用手直接操作半导体激光器(如连线焊接或接插件插抜)前,人体必须通过500K欧姆~1000K欧姆的高电阻和大地连接。具体做法是:先将手平放在铁制平台上,以消除人体上的静电;然后把已接地的1MΩ电阻缠在手腕上(有专用工具)或者至少要带上防静电的橡胶手套。

c) 电烙铁须良好接地或电烙铁加热后焊接激光二极管前先断开交流电源。

d) 在装运过程中应注意选用摩擦不产生放电的包装材料,尽量用导电材料或铝箔,一般PN结应短路以确保运输安全。或者若半导体激光器长时间不用,PN结也应短路。

e) 激光二极管远离高频源。

(2)光电子学实验选用了波长为800 nm左右,功率为500 mW的GaAlAs半导体激光器,并选用了HH-V型半导体激光器驱动电源。系统除具有多重安全保护措施(如在半导体激光器的散热片上安置了LD的短路开关等)外,还能提供半导体制冷(或制热)实现半导体激光器的温度控制。在实际操作中必须注意以下几点:

a) 电源的驱动电流必须小于半导体激光器技术参数中的额定最大值,即610 mA 左右(以各管子的技术参数为准)。

b) 电源的“开”或“关”可能产生尖峰电流会直接损伤激光二极管,因此每次在电源的“开”或“关”操作前必须先把电流调节旋钮调至最小(电流调节钮为多圈电位器,调节时应反时针旋转到不能转动时为止),并且关掉LD工作开关(即短路LD)。同样在“开启”或“关掉”LD工作开关前也必须先把电流调节旋钮调至最小。

c) 半导体激光器通常在室温下工作,其温度一般设定在20?C~25?C左右。过高的温度将导致其发光效率的下降及管子寿命的快速降低。

d) 为延长LD管子的寿命,在没有必要的情况下,LD驱动电流不要过大。

2. 5.2 HH-V型半导体激光器电源

HH-V型半导体激光器电源输出电流稳定、具有电流缓慢启动装置、抗干扰性能强,能保证半导体激光器安全可靠地工作。它的输出电流范围为60~680 mA,电流指示值误差,电流稳定度为。它还能驱动半导体制冷(或制热)器实现LD的温度控制。HH-V型半导体激光器电源的使用操作说明如下。

操作面板如图3-2所示。

1、输出电流显示

2、输出电流调节旋钮

3、温度控制调节旋钮

4、LD工作开关

5、电源开关

图3-2 半导体激光器电源的操作面板

在实验中该电源和激光二极管的使用要严格按照操作规程来进行,否则容易损坏半导体激光器。具体的操作步骤如下:

1) 打开电源开关前,先确认LD工作开关处在“关闭”状态,此时其红色指示灯不亮,并反时针将电流调节旋钮拧到头。

2)打开电源开关前,先调节LD的温度设定至20?C~25?C范围内。每台LD电源的温度调节刻度(多圈电位器,读数0~100)与设定温度之间的关系请同学们在计算机中查阅:在D:光电子学实验LD温度与调节刻度的关系目录下打开与LD电源固定资产号码对应的文件(.opj文件),固定资产号码可容易地在半导体激光器电源的外壳上(或LD的散热片上)找到。

3)把电源(黑色船形开关)打开,电流输出显示为 0 mA。此时温度控制器即开始工作,一般2~4分钟LD的温度就到达你所设定的温度。

4) 开启LD的短路开关(LD的短路开关安置在半导体激光器的散热片上,开关向上为短路状态,向下为正常工作状态),打开LD工作开关(红色船形开关),红色指示灯亮,缓慢拧动电流调节旋钮,将电流调至所需值。若驱动电流大于半导体激光器的阈值,此时应有激光输出(由于LD输出为近红外光,本实验用频率上转换材料制成的激光显示片来观察半导体激光器的输出,转换后显示为黄色),同时由于激光输出而导致发热,2分钟后温度自动到达设定值并稳定下来。

注意: 1。在调节电流时,大于500mA后电流上升非常快,请谨慎调节,以免驱动电流超过半导体激光器最大工作电流,损坏激光器。驱动电流不要大于610mA。

2.当实验环境温度很高(如29℃)及空气潮湿时,由于设定温度及环境温度的温差,可能造成LD保护窗口结露,影响激光输出。此时只能调高LD设定温度,待温度稳定后,用擦镜纸把LD保护窗口擦干。

4) 使用完毕,先将电流调节反时针旋至最小值,“关掉”LD工作开关,红色指示灯熄灭,“关闭”电源开关,“短路”半导体激光器(短路开关向上)。

警告:HH-V型半导体激光器电源和半导体管子的连线已连接好,严禁拆卸该接插件。三.实验内容

1.仔细阅读实验中所用半导体管子的出厂技术参数(从计算机中查阅:首先在半导体激光器电源的外壳上找到其相应的固定资产号码(该号码也能在LD的散热片上找到),然后

在 D:光电子学实验LD技术参数目录下打开文件“LD与固定资产号码对应表”,查到LD管子的Chip No.,再打开该管子号码相应的技术参数文件(.pdf文件),理解各项指标的含义。并填写下表:

阈值电流:=

最大工作电流:=

最大输出功率:=

外微分量子效率:=

输出功率公式 P=

输出中心波长:= nm

垂直PN结平面(快轴)的发散角(FWHM):

平行PN结平面(慢轴)的发散角(FWHM):

2.仔细阅读半导体激光器及HH-V型半导体激光器电源的安全使用知识及操作规程。严格按照操作顺序进行半导体激光器的“开” 、“关”等操作,做到操作正确、熟练。

3.严格按照半导体激光器电源的使用步骤,打开电源,调节半导体激光器驱动电流到2倍阈值电流。

4.由于LD输出为近红外光,本实验用频率上转换材料制成的激光显示片来观察半导体激光器的输出,转换后显示为黄色。用激光显示片观察半导体激光器发射的激光光斑。判断快轴和慢轴方向,确定半导体激光器结平面方向及输出偏振方向。快轴方向为;慢轴方向为;PN结平面方向为;输出偏振方向

为。

注意:当实验环境温度很高(如29℃)及空气潮湿时,由于设定温度及环境温度的温差,可能造成LD保护窗口结露,影响激光输出。此时只能调高LD设定温度,待温度稳定后,

用擦镜纸把LD保护窗口擦干。

5.调节驱动电流从阈值到3倍阈值电流或3.5倍阈值电流,观察慢轴方向发散角的变化情况。驱动电流越大,慢轴方向发散角,表明振荡模式。

6.按操作步骤,关闭激光器和电源。

四.思考题

?为什么说边发射半导体激光器在垂直于结平面方向是单横模工作的?

?使用半导体激光器需要注意哪些问题?

半导体激光器的发展与运用

半导体激光器的发展与运用 0 引言激光器的结构从同质结发展成单异质结、双异质结、量子 阱 (单、多量子阱)等多种形式, 制作方法从扩散法发展到液相外延(LP日、气相外延(VPE)、分子束外延(MBE)、金属有机化合物气相淀积(MOCVD)、化学束外延(CBE 以及它们的各种结合型等多种工艺[5].半导体激光器的应用范围十分广泛,而且由于它的体积小,结构简单,输入能量低,寿命长,易于调制和价格低等优点, 使它已经成为当今光电子科学的核心技术,受到了世界各国的高度 重视。 1 半导体激光器的历史 半导体激光器又称激光二极管(LD)。随着半导体物理的发展,人们早在20 世纪50 年代就设想发明半导体激光器。 20 世纪60 年代初期的半导体激光器是同质结型激光器, 是一种只能以脉冲形式工作的半导体激光器。在1962 年7 月召开的固体器件研究国际会议上,美国麻省理工学院林肯实验室的两名学者克耶斯(KeyeS和奎斯特(Quist、报告了砷化镓材料的光发射现象。 半导体激光器发展的第二阶段是异质结构半导体激光器,它是由两种不同带隙的半导体材料薄层,如GaAs,GaAIAs所组成的激光器。单异质结注人型激光器(SHLD,它是利用异质结提供的势垒把注入电子限制在GaAsP 一N 结的P 区之内,以此来降低阀值电流密度的激光

器。 1970 年,人们又发明了激光波长为9 000? 在室温下连续工作的双异质结GaAs-GaAlAs(砷化稼一稼铝砷)激光器. 在半导体激光器件中,目前比较成熟、性能较好、应用较广的是具有双异质结构的电注人式GaAs 二极管激光器. 从20 世纪70 年代末开始, 半导体激光器明显向着两个方向发展,一类是以传递信息为目的的信息型激光器;另一类是以提高光功率为目的的功率型激光器。在泵浦固体激光器等应用的推动下, 高功率半导体激光器(连续输出功率在100W 以上,脉冲输出功率在5W 以上, 均可称之谓高功率半导体激光器)在20 世纪90 年代取得了突破性进展,其标志是半导体激光器的输出功率显著增加,国外千瓦级的高功率半导体激光器已经商品化,国内样品器件输出 已达到600W另外,还有高功率无铝激光器、红外半导体激光器和量子级联激光器等等。其中,可调谐半导体激光器是通过外加的电场、磁场、温度、压力、掺杂盆等改变激光的波长,可以很方便地对输出 光束进行调制。 20 世纪90 年代末,面发射激光器和垂直腔面发射激光器得到了迅速的发展。 目前,垂直腔面发射激光器已用于千兆位以太网的高速网络,为了满足21 世纪信息传输宽带化、信息处理高速化、信息存储大容量以及军用装备小型、高精度化等需要,半导体激光器的发展趋势主要是向高速宽带LD大功率LD短波长LD盆子线和量子点激光器、中红外LD

半导体激光器的研究进展

半导体激光器的研究进展 摘要:本文主要述写了半导体激光器的发展历史和发展现状。以及对单晶光纤激光器进行了重点描述,因其在激光医疗、激光成像、光电对抗以及人眼安全测照等领域具有重大的应用价值,近年来成为新型固体激光源研究的热点。 一、引言。 激光是20 世纪以来继原子能、电子计算机、半导体之后人类的又一重大发明。半导体激光科学与技术以半导体激光器件为核心,涵盖研究光的受激辐射放大的规律、产生方法、器件技术、调控手段和应用技术,所需知识综合了几何光学、物理光学、半导体电子学、热力学等学科。 半导体激光历经五十余年发展,作为一个世界前沿的研究方向,伴随着国际科技进步突飞猛进的发展,也受益于各类关联技术、材料与工艺等的突破性进步。半导体激光的进步在国际范围内受到了高度的关注和重视,不仅在基础科学领域不断研究深化,科学技术水平不断提升,而且在应用领域上不断拓展和创新,应用技术和装备层出不穷,应用水平同样取得较大幅度的提升,在世界各国的国民经济发展中,特别是信息、工业、医疗和国防等领域得到了重要应用。 本文对半导体激光器的发展历史和现状进行了综述,同时因单晶光纤激光器在激光医疗、激光成像、光电对抗以及人眼安全测照等领域具有重大的应用价值,本文也将对其做重点描述。 二、大功率半导体激光器的发展历程。 1962 年,美国科学家宣布成功研制出了第一代半导体激光器———GaAs同质结构注入型半导体激光器。由于该结构的激光器受激发射的阈值电流密度非常高,需要5 × 104~1 ×105 A /cm2,因此它只能在液氮制冷下才能以低频脉冲状态工作。从此开始,半导体激光器的研制与开发利用成为人们关注的焦点。1963 年,美国的Kroemer和前苏联科学院的Alferov 提出把一个窄带隙的半导体材料夹在两个宽带隙半导体之间,构成异质结构,以期在窄带隙半导体中产生高效率的辐射复合。随着异质结材料的生长工艺,如气相外延( VPE) 、液相外延( LPE) 等的发展,1967年,IMB 公司的Woodall 成功地利用LPE 在GaAs上生长了AlGaAs。在1968—1970 年期间,美国贝尔实验室的Panish,Hayashi 和Sμmski成功研究了AlGaAs /GaAs单异质结激光器,室温阈值电流密度为8.6 × 103 A /cm2,比同质结激光器降低了一个数量级。

半导体激光器的发展与应用

题目:半导体激光器的发展与应用学院:理 专业:光 姓名:刘

半导体激光器的发展与应用 摘要:激光技术自1960年面世以来便得到了飞速发展,作为激光技术中最关键的器件激光器的种类层出不穷,这其中发展最为迅速,应用作为广泛的便是半导体激光器。半导体激光器的独特性能及优点,使其获得了广泛应用。本文就简要回顾半导体激光器的发展历程,着重介绍半导体激光器在日常生活与军用等各个领域中的应用。 关键词:激光技术、半导体激光器、军事应用、医学应用

引言 激光技术最早于1960年面世,是一种因刺激产生辐射而强化的光。激光被广泛应用是因为它具有单色性好、方向性强、亮度高等特性。激光技术的原理是:当光或电流的能量撞击某些晶体或原子等易受激发的物质,使其原子的电子达到受激发的高能量状态,当这些电子要回复到平静的低能量状态时,原子就会射出光子,以放出多余的能量;而接着,这些被放出的光子又会撞击其它原子,激发更多的原子产生光子,引发一连串的“连锁反应”,并且都朝同一个方前进,形成强烈而且集中朝向某个方向的光。这种光就叫做激光。激光几乎是一种单色光波,频率范围极窄,又可在一个狭小的方向内集中高能量,因此利用聚焦后的激光束可以对各种材料进行打孔。激光因为拥有这种特性,所以拥有广泛的应用。 激光技术的核心是激光器,世界上第一台激光器是1960年由T.H.梅曼等人制成的第红宝石激光器,激光器的种类很多,可按工作物质、激励方式、运转方式、工作波长等不同方法分类。但各种激光器的基本工作原理均相同,产生激光的必不可少的条件是粒子数反转和增益大过损耗,所以装置中必不可少的组成部分有激励(或抽运)源、具有亚稳态能级的工作介质两个部分。 半导体物理学的迅速发展及随之而来的晶体管的发明,使科学家们早在50年代就设想发明半导体激光器。在1962年7月美国麻省理工学院林肯实验室的两名学者克耶斯(Keyes)和奎斯特(Quist)报告了砷化镓材料的光发射现象,通用电气研究实验室工程师哈尔(Hall)与其他研究人员一道研制出世界上第一台半导体激光器。 半导体激光器是用半导体材料作为工作物质的一类激光器,由于物质结构上的差异,产生激光的具体过程比较特殊。常用材料有砷化镓(GaAs)、硫化镉(CdS)、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)等。激励方式有电注入、电子束激励和光泵浦三种形式。自1962年世界上第一只半导体激光器是问世以来,经过几十年来的研究,半导体激光器得到了惊人的发展,它的波长从红外、红光到蓝绿光,被盖范围逐渐扩大,各项性能参数也有了很大的提高!半导体激光器具有体积小、效率高等优点,因此可广泛应用于激光通信、印刷制版、光信息处理等方面。

半导体激光器

半导体激光器 半导体激光器又称激光二极管[1](LD)。进入八十年代,人们吸收了半导体物理发展的最新成果,采用了量子阱(QW)和应变量子阱(SL-QW)等新颖性结构,引进了折射率调制Bragg发射器以及增强调制Bragg发射器最新技术,同时还发展了MBE、MOCVD及CBE等晶体生长技术新工艺,使得新的外延生长工艺能够精确地控制晶体生长,达到原子层厚度的精度,生长出优质量子阱以及应变量子阱材料。于是,制作出的LD,其阈值电流显著下降,转换效率大幅度提高,输出功率成倍增长,使用寿命也明显加长。 A 小功率LD 用于信息技术领域的小功率LD发展极快。例如用于光纤通信及光交换系统的分布反馈(DFB)和动态单模LD、窄线宽可调谐DFB-LD、用于光盘等信息处理技术领域的可见光波长(如波长为670nm、650nm、630nm的红光到蓝绿光)LD、量子阱面发射激光器以及超短脉冲LD等都得到实质性发展。这些器件的发展特征是:单频窄线宽、高速率、可调谐以及短波长化和光电单片集成化等。 B 高功率LD 1983年,波长800nm的单个LD输出功率已超过100mW,到了1989年,0.1 mm条宽的LD则达到3.7W的连续输出,而1cm线阵LD已达到76W输出,转换效率达39%。1992年,美国人又把指标提高到一个新水平:1cm线阵LD连续波输出功率达121W,转换效率为45%。现在,输出功率为120W、1500W、3kW等诸多高功率LD均已面世。高效率、高功率LD及其列阵的迅速发展也为全固化激光器,亦即半导体激光泵浦(LDP)的固体激光器的迅猛发展提供了强有力的条件。 近年来,为适应EDFA和EDFL等需要,波长980nm的大功率LD也有很大发展。最近配合光纤Bragg光栅作选频滤波,大幅度改善其输出稳定性,泵浦效率也得到有效提高。 【特点及应用范围】半导体二极管激光器是实用中最重要的一类激光器。它体积小、寿命长,并可采用简单的注入电流的方式来泵浦其工作电压和电流与集成电路兼容,因而可与之单片集成。并且还可以用高达GHz的频率直接进行电流调制以获得高速调制的激光输出。由于这些优点,半导体二极管激光器在激光通信、光存储、光陀螺、激光打印、测距以及雷达等方面以及获得了广泛的应用。 【半导体激光器的发展及应用】半导体物理学的迅速发展及随之而来的晶体管的发明,使科学家们早在50年代就设想发明半导体激光器,60年代早期,很多小组竞相进行这方面的研究。在理论分析方面,以莫斯科列别捷夫物理研究所的尼古拉·巴索夫的工作最为杰出。 在1962年7月召开的固体器件研究国际会议上,美国麻省理工学院林肯实验室的两名学者克耶斯(Keyes)和奎斯特(Quist)报告了砷化镓材料的光发射现象,这引起通用电气研究实验室工程师哈尔(Hall)的极大兴趣,在会后回家的火车上他写

半导体激光器的发展及其应用

浅谈半导体激光器及其应用 摘要:近十几年来半导体激光器发展迅速,已成为世界上发展最快的一门激光技术。由于半导体激光器的一些特点,使得它目前在各个领域中应用非常广泛,受到世界各国的高度重视。本文简述了半导体激光器的概念及其工作原理和发展历史,介绍了半导体激光器的重要特征,列出了半导体激光器当前的各种应用,对半导体激光器的发展趋势进行了预测。 关键词:半导体激光器、激光媒质、载流子、单异质结、pn结。 自1962年世界上第一台半导体激光器发明问世以来,半导体激光器发生了巨大的变化,极大地推动了其他科学技术的发展,被认为是二十世纪人类最伟大的发明之一。近十几年来,半导体激光器的发展更为迅速,已成为世界上发展最快的一门激光技术。半导体激光器的应用范围覆盖了整个光电子学领域,已成为当今光电子科学的核心技术。由于半导体激光器的体积小、结构简单、输入能量低、寿命较长、易于调制以及价格较低廉等优点,使得它目前在光电子领域中应用非常广泛,已受到世界各国的高度重视。 一、半导体激光器 半导体激光器是以直接带隙半导体材料构成的Pn 结或Pin 结为工作物质的一种小型化激光器。半导体激光工作物质有几十种,目前已制成激光器的半导体材料有砷化镓、砷化铟、锑化铟、硫化镉、碲化镉、硒化铅、碲化铅、铝镓砷、铟磷砷等。半导体激光器的激励方式主要有三种,即电注入式、光泵式和高能电子束激励式。绝大多数半导体激光器的激励方式是电注入,即给Pn 结加正向电压,以使在结平面区域产生受激发射,也就是说是个正向偏置的二极管。因此半导体激光器又称为半导体激光二极管。对半导体来说,由于电子是在各能带之间进行跃迁,而不是在分立的能级之间跃迁,所以跃迁能量不是个确定值, 这使得半导体激光器的输出波长展布在一个很宽的范围上。它们所发出的波长在0.3~34μm之间。其波长范围决定于所用材料的能带间隙,最常见的是AlGaAs双异质结激光器,其输出波长为750~890nm。 半导体激光器制作技术经历了由扩散法到液相外延法(LPE), 气相外延法(VPE),分子束外延法(MBE),MOCVD 方法(金属有机化合物汽相淀积),化学束外延(CBE)以及它们的各种结合型等多种工艺。半导体激光器最大的缺点是:激光性能受温度影响大,光束的发散角较大(一般在几度到20度之间),所以在方向性、单色性和相干性等方面较差。但随着科学技术的迅速发展, 半导体激光器的研究正向纵深方向推进,半导体激光器的性能在不断地提高。以半导体激光器为核心的半导体光电子技术在21 世纪的信息社会中将取得更大的进展, 发挥更大的作用。 二、半导体激光器的工作原理 半导体激光器是一种相干辐射光源,要使它能产生激光,必须具备三个基本条件: 1、增益条件:建立起激射媒质(有源区)内载流子的反转分布,在半导体中代表电子能量的是由一系列接近于连续的能级所组成的能带,因此在半导体中要实现粒子数反转,必须在两个能带区域之间,处在高能态导带底的电子数比处在低能态价带顶的空穴数大很多,这靠给同质结或异质结加正向偏压,向有源层内注入必要的载流子来实现, 将电子从能量较低的价带激发到能量较高的导带中去。当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激发射作用。 2、要实际获得相干受激辐射,必须使受激辐射在光学谐振腔内得到多次反馈而形成激光振荡,激光器的谐振腔是由半导体晶体的自然解理面作为反射镜形成的,通常在不出光的那一端镀上高反多层介质膜,而出光面镀上减反膜。对F—p 腔(法布里—珀罗腔)半导体激光器可以很方便地利用晶体的与p-n结平面相垂直的自然解理面构成F-p腔。 3、为了形成稳定振荡,激光媒质必须能提供足够大的增益,以弥补谐振腔引起的光损耗及从腔

半导体激光器

半导体激光器 摘要:由于三五族化合物工艺的发展与半导体激光器的多种优点,近几十年来,半导体激光器发展十分迅速,而且在各个领域发挥着越来越重要的作用。本文将介绍半导体激光器的基本理论原理、相关发展历程、研究现状以及其广泛的应用。 1.引言 自1962 年世界上第一台半导体激光器发明问世以来, 半导体激光器发生了巨大的变化, 极大地推动了其他科学技术的发展, 被认为是二十世纪人类最伟大的发明之一[1], 近十几年来, 半导体激光器的发展更为迅速, 已成为世界上发展最快的一门激光技术[2]。激光器的结构从同质结发展成单异质结、双异质结、量子阱(单、多量子阱)等多种形式,制作方法从扩散法发展到液相外延(LPE)、气相外延(VPE)、分子束外延(MBE)、金属有机化合物气相淀积(MOCVD)、化学束外延(CBE) 以及它们的各种结合型等多种工艺[3]。由于半导体激光器的体积小、结构简单、输入能量低、寿命较长、易于调制及价格低廉等优点, 使得它目前在各个领域中应用非常广泛。 2.半导体激光器的基本理论原理 半导体激光器又称激光二极管(LD)。它的实现并不是只是一个研究工作者的或小组的功劳,事实上,半导体激光器的基本理论也是一大批科研人员共同智慧的结晶。 早在1953年,美国的冯·纽曼(John Von Neumann)在一篇未发表的手稿中第一个论述了在半导体中产生受激发射的可能性;认为可以通过向PN结中注入少数载流子来实现受激发射;计算了在两个布里渊区之间的跃迁速率。巴丁在总结了这个理论后认为,通过各种方法扰动导带电子和价带空穴的平衡浓度,致使非平衡少数载流子复合而产生光子,其辐射复合的速率可以像放大器那样,以同样频率的电磁辐射作用来提高。这应该说是激光器的最早概念。 苏联的巴索夫等对半导体激光器做出了杰出贡献,他在1958年提出了在半导体中实现粒子数反转的理论研究,并在1961年提出将载流子注入半导体PN结中实现“注入激光器”,并论证了在高度简并的PN结中实现粒子数反转的可能性,而且认为有源区周围高密度的多数载流子造成有源区边界两边的折射率有一差值,因而产生光波导效应。1961年,伯纳德和杜拉福格利用准费米能级的概念推导出了半导体有源介质中实现粒子数反转的条件,这一条件为次年半导体激光器的研制成功提供了重要理论指导。 1960年,贝尔实验室的布莱和汤姆逊提出了用半导体的平行解理面作为产生光反馈的谐振腔,为激发光提供反馈。 回顾这些理论发展历程,可以总结半导体激光器的基本理论原理:在直接带隙半导体PN结中,用注入载流子的方法实现伯纳德—杜拉福格条件所控制的粒子数反转;由高度简并的电子和空位复合所产生的受激光辐射在光学谐振腔内震荡并得到放大,最后产生相干激光输出[4]。 3.半导体激光器发展历程 在上述理论的影响下,以及1960年产生的红宝石激光器的刺激下,美国和苏

半导体激光器实验

实验19 半导体激光器实验 一、目的 1.理解半导体激光器的工作原理; 2.通过测量半导体激光器工作时的功率、电压、电流,利用这些参数画出P-I 、I-V 曲线,让学生了解半导体的工作特性曲线; 3.学会通过曲线计算半导体激光器的阈值,串联电阻,以及功率效率,外量子效应和外微分效应,并对三者进行比较; 4.内置四套方波信号或者外加信号直接调制激光器,通过调整不同的静态工作点,和输入信号强度大小不同,观察到截至区,线性区,限流区的信号不同响应(信号畸变,线性无畸变),了解调制工作原理。 二、原理 半导体激光器是用半导体材料作为工作物质的一类激光器,由于物质结构上的差异,产生激光的具体过程比较特殊。常用材料有砷化镓(GaAs )、硫化镉(CdS )、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)等。激励方式有电注入、电子束激励和光泵浦三种形式。 半导体激光器件,可分为同质结、单异质结、双异质结等几种。同质结激光器和单异质结激光器室温时多为脉冲器件,而双异质结激光器室温时可实现连续工作。 半导体激光器具有体积小、效率高等优点,广泛应用于激光通信、印刷制版、光信息处理等方面。 1.半导体激光器的结构与工作原理 现以砷化镓(GaAs )激光器为例,介绍注入式同质结激光器的工作原理。半导体的能带结构。半导体材料多是晶体结构。当大量原子规则而紧密地结合成晶体时,晶体中那些价电子都处在晶体能带上。价电子所处的能带称价带(对应较低能量)。与价带最近的高能带称导带,能带之间的空域称为禁带。当加外电场时,价带中电子跃迁到导带中去,在导带中可以自由运动而起导电作用。同时,价带中失掉一个电子,则相当于出现一个带正电的空穴,这种空穴在外电场的作用下,也能起导电作用。因此,价带中空穴和导带中的电子都有导电作用,统称为载流子。掺杂半导体与p-n 结。没有杂质的纯净半导体,称为本征半导体。如果在本征半导体中掺入杂质原子,则在导带之下和价带之上形成了杂质能级,分别称为施主能级和受主能级 有施主能级的半导体称为n 型半导体;有受主能级的半导体称这p 型半导体。在常温下,热能使n 型半导体的大部分施主原子被离化,其中电子被激发到导带上,成为自由电子。而p 型半导体的大部分受主原子则俘获了价带中的电子,在价带中形成空穴。因此,n 型半导体主要由导带中的电子导电;p 型半导体主要由价带中的空穴导电。 半导体激光器中所用半导体材料,掺杂浓度较大,n 型杂质原子数一般为2~5×1018cm -1;p 型为1~3×1019cm -1。 在一块半导体材料中,从p 型区到n 型区突然变化的区域称为p-n 结。其交界面处将形成一空间电荷区。n 型半导体带中电子要向p 区扩散,而p 型半导体价带中的空穴要向n 区扩散。这样一来,结构附近的n 型区由于是施主而带正电,结区附近的p 型区由于是受主而带负电。在交界面处形成一个由n 区指向p 区的电场,称为自建电场。此电场会阻止电子和空穴的继续扩散(见图19.1)。 p-n 结电注入激发机理。若在形成了p-n 结的半导体材料上加上正向偏压,p 区接正极, 图19.1 自建电场的示意图

半导体激光器的应用与分类

半导体激光器的应用与分类 半导体光发射器是电流注入型半导体PN结光发射器件,具有体积小、重量轻、直接调制、宽带宽,转换效率高、高可靠和易于集成等特点,被广泛应用。按照其发光特性,可分为激光二极管(又称半导体激光器或二极管激光器,Laser Diode,LD),通常光谱宽度不]于5nm(采取专门措施可不大于0.1nm);发光二极管(Light Emitting Diode,LED),光谱宽度一般不小于50nm;超辐射发光二极管(Superluminescent Dmde,SLD),光谱宽度不大于5nm(采取专门措施可不大于0.1nm);发光二极管(Light Emiltting,LED),光谱宽度一般不小于50nm;超辐射发光二极管(Superluminescent SLD),光谱宽度为30~50nm,本节重点介绍几种半导体激光器,钽电容简要介绍超辐射发光二极管。 半导体激光器的分类有多种方法。按波长分:中远红外激光器、近红外激光器、可见光激光器、紫外激光器等;按结构分:双异质结激光器、大光腔激光器、分布反馈激光器、垂直腔面发射激光器;按应用领域分:光通信激光器、光存储激光器、大功率泵浦激光器、引信用脉冲激光器等;按管心组合方式分:单管、阵列(线阵、面阵);按注入电流工作方式分:脉冲、连续、准连续等。 LD主要技术摄技术指标有光功率、中心波长、光谱宽度、阈值电流、工作电流、工作电压、斜率效率和电光转换效率等。 半导体激光器的光功率是指在规定驱动电流条件下输出的光功率,该指标直接与工作电流对应,这体现了半导体激光器的电流驱动特性。如果是连续驱动条件,T491T336M004AT则输出功率就是连续光功率,如果是脉冲驱动条件,输出的光功率可用峰值功率或平均功率来衡量。hymsm%ddz 半导体激光器的中心波长是指激光器所发光谱曲线的中心点所对应的波长,通常用该指标来标称激光器的发光波长。光谱宽度是标志个导体激光器光谱纯度的一个指标,通常用光谱曲线半高度对应的光谱全宽来表示。 半导体激光器的光场是发散的而且是不对称的。在垂直PN结平面方向(快轴方向),发散角较大,通常在20°~45°之间;在平行PN结平面方向(慢轴方向),发散角较小,通常在6°~12°之间。由此可以看出,半导体二极管激光器的光场在空间分布呈椭圆形。

直接半导体激光器DirectDiodeLaserSystem

直接半导体激光器 Direct Diode Laser System 锐科公司研制的RFL-DDL系列直接半导体激光器,具有电光转换效率高、调制频率宽、可靠性高、寿命长、运行免维护、结构紧凑等优点,可广泛应用于钎焊、塑料焊接、熔覆、表面热处理等领域。在熔覆应用中,锐科直接半导体激光器相对传统激光器的加工效率明显提高。此系列直接半导体激光器产品基于单管半导体芯片封装及大功率合束器技术,完全由锐科公司自主研制生产,电光转换效率接近50%,具有良好的兼容性,性价比高。 Raycus' RFL-DDL direct diode laser series feature high electrical-optical conversion efficiency, wide modulation frequency range, compact design, excellent long-term reliability and maintenance free stable operation. They can be used in brazing, plastic welding, cladding and surface heat treatment. RFL-DDL laser series have been proved with significant high efficiency in cladding applications compared with traditional lasers. Based on in-house single-emitter diode packaging and high power combiner technologies, Raycus can provide customized products for some specific requirements. 特点:Features 极高的电光转换效率Near 50% efficiency QBH输出光纤QBH beam delivery cable 免维护稳定运行maintenance free stable operation 连续/调制模式CW/Modulated mode 应用:Applications 塑料焊接Plastic welding 熔覆Cladding 热处理Heat treatment 钎焊Brazing

半导体激光器主要性能参数定义

半导体激光器 1.P-I 特性及阈值电流 P-I特性揭示了LD输出光功率与注入电流之间的变化规律,因此是LD最重要的特性之一。 典型的激光器P-I曲线 由P-I曲线可知,LD是阈值型器件,随注入电流的不同而经历了几个典型阶段。 ?当注入电流较小时,有源区里不能实现粒子数反转,自发辐射占主导地位,LD发射普通的荧光,光谱很宽,其工作状态类似于一般的发光二极管。 ?随着注入电流的加大,有源区里实现了粒子数反转,受激辐射开始占主导地位,但当注入电流仍小于阈值电流时,谐振腔里的增益还不足以克服损耗,不能在腔内建立起一定模式的振荡,LD发射的仅仅是较强的荧光, 称为“超辐射”状态。

? 只有当注入电流达到阈值以后,才能发射谱线尖锐、模式明确的激光,光 谱突然变窄并出现单峰(或多峰)。 2.激光器线宽 半导体的激光器的线宽是多少?有的用nm 表示,有的用Hz 表示,计算公式是什么?经常会提到激光器的线宽<0.0001 nm 换算成“Hz”是多少赫兹啊? 线宽即为激光某一单独模式的光谱宽度,一般表达形式:nm ,Hz ,cm-1。该参数与激光本身的波长由关系。 例:比如波长为1064nm, 线宽0.1nm ,则换算为Hz 单位: GHz v 5.261065.21.01064101031029 8=?=???=? 3. 边模抑制比(SSR ) 边模抑制比是指在发射光谱中,在规定的输出功率和规定的调制(或 CW )时最高光谱峰值强度与次高光谱峰值强度之比。

边模抑制比示意图 4.振荡腔 HR AR 谐振腔的作用是选择频率一定、方向一致的光作最优先的放大,而把其他频率和方向的光加以抑制。凡不沿谐振腔轴线运动的光子均很快逸出腔外; 沿轴线运动的光子将在腔内继续前进,并经两反射镜的反射不断往返运行产生振荡,运行时不断与受激粒子相遇而产生受激辐射,沿轴线运行的光子将不断增殖,在腔内形成传播方向一致、频率和相位相同的强光束,这就是激光。为把激光引出腔外,可把一面反射镜做成部分透射的,透射部分成为可利用的激光,反射部分留在腔内继续增殖光子。 光学谐振腔的作用有:①提供反馈能量,②选择光波的方向和频率。谐振腔内可能存在的频率和方向称为本征模。两反射镜的曲率半径和间距(腔长)决定了谐振腔对本征模的限制情况。不同类型的谐振腔有不同的模式结构和限模特性。 5.三种类型的QCL 按振荡腔设计的差异,QCL可以分为三大类:

半导体激光器的应用与前景

关于半导体激光器 作者 摘要:目前半导体激光器发展非常快。随着技术的成熟,半导体激光器的应用也越来越广泛。本文主要分析半导体激光器的国内外发展现状,总结其原理、应用。评估半导体激光在未来的发展。 关键词:半导体激光器原理与应用未来前景Abstract:Nonadays,the semiconductor laser develop very fast.with the technology becomed more and more adultness, the semiconductor laser was application in kinds of filed.This essay analysis the semiconductor laser statu of develop in home and foreige,at the same time ,summarizing its principle and applicat- Ion.estimating the semiconductor laser develop in future.

Keywords:the semiconductor laser principle and application the prospest 国内外发展状况: 相对于固体激光器和气体激光器来说,半导体 激光器真可谓是姗姗来迟,但是它具有效率高、体 积小、寿命长、成本低、等优点,目前在激光器领 域中已占据一半以上的市场份额,而且还在不断扩 大,大有取代传统激光器的趋势[1]。 半导体激光是目前各种激光中发展最快的,它 占有激光市场的最大份额。半导体激光器又称为二 极管激光器(LD),随着生长技术的进步、器件量 产化能力的提高、性能的改善及成本的下降 , LD 陆续扩展到许多其它应用领域,包括 CDROM 驱动、激光打印、可擦除光存储驱动、条码扫描、 文娱表演、光纤通信 ,以及航空和军事应用如军训 模拟装置、测距机、照明器、CI等。由于LD的

半导体激光器国家标准(二)

半导体激光器国家标准(二) 3.1.32 远场光强分布Far field intensity distribution 在距离远远大于激光光源瑞利长度的接收面上得到的光强分布。 3.1.33 近场光强分布Near field intensity distribution 激光器在输出腔面(AR面)上的光强分布。 3.1.34 近场非线性Near field non-linearity 热应力引起半导体激光器阵列或巴条中各个发光单元在垂直p-n结的方向上发生的位移,导致激光器阵列或巴条近场各个发光单元不在一条直线上,又称为"smile"效应。 3.1.35 偏振Polarization 半导体激光器是利用光波导效应将光场限制在有源区内,使光波沿着有源区层传播,并通过腔面输出,半导体激光器的偏振特性与电场和磁场两个空间变量有关,对于横向电场(TE)偏振光,只存在(Ey,Hx,Hz)三个分量,对于横向磁场(TM)偏振光,只存在(Ex,Ez,Hy)三个分量。半导体激光器偏振特性优劣通常用偏振度来表征,偏振度为两种偏振态的光功率差与光功率和的比值,通常以百分比表示。 3.1.36 热阻Thermal resistance 热量在热流路径上遇到的阻力,反映介质或介质间的传热能力的大小,激光器产生1W 热量所引起的温升大小,单位为℃/W或K/W。 3.1.37 波长-温度漂移Wavelength-temperature shift 半导体激光器稳定工作时,结温每升高1℃所引起的波长变化,单位是nm/K。 3.1.38 斜率效率Slope efficiency 激光器额定光功率的10%和90%对应的光功率差值△P与相应工作电流的差值△I的比值称为斜率效率。 3.1.39 光功率-电流曲线扭折Optical power-current curve kink 光功率-电流曲线上出现的非线性变化的拐点。扭折表征了光功率与工作电流的线性关系的优劣。 3.1.40 光输出饱和Optical output saturation 光输出饱和是指理想的线性响应光输出的跌落,表征激光器光输出效率下降。 3.1.41 FP腔Fabry-Perot cavity 以激光器两平行腔面((高反射面HR或部分反射面PR面))形成的具有光增益反馈作用的谐振腔。 3.1.42 分布反馈半导体激光器DFB distributed feed-back semiconductor laser 分布反馈是指激光器增益区材料具有特殊结构,可以形成周期性光反馈。具有这种结构的半导体激光器称为分布反馈半导体激光器。 3.1.43 分布布拉格反射式半导体激光器DBR Distributed bragg reflector semiconductor laser 分布布拉格反射镜(DBR)又称为光栅反射器,通常设于半导体激光器增益介质外部,对满足布拉格光栅选择条件的波长具有最大的反射率。具有该结构的半导体激光器称为分布布拉格反射式半导体激光器。 3.1.44 直接调制半导体激光器DML Direct modulation semiconductor laser 通过直接调制驱动电流来控制激光器工作方式的半导体激光器称为直接调制半导体激光器。 3.1.45 电吸收调制半导体激光器EML Electro-absorption modulation semiconductor laser 电吸收调制是利用外加电压对半导体材料能带结构的影响从而产生光吸收的原理,对单

半导体激光器调研报告

半导体激光器调研报告 班级:电科 姓名:XXX 学号:20120xxx

半导体激光器又称激光二极管,是用半导体材料作为工作物质的激光器。由于物质结构上的差异,不同种类产生激光的具体过程比较特殊。常用工作物质有砷化镓(GaAs)、硫化镉(CdS)、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)等。激励方式有电注入、电子束激励和光泵浦三种形式。半导体激光器件,可分为同质结、单异质结、双异质结等几种。同质结激光器和单异质结激光器在室温时多为脉冲器件,而双异质结激光器室温时可实现连续工作。 半导体二极管激光器是最实用最重要的一类激光器。它体积小、寿命长,并可采用简单的注入电流的方式来泵浦其工作电压和电流与集成电路兼容,因而可与之单片集成。并且还可以用高达GHz的频率直接进行电流调制以获得高速调制的激光输出。由于这些优点,半导体二极管激光器在激光通信、光存储、光陀螺、激光打印、测距以及雷达等方面以及获得了广泛的应用。 仪器简介: 半导体激光器是以一定的半导体材料做工作物质而产生激光的器件。.其工作原理是通过一定的激励方式,在半导体物质的能带(导带与价带)之间,或者半导体物质的能带与杂质(受主或施主)能级之间,实现非平衡载流子的粒子数反转,当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激发射作用。半导体激光器的激励方式主要有三种,即电注入式,光泵式和高能电子束激励式。电注入式半导体激光器,一般是由砷化镓(GaAs)、硫化镉(CdS)、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)等材料制成的半导体面结型二极管,沿正向偏压注入电流进行激励,在结平面区域产生受激发射。光泵式半导体激光器,一般用N型或P 型半导体单晶(如GaAS,InAs,InSb等)做工作物质,以其他激光器发出的激光作光泵激励.高能电子束激励式半导体激光器,一般也是用N型或者P型半导体单晶(如PbS,CdS,ZhO等)做工作物质,通过由外部注入高能电子束进行激励。在半导体激光器件中,性能较好,应用较广的是具有双异质结构的电注入式GaAs二极管激光器。 工作原理: 根据固体的能带理论,半导体材料中电子的能级形成能带。高能量的为导带,低能量的为价带,两带被禁带分开。引入半导体的非平衡电子-空穴对复合时,把释放的能量以发光形式辐射出去,这就是载流子的复合发光。 一般所用的半导体材料有两大类,直接带隙材料和间接带隙材料,其中直接带隙半导体材料如GaAs(砷化镓)比间接带隙半导体材料如Si有高得多的辐射跃迁几率,发光效率也高得多。 半导体复合发光达到受激发射(即产生激光)的必要条件是:①粒子数反转分布分别从P型侧和n型侧注入到有源区的载流子密度十分高时,占据导带电子态的电子数超过占据价带电子态的电子数,就形成了粒子数反转分布。②光的谐振腔在半导体激光器中,谐振腔由其两端的镜面组成,称为法布里一珀罗腔。③高增益用以补偿光损耗。谐振腔的光损耗主要是从反射面向外发射的损耗和介质的光吸收。 半导体激光器是依靠注入载流子工作的,发射激光必须具备三个基本条件: (1)要产生足够的粒子数反转分布,即高能态粒子数足够的大于处于低能态的粒子数; (2)有一个合适的谐振腔能够起到反馈作用,使受激辐射光子增生,从而产生激光震荡;

半导体激光器的原理及分类方式

摘要: 本文就半导体激光器介绍了半导体激光器的工作原理,较详尽地阐述了它在光纤通信中的应用情况。 关键词:半导体激光器谐振腔泵浦源工作物质光纤通信WDM 激光技术; 半导体激光 一、半导体激光器 1.什么叫激光 激光的英文叫Laser light amplification by stimulated emission of radiation. 就是通过受激 发射实现光放大。 光通过谐振腔的选模作用和增益介质的放 大作用,经过震荡和放大,实现拥有单色性、 准直性、相干性非常好的光束,这个就是激光。 激光器有很多种类型,但他的必要组成部 分无外乎:谐振腔、增益介质、泵浦源。 2、半导体激光器的工作原理 2.1基本条件: (1)有源区载流子反转分布 (2)谐振腔:使受激辐射多次反馈,形成振荡 (3)满足阈值条件,使增益>损耗,有足够的注入电流。 2.2工作原理 半导体激光器工作原理是激励方式,利用半导体物质(既 利用电子)在能带间跃迁发光,用半导体晶体的解理面形成两 个平行反射镜面作为反射镜,组成谐振腔,使光振荡、反馈、 产生光的辐射放大,输出激光。 半导体激光器是以一定的半导体材料做工作物质而产生 受激发射作用的器件.其工作原理是,通过一定的激励方式,在 半导体物质的能带(导带与价带)之间,或者半导体物质的能带 与杂质(受主或施主)能级之间,实现非平衡载流子的粒子数反 转,当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生 受激发射作用.半导体激光器的激励方式主要有三种,即电注入式,光泵式和高能电子束激励式。 理论上认为半导体激光器应该是在直接带隙半导 体PN结中.用注入载流子的方法实现由柏纳德—— 杜拉福格条件所控制的粒子数反转;由高度简并的电 子和空穴复合所产生的受激光辐射在光学谐振腔内振 荡并得到放大,最后产生相干激光输出。 就基本原理而论,半导体激光器和其它类型的激 光器没有根本的区别,都是基于受激光发射.要使激 光器得到相干的、受激光输出,须满足两个条件,即 粒子数反转条件与阈值条件.前者是必要条件,它意味着处于高能态的粒子(如半导体导带中的电子)数多于低能态的粒子数.达到这一条件,有源工作物质就具有增益。后者是充分

半导体激光器

半导体激光器 半导体激光器 半导体激光器是用半导体材料作为工作物质的一类激光器,由于物质结构上的差异,产生激光的具体过程比较特殊。常用材料有砷化镓(GaAs)、硫化镉(CdS)、磷化铟(InP)、硫化锌(ZnS)等。激励方式有电注入、电子束激励和光泵浦三种形式。半导体激光器件,可分为同质结、单异质结、双异质结等几种。同质结激光器和单异质结激光器室温时多为脉冲器件,而双异质结激光器室温时可实现连续工作。 半导体激光器的分类 (1)异质结构激光器(2)条形结构激光器(3)AIGaAs/GaAs激光器(4)InGaAsP/InP激光器(5)可见光激光器(6)远红外激光器(7)动态单模激光器(8)分布反馈激光器(9)量子阱激光器(10)表面发射激光器(11)微腔激光器 半导体激光器 半导体激光(Semiconductor laser)在1962年被成功激发,在1970年实现室温下连续输出。后来经过改良,开发出双异质接合型激光及条纹型构造的激光二极管(Laser diode)等,广泛使用于光纤通信、光盘、激光打印机、激光扫描器、激光指示器(激光笔),是目前生产量最大的激光器。激光二极体的优点是效率高、体积小、重量轻且价格低。尤其是多重量子井型的效率有20~40%,P-N型也达到数%~25%,总而言之能量效率高是其最大特色。另外,它的连续输出波长涵盖了红外线到可见光范围,而光脉冲输出达50W(带宽100ns)等级的产品也已商业化,作为激光雷达或激发光源可说是非常容易使用的激光的例子。 仪器简介

Q-Line纤绿半导体激光器 半导体激光器是以一定的半导体材料做工作物质而产生受激发射作用的器件.其工作原理是,通过一定的激励方式,在半导体物质的能带(导带与价带)之间,或者半导体物质的能带与杂质(受主或施主)能级之间,实现非平衡载流子的粒子数反转,当处于粒子数反转状态的大量电子与空穴复合时,便产生受激发射作用.半导体激光器的激励方式主要有三种,即电注入式,光泵式和高能电子束激励式.电注入式半导体激光器,一般是由GaAS(砷化镓),InAS(砷化铟),Insb(锑化铟)等材料制成的半导体面结型二极管,沿正向偏压注入电流进行激励,在结平面区域产生受激发射.光泵式半导体激光器,一般用N型或P型半导体单晶(如GaAS,InAs,InSb等)做工作物质,以其他激光器发出的激光作光泵激励.高能电子束激励式半导体激光器,一般也是用N型或者P型半导体单晶(如PbS,CdS,ZhO等)做工作物质,通过由外部注入高能电子束进行激励.在半导体激光器件中,目前性能较好,应用较广的是具有双异质结构的电注入式GaAs二极管激光器. 工作原理及特点 半导体激光器工作原理是激励方式,利用半导体物质(即利用电子)在能带间跃迁发光,用半导体晶体的解理面形成两个平行反射镜面作为反射镜,组成谐振腔,使光振荡、反馈、产生光的辐射放大,输出激光。半导体激光器优点是体积小,重量轻,运转可靠,耗电少,效率高等。 封装技术 技术介绍 半导体激光器封装技术大都是在分立器件封装技术基础上发展与演变而来的,但却有很大的特殊性。一般情况下,分立器件的管芯被密封在封装体内,封装的作用主要是保护管芯和完成电气互连。而半导体激光器封装则是完成输出电信号,保护管芯正常工作,输出:可见光的功能,既有电参数,又有光参数的设计及技术要求,无法简单地将分立器件的封装用于半导体激光器。 发光部分 半导体激光器的核心发光部分是由p型和n型半导体构成的pn结管芯,当注入pn结的少数载流子与多数载流子复合时,就会发出可见光,紫外光或近红外光。但pn结区发出的光子是非定向的,即向各个方向发射有相同的几率,因此,并不是管芯产生的所有光都可以释放出来,这主要取决于半导体材料质量、管芯结构及几何形状、封装内部结构与包封材料,应用要求提高半导体激光器的内、外部量子效率。常规Φ5mm型半导体激光器封装是将边长0.25mm的正方形管芯粘结或烧结在引线架上,管芯的正极通过球形接触点与金丝,键合

高速半导体激光器

从第22届IEEE国际半导体激光会议看高速半导体激光器的发展 发布:juli 时间:2011/3/28 13:46:04 阅读:855 黄永箴中科院半导体研究所光电子研究发展中心 当今世界光纤通信网络数据量每年约增加50%,为了应对带宽增加的需求,光纤通信骨干网上已采用了单一信道40 Gbit/s的密集波分复用(DWDM)技术,而单一波长100 Gbit/s的收发技术也开始提上日程。另一方面,光通信技术不断地往短距离数据传输领域拓展以应对数据中心和超级计算机数据传输量剧增的要求。目前,超级计算机已经发展到具有上万个处理器、上百个机柜的超级并行计算系统,并行处理使超级计算机系统性能提高速度高于摩尔定律,但所需的数据传输量极大,面临着提高数据传输和处理速率以及降低能耗的巨大压力。随着微电子器件尺度越来越小,集成度越来越高,芯片的计算功能已相当便宜,特别是随着特征尺寸的降低,芯片门延迟越来越低,但金属互连延迟越来越大,挑战已经从计算问题转移到数据传输问题。2010年7月,英特尔报道了在计算机内部使用光互连代替电互连的首个集成了激光器的硅基光电数据收发集成芯片,采用4个不同波长激光器的波分复用(WDM)技术实现50 Gbit/s的数据传输。人们迫切希望以光互连代替传统的金属互连,实现芯片间,甚至芯片上的光互连,提高信号传输的带宽,并降低能耗。类似于上世纪七、八十年代光纤通信进入长距离通信市场,目前一个光的革命正在计算系统中出现,一个超高性能的计算系统很快将需要高于百万条的光互连。 在上世纪九十年代具有超高灵敏度的相干光通信技术的研究曾受到很大的重视,但WDM和掺铒光纤放大器等技术的兴起使其受重视程度降低。但随着带宽增加的需要,高级调制格式的相干光通信技术已成为下一步继续提高干线光通信容量的主要技术。目前,DFB 半导体激光器与40 Gbit/s光调制器单片集成的发射芯片已达到规模应用的水平,而单一波长100Gbit/s的光通信技术已通过测试试验处于应用的前期阶段。载波相对相位变化的四相相对相移键控(DQPSK)等高级调制技术,相当于多进制的调制格式,能够以较低的码率实现更高的数据传输速度,从而有效地提高频谱利用率。除了相移键控技术外,人们还在研究利用其他各种参数包括偏振变化来传输信息,以进一步提高频谱利用效率。但在提高频谱利用效率的同时,DQPSK的光发射器及接收器都必须是具有调相功能的集成器件,器件结构复杂,制作工艺难度很大。相干接收系统利用本地激光与接收光信号叠加以测量光信号的相位变化,最后还对数据信号进行处理以提高灵敏度。相干光通信技术能够复兴,微电子数据处理芯片的成熟是一个必不可少的条件。另外,DQPSK等相移键控系统发射的信号光功率能保持常量,可以相对降低光纤非线性对传输信号的影响。 相对于长途干线采用复杂的高级调制技术以提高光通信系统容量,在短距离的光通信系统中,人们总希望利用结构简单的直接调制半导体激光器。半导体激光器的频率响应可以表示为: 其中为弛豫振荡频率,为与非线性增益相关的阻尼系数,

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