材料微观分析习题与解答

材料微观分析习题与解答
材料微观分析习题与解答

材料微观分析习题及解答(第一章)

1.X 射线的本质是什么?用于晶体结构分析的X 射线波长一般为多少? 答:X 射线的本质是电磁波,它同时具有波动性和粒子特性。

用于晶体结构分析的X 射线波长一般为0.25~0.05nm 。 2.什么是特征X 射线谱?物质的特征X 射线谱取决于什么? 答:反映物质原子序数特征的X 射线构成的X 射线谱称为~。

物质的特征X 射线谱取决于物质的原子能级结构。

3.在X 射线分析中,为什么要使用滤波片?滤波片的原理是什么?滤波片应如何选择? 答:采用滤波片是希望滤掉两条谱线中的一条,得到“单色”的入射X 射线。

滤波片的原理是某物质可以强烈吸收K λλ≤波长的入射X 射线,而对于K λλ>的X 射线吸收很少。

滤波片材料是根据靶元素确定的,当靶固定以后,应满足: 当Z 靶<40时,则Z 片=Z 靶-1 当Z 靶≥40时,则Z 片=Z 靶-2

材料微观分析习题及解答(第二章)

1.将下面几个干涉面(属立方晶系)按面间距的大小排列。

(123)、(100)、(002)、(131)、(121)、(210)、(110)、(212)、(030)、(130)

答:由2

2

2

l

k h a d ++=

计算得:

即(100)>(110)>(002)>(210)> (121)>(212)=(030)> (130)> (131)>(123) (注:可以直接用h 2+k 2+l 2来比较,更为简单) 2.证实(011)、(121)、(123)属于[111]晶带。 解:由晶带定律:0=++lw kv hu

有:;

)(;)(;

012111301112110101)1(11=?+?+?-=?+?-+?=?+?-+?

3)属于[111]晶带。

即(011)、(121)、(12

3.当X射线在原子列上反射时,相邻原子散射线在某个方向上的波程差若不为波长的整数倍,则此方向上必然不存在反射,为什么?

答:由波的合成原理可知,两相干波的波程差不为波长的整数倍时,必然存在一定的位相差,其结果就导致了其合成振幅的变化,必然导致X射线的强度减弱或等于零,即存在一定的相消现象,故不发生衍射(即所谓的反射)。

4.当波长为λ的X射线在晶体上发生衍射时,相邻两个(hkl)晶面衍射线的波程差是多少?相邻两个HKL干涉面的波程差又是多少?

答:前者为nλ,后者为λ。

材料微观分析习题及解答(第三章)

1.多重性因子的物理意义是什么?某立方系晶体,其{100}的多重性因子是多少?如该晶体转变成四方系,这个晶面族的多重性因子会发生什么样的变化?为什么?

答:多重性因子为等同晶面个数对衍射强度的影响因子。所谓等同晶面是指面间距相同,晶面原子排列规律相同的晶面。在布拉格条件下,等同晶面同时参与衍射,构成一个衍射圆锥。所以,多重性因子越大,即等同晶面越多,参与衍射的晶面就越多(准确地说,参加衍射的概率越大),对衍射强度的贡献也就越大。

查附录5可知,立方系晶体中{100}多重性因子为6,而对于四方系,其多重性因子为4,这是由于(100)和(001)晶面的面间距不同(不能称为等同晶面)而造成的。

2.总结简单点阵、体心点阵和面心点阵衍射线的系统消光规律。

解:

1

所给出的Sin2θ数值均为CuK a1衍射的结果。试用“α-cosθ”图解外推法确定晶格常数,有效数字为4位。(λCu- K a1=1.54050?)

解:对于简单立方,有 λθ=sin 2d 及 2

2

2

l

k h a d hkl ++=

可得

)(4sin 2222

2

2

l k h a ++=

λθ 计算结果为:

解得a=4.997(?)

2.续上题,以为cos 2θ外推函数,请用柯亨法计算晶格常数,精确到4位有效数字。 解:柯亨法正则方程为: 其中 θδλ210sin )l k (h a 42

2222

2

=++==

a A

解得:

A=0.0237602 C=0.0027727

则: 即:

a 0=4.997 ?

材料微观分析习题及解答(第六章)

1.为测定材料表面沿某个方向上的宏观应力,为何可以不采用无应力标准试样进行对比? 答:由于dn (应力状态下,与表面平行的hkl 面的面间距)≈d ψ(应力状态下,与表面成ψ角的hkl 面的面间距)≈d 0(无应力状态下同种hkl 面的面间距),且d ψ-dn ? d 0,所以用dn 代替d 0,即可以不采用无应力标准试样进行对比。而且在实际测量过程中,得到无应力状态下同种hkl 面的面间距d 0也是很困难的。

2.欲测7-3黄铜试样的应力,用CoK α照射400面,当ψ=0时,2θ=150.4°,当ψ=45°时,2θ=150.9°,请计算试样表面宏观应力。(a =0.3695nm ,E=8.83×104

Mpa ,ν=

0.35) 答:由 )

0sin 45(sin )22(180)1(2220450 --+-=

θθπ

θνσφctg E

材料微观分析习题及解答(第七章)

1.电磁透镜的像差是怎样产生的,如何来消除和减少像差? 答:像差分为两类:几何像差和色差。

几何像差是因为透镜磁场几何形状上的缺陷而造成的,它包括球差和像散。球差是由于电磁透镜的中心区域和边缘区域对电子的折射能力不同而造成的,目前还没有一种行之有效的矫正方法,但可以通过小孔径成像来减小球差。像散是由于透镜磁场的非旋转对称而引起的。目前可以通过可调节的外加矫正磁场(消像散器)来补偿。

色差是由于入射电子波长(或能量)的非单一性所造成的。采用稳定加速电压的方法可以有效地减小色差。

2.说明影响光学显微镜和电磁透镜分辨率的关键因素是什么?如何提高电磁透镜的分辨率?

答:影响光学显微镜分辨率的关键因素是照明光源的波长;而影响电磁透镜分辨率的关键因素是衍射效应和球面像差。

提高电磁透镜的分辨率就是要控制衍射效应和球面像差。但是前者随孔径半角α增大,分辨率越高,后者随孔径半角α越小,分辨本领越大。综合考虑两者的影响,关键是确定电磁透镜的最佳孔径半角α,使影响效果一致。目前一般透镜的孔径半角α=10-2

~10-3

rad 。 3.电磁透镜景深和焦长受哪些因素影响?说明电磁透镜景深大、焦长长,是什么因素影响的结果?假设电磁透镜没有像差,也没有衍射Airy 斑,即分辨率极高,此时它的景深和焦长如何?

答:景深与电磁透镜的分布本领和孔径半角有关,而焦长除与这两个因素有关外,还与透镜的放大倍数有关。

当物平面(景深)和像平面(焦长)在一定轴向距离内移动时,会引起失焦现象。但如果由于失焦所引起的失焦园斑尺寸不超过透镜因衍射和像差所引起的散焦斑大小时,对透镜的分辨率就没有影响。由于电磁透镜自身分辨率的限制(存在散焦斑),从而允许物平面和像平面在一定轴向距离内,即景深大、焦长长。

由上述分析可知,如果电磁透镜分辨率极高,则所对应的景深必定小,焦长短。

材料微观分析习题及解答(第八章)

1.透射电镜主要由几大系统构成?

答:透射电镜主要由电子光学系统、电源与控制系统和真空系统三部分组成。其中电子光学系统分为三部分:照明系统、成像系统和观察记录系统。

2.照明系统的作用是什么?它应满足什么要求?

答:照明系统的作用是提供照明源。同时为满足明场和暗场成像的需要,照明束可在2°~3°范围内倾斜。

照明源应满足:亮度高、照明孔径小、平行度好、束流稳定。

3.透射电镜中有哪些主要光阑,在什么位置?其作用如何?

答:列表如下:

1.复型样品在透射电镜下的衬度是如何形成的?

答:复型样品在透射电镜下衬度是由于质厚衬度成像原理而形成的。即电子在穿透非晶薄膜的复型样品时,受到样品原子的散射,其散射角度受到样品厚度及样品原子序数的影响。被散射到物镜光阑外的电子越多,最后参与成像的电子强度越低。由于复型样品材料相同,故其衬度仅受其厚度的影响,所以复型样品可以反映样品的形貌变化。

2.限制复型样品的分辨率的主要因素是什么?

答:限制复型样品的分辨率的主要因素是复型材料的粒子尺寸。复型材料的粒子尺寸越小,分辨率就越高。例如,用碳作为复型材料时,分辨率可达2nm左右;而塑料分子直径比碳粒子大得多,因而其分辨率只有10~20nm左右。

3.说明如何用透射电镜观察超细粉末的尺寸和形态?如何制备样品?

答:将超细粉末分散开来,并采用对于TEM透明膜进行承载,然后置于铜网上,即可观察其尺寸及形态。

制备的方法有胶粉混合法,支持膜分散粉末法。

材料微观分析习题及解答(第十章)

1.分析电子衍射与X 衍射有何异同?

答:相同点包括:1)都以满足Bragg 方程为产生衍射的必要条件; 2)所得到的衍射花样在几何特征上大致相似。

不同点包括:1)电子衍射的波长更短,衍射角很小,约为10-2rad ,而X 射线衍射角可

接近90°;

2)电子衍射样品为薄晶样品,较易获得衍射图像; 3)电子衍射的结果分析较为方便; 4)电子衍射强度大,曝光时间短。 2.说明多晶、单晶及非晶衍射花样的特征。 答:单晶体:规则排列的斑点;

多晶体:同心园环; 非晶体:漫射中心斑。

3.为何对称入射(B//[uvw])时,即只有倒易点阵原点在爱瓦尔德球面上,也能得到除中心斑点以外的一系列衍射斑点?

答:由于实际样品晶体具有确定的形状和有限的尺寸,导致其倒易点阵沿晶体尺寸较小的方向上发生扩展,倒易点被扩展成为倒易杆(盘、球)。这些倒易杆(盘、球)与爱瓦尔德球相交,即可产生衍射斑点。另外,电子束波长短,使爱瓦尔德球面接近平面、加速电压波动导致爱瓦尔德球具有一定厚度、电子束有一定发散等,均会促使衍射斑点的形成。 4.画出fcc 晶体]111[晶带的标准衍射花样。取N =h 2+k 2+l 2<9的斑点。

解:

1)由晶带定律,有 hu+kv+lw=0 得 h=k+l

2)由fcc 的消光律知,h,k,l 为同性数时,衍射斑点存在。

由题意可知,满足上述条件的衍射斑点所对应的晶面指数为:

由于a,b,c,d,e,f 六个斑点的N 值相同,意味着它们的面间距d 相同,也意味着说这些斑点到中心斑的距离是相等的。(可以参看倒易矢量的计算) 为精确绘制出衍射花样,可采取如下步骤: 1) 绘出中心斑(000)。

2) 任意取一个晶面,如a ,由于透镜的放大倍数未知,故a 离中心斑的距离任意。 3) 在其相反的方向绘制与a 对应的另一斑点b (b 与a 明显符号相反)。 4) 现在来画c 。c 到中心斑的距离是与a 到中心斑的距离是相等的,但与a 又有什么关系呢?

由晶面夹角公式2

1

8

82

00222)

)((cos 222222=

??+?+?=

++++++=

-c c c a a a c

a c a c a c a l k h l k h l l k k h h θ即a 与c 夹角为60°。 5) 在c 的反方向上绘制d 。 6) 同理绘制e,f

注:

1)

2) 如果N 注意可以采用矢量

420)。 3) 4) 不同N 值对应不同面间距,即离中心的距离是不同的。

5.已知某衍射花样如图,测量结果如下,试标定各衍射斑点,并指出衍射方向。

解:由

由N 由N 值可以断定R1为{111}晶面族,类似R2为{331},R3为{420}。 (1) 下面来确定晶面。 由 得

105.1212121≈=++l l k k h h (2)

由条件(1)、(2)作尝试,其中一个合理的解为:(可能会有不同解,这些解都应该正确) 考虑到矢量叠加以及晶带定律,定出20)4( :3R

易验证R1、R2、R3共同一晶带,由晶带定律计算出其晶带轴为(123)。该方向即为入射方向。

材料微观分析习题及解答(第十一章)

1.什么是衍射衬度?它与质厚衬度有什么区别?

答:由于样品中不同位向的晶体的衍射条件(位向)不同而造成的衬度差别称为衍射衬度。

衍射衬度与质厚衬度的区别体现在以下几个方面:

1)所用样品不同;衍射衬度采用晶体薄膜样品,而质厚衬度采用非晶体复型样品;当然

R1=6.5mm R2=16.4mm R3=16.8mm R1与R2夹角为82°

它们样品的制备方法也不一样;

2)反映的信息不同;质厚衬度反映的是样品表面的形貌,而衍射衬度反映的是晶体内部晶体学结构;

2.画图说明衍衬成像原理,并说明什么是明场像,暗场像和中心暗场像。

答:

I A≈I0I B≈I0-I hkl

衍衬成像-明场成像光路示意图

I A≈0 I B≈I hkl

衍衬成像-暗场成像光路示意图

I A≈0 I B≈I hkl

衍衬成像-中心暗场成像光路示意图

材料微观分析习题及解答(第十二章)

1.电子束入射固体样品表面会激发哪些信号?它们有哪些特点和用途?

答:电子束入射固体样品表面激发的信号及特点、用途简要列表如下:

2.扫描电镜的分辨率受哪些因素影响,用不同信号成像时,其分辨率有何不同?所谓扫描电镜的分辨率是指用何种信号成像时的分辨率?

答:扫描电镜的分辨率的高低与检测信号的种类有关。不同信号的分辨率如下表:

扫描电镜的分辨率一般是指用二次电子成像时的分辨率。

3.扫描电镜的成像原理与透射电镜有何不同?

答:透射电镜采用质厚衬度原理(复型样品)和衍衬成像原理(薄晶样品)进行成像;

扫描电镜采用表面形貌衬度原理(二次电子成像)和原子序数衬度原理(背散射电子成像、吸收电子成像)进行成像。

材料微观分析习题及解答(第十三章)

1.电子探针仪与扫描电镜有何异同?电子探针仪如何与扫描电镜和透射电镜配合进行组织结构与微区化学成分的同位分析?

答:电子探针仪的镜筒部分的构造和扫描电镜相同,区别在于检测部分使用X射线谱仪,专门用于检测X射线的特征波长或特征能量,以此来对微区的化学成分进行分析。

电子探针仪可以与扫描电镜和透射电镜配合,实现微区组织形貌、晶体结构及化学成分分析。以微区组织形貌和化学成分分析为例,将样品放置好后,首先记录二次电子成像情况,可以获取样品表面形貌的消息;在保证样品及成像条件恒定情况下,改用X射线谱仪收集信号,即可实现对前述区域的化学成分同位分析。

2.波谱仪和能谱仪各有什么优缺点?

答:波谱仪和能谱仪的优缺点互补,总结如下:

1)能谱仪检测效率要高,且灵敏度比波谱仪高一个数量级;

2)能谱仪可以一次测量分析点内所有元素,且时间短;而波谱仪需更换分光晶体;

3)能谱仪结构相对简单,稳定性、重复性好;

4)能谱仪测量过程中无需聚焦,适合粗糙表面;

5)能谱仪波峰宽,易重叠,故分辨率较波谱仪低;

6)能谱仪分析由于受到铍窗口的限制,只能测量Z>11的元素,而波谱仪Z值测量范围为

4~92;

7)能谱仪探头需液氮冷却。

现代材料测试技术期末测试题汇总

《材料现代分析测试技术》思考题 1.电子束与固体物质作用可以产生哪些主要的检测信号?这些信号产生的原理是什么?它们有哪些特点和用途? (1)电子束与固体物质产生的检测信号有:特征X射线、阴极荧光、二次电子、背散射电子、俄歇电子、吸收电子等。 (2)信号产生的原理:电子束与物质电子和原子核形成的电场间相互作用。 (3)特征和用途: ①背散射电子:特点:电子能量较大,分辨率低。用途:确定晶体的取向,晶体间夹角,晶粒度及晶界类型,重位点阵晶界分布,织 构分析以及相鉴定等。 ②二次电子:特点:能量较低,分辨率高。用途:样品表面成像。 ③吸收电子:特点:被物质样品吸收,带负电。用途:样品吸收电子成像,定性微区成分分析。 ④透射电子:特点:穿透薄试样的入射电子。用途:微区成分分析和结构分析。 ⑤特征X射线:特点:实物性弱,具有特征能量和波长,并取决于被激发物质原子能及结构,是物质固有的特征。用途:微区元素定 性分析。 ⑥俄歇电子:特点:实物性强,具有特征能量。用途:表层化学成分分析。 ⑦阴极荧光:特点:能量小,可见光。用途:观察晶体内部缺陷。 ①电子散射:当高速运动的电子穿过固体物质时,会受到原子中的电子作用,或受到原子核及周围电子形成的库伦电场的作用,从而 改变了电子的运动方向的现象叫电子散射 ②相干弹性散射:一束单一波长的电子垂直穿透一晶体薄膜样品时,由于原子排列的规律性,入射电子波与各原子的弹性散射波不但 波长相同,而且有一定的相位关系,相互干涉。 ③不相干弹性散射:一束单一波长的电子垂直穿透一单一元素的非晶样品时,发生的相互无关的、随机的散射。 ④电子衍射的成像基础是弹性散射。 3.电子束与固体物质作用所产生的非弹性散射的作用机制有哪些? 非弹性散射作用机制有:单电子激发、等离子激发、声子发射、轫致辐射 ①单电子激发:样品内的核外电子在收到入射电子轰击时,有可能被激发到较高的空能级甚至被电离,这叫单电子激发。 ②等离子激发:高能电子入射晶体时,会瞬时地破坏入射区域的电中性,引起价电子云的集体振荡,这叫等离子激发。 ③声子发射:入射电子激发或吸收声子后,使入射电子发生大角度散射,这叫声子发射。 ④轫致辐射:带负电的电子在受到减速作用的同时,在其周围的电磁场将发生急剧的变化,将产生一个电磁波脉冲,这种现象叫做轫 致辐射。 1)二次电子产生:单电子激发过程中,被入射电子轰击出来并离开样品原子的核外电子。应用:样品表面成像,显微组织观察,断口形貌观察等 2)背散射电子:受到原子核弹性与非弹性散射或与核外电子发生非弹性散射后被反射回来的入射电子。应用:确定晶体的取向,晶体间夹角,晶粒度及晶界类型,重位点阵晶界分布,织构分析以及相鉴定等。 3)成像的相同点:都能用于材料形貌分析成像的不同点:二次电子成像特点:(1)分辨率高(2)景深大,立体感强(3)主要反应形貌衬度。背散射电子成像特点:(1)分辨率低(2)背散射电子检测效率低,衬度小(3)主要反应原子序数衬度。 5.特征X射线是如何产生的,其波长和能量有什么特点,有哪些主要的应用? 特征X-Ray产生:当入射电子激发试样原子的内层电子,使原子处于能量较高的不稳定的激发态状态,外层的电子会迅速填补到内层电子空位上,并辐射释放一种具有特征能量和波长的射线,使原子体系的能量降低、趋向较稳定状,这种射线即特征X射线。 波长的特点:不受管压、电流的影响,只决定于阳极靶材元素的原子序。 应用:物质样品微区元素定性分析

材料分析测试技术复习题 附答案

材料分析测试技术复习题 【第一至第六章】 1.X射线的波粒二象性 波动性表现为: -以波动的形式传播,具有一定的频率和波长 -波动性特征反映在物质运动的连续性和在传播过程中发生的干涉、衍射现象 粒子性突出表现为: -在与物质相互作用和交换能量的时候 -X射线由大量的粒子流(能量E、动量P、质量m)构成,粒子流称为光子-当X射线与物质相互作用时,光子只能整个被原子或电子吸收或散射 2.连续x射线谱的特点,连续谱的短波限 定义:波长在一定范围连续分布的X射线,I和λ构成连续X射线谱 λ∞,波?当管压很低(小于20KV 时),由某一短波限λ 0开始直到波长无穷大长连续分布 ?随管压增高,X射线强度增高,连续谱峰值所对应的波长(1.5 λ 0处)向短波端移动 ?λ 0 正比于1/V, 与靶元素无关 ?强度I:由单位时间内通过与X射线传播方向垂直的单位面积上的光量子数的能量总和决定(粒子性观点描述)

?单位时间通过垂直于传播方向的单位截面上的能量大小,与A2成正比(波动性观点描述) 短波限:对X射线管施加不同电压时,在X射线的强度I 随波长λ变化的关系曲线中,在各种管压下的连续谱都存在一个最短的波长值λ0,称为短波限。 3.连续x射线谱产生机理 【a】.经典电动力学概念解释: 一个高速运动电子到达靶面时,因突然减速产生很大的负加速度,负加速度引起周围电磁场的急剧变化,产生电磁波,且具有不同波长,形成连续X射线谱。 【b】.量子理论解释: * 电子与靶经过多次碰撞,逐步把能量释放到零,同时产生一系列能量为hυi的光子序列,形成连续谱 * 存在ev=hυmax,υmax=hc/ λ0, λ0为短波限,从而推出λ0=1.24/ V (nm) (V为电子通过两极时的电压降,与管压有关)。 * 一般ev≥h υ,在极限情况下,极少数电子在一次碰撞中将全部能量一次性转化为一个光量子 4.特征x射线谱的特点 对于一定元素的靶,当管压小于某一限度时,只激发连续谱,管压增高,射线谱曲线只向短波方向移动,总强度增高,本质上无变化。 当管压超过某一临界值后,在连续谱某几个特定波长的地方,强度突然显著

材料分析测试技术-习题

第一章 1.什么是连续X射线谱?为什么存在短波限λ0? 答:对X射线管施加不同的电压,再用适当的方法去测量由X射线管发出的X射线的波长和强度,便会得到X射线强度与波长的关系曲线,称之为X射线谱。在管电压很低,小于20kv时的曲线是连续的,称之为连续谱。大量能量为eV的自由电子与靶的原子整体碰撞时,由于到达靶的时间和条件不同,绝大多数电子要经过多次碰撞,于是产生一系列能量为hv的光子序列,形成连续的X射线谱,按照量子理论观点,当能量为eV的电子与靶的原子整体碰撞时,电子失去自己的能量,其中一部分以光子的形式辐射出去,在极限情况下,极少数的电子在一次碰撞中将全部的能量一次性转化为一个光量子,这个光量子具有最高的能量和最短的波长,即λ0。 2.什么是特征X射线?它产生的机理是什么?为什么存在激发电压Vk? 答:当X射线管电压超过某个临界值时,在连续谱的某个波长处出现强度峰,峰窄而尖锐,这些谱线之改变强度,而峰位置所对应的波长不便,即波长只与靶的原子序数有关,与电压无关,因为这种强度峰的波长反映了物质的原子序数特征,故称为特征X射线,由特征X射线构成的X射线谱叫做特征X射线谱。 它的产生是与阳极靶物质的原子结构紧密相关当外来的高速粒子(电子或光子)的动能足够大时,可以将壳层中的某个电子击出,或击到原子系统之外,击出原子内部的电子形成逸出电子,或使这个电子填补到未满的高能级上。于是在原来位置出现空位,原子系统处于激发态,高能级的电子越迁到该空位处,同时将多余的能量e=hv=hc/λ释放出来,变成光电子而成为德特征X射线。 由于阴极射来的电子欲击出靶材的原子内层电子,比如k层电子,必须使其动能大于k 层电子与原子核的结合能Ek或k层的逸出功Wk。即有eV k=1/2mv2〉-Ek=Wk,故存在阴极电子击出靶材原子k电子所需要的临界激发电压Vk。 3、X射线与物质有哪些互相作用? 答;X射线的散射:相干散射,非相干散射 X射线的吸收:二次特征辐射(当入射X射线的能量足够大时,会产生二次荧光辐射); 光电效应:这种以光子激发原子所产生的激发和辐射过程;俄歇效应:当内层电子被击出成为光电子,高能级电子越迁进入低能级空位,同时产生能量激发高层点成为光电子。 4、线吸收系数μl和质量吸收系数μm的含义 答:线吸收系数μl:在X射线的传播方向上,单位长度的X射线强度衰减程度[cm-1](强度为I的入射X射线在均匀物质内部通过时,强度的衰减率与在物质内通过的距离x成正步-dI/I=μdx,强度的衰减与物质内通过的距离x成正比)。与物质种类、密度、波长有关。质量吸收系数μm:他的物理意义是单位重量物质对X射线的衰减量,μ/P=μm[cm2/g]与物质密度和物质状态无关,而与物质原子序数Z和μm=kλ3Z3,X射线波长有关。 5、什么是吸收限?为什么存在吸收限? 答:1)当入射光子能量hv刚好击出吸收体的k层电子,其对应的λk为击出电子所需要的入射光的最长波长,在光电效应产生的条件时,λk称为k系激发限,若讨论X射线的被物质吸收时,λk又称为吸收限。 当入射X射线,刚好λ=λk时,入射X射线被强烈的吸收。当能量增加,即入射λ〉λk时,吸收程度小。

机械工程测试技术课后习题答案 (1)

第三章:常用传感器技术 3-1 传感器主要包括哪几部分?试举例说明。 传感器一般由敏感元件、转换元件、基本转换电路三部分组成。 如图所示的气体压力传感器。其内部的膜盒就是敏感元件,它的外部与大气压力相通,内部感受被测压力p ,当p 发生变化时,引起膜盒上半部分移动,可变线圈是传感器的转换元件,它把输入的位移量转换成电感的变化。基本电路则是完成上述电感变化量接入基本转换电路,便可转换成电量输出。 3-2 请举例说明结构型传感器与物性型传感器的区别。 答:结构型传感器主要是通过传感器结构参量的变化实现信号变换的。例如,电容式传感器依靠极板间距离变化引起电容量的变化;电感式传感器依靠衔铁位移引起自感或互感的变化。 物性型传感器则是利用敏感元件材料本身物理性质的变化来实现信号变换。例如,水银温度计是利用水银的热胀冷缩性质;压电式传感器是利用石英晶体的压电效应等。 3-3 金属电阻应变片与半导体应变片在工作原理上有何区别? 答: (1)金属电阻应变片是基于金属导体的“电阻应变效应”, 即电阻材料在外力作用下发生机械变形时,其电阻值发生变化的现象,其电阻的相对变化为()12dR R με=+; (2)半导体应变片是基于半导体材料的“压阻效应”,即电阻材料受到载荷作用而产生应力时,其电阻率发生变化的现象,其电阻的相对变化为dR d E R ρλερ == 。 3-4 有一电阻应变片(见图3-105),其灵敏度S 0=2,R =120Ω,设工作时其应变为1000με,问ΔR =?设将此应变片接成图中所示的电路,试求:1)无应变时电流指示值;2)有应变时电流指示值;3)试分析这个变量能否从表中读出? 解:根据应变效应表达式?R /R =S g ?得 ?R =S g ? R =2?1000?10-6?120=? 1)I 1=R =120=0.0125A= 2)I 2=(R +?R )=(120+?0.012475A= 3)电流变化量太小,很难从电流表中读出。如果采用高灵敏度小量程的微安表,则量程不够,无法测量的电流;如果采用毫安表,无法分辨的电流变化。一般需要电桥来测量,将无应变时的零位位电流平衡掉,只取有应变时的微小输出量,并可根据需要采用放大器放大。 3-5 电容式传感器常用的测量电路有哪几种 答:变压器式交流电桥、直流极化电路、调频电路、运算放大电路等。 图3-105 题3-4图

材料分析测试技术》试卷(答案)

《材料分析测试技术》试卷(答案) 一、填空题:(20分,每空一分) 1. X射线管主要由阳极、阴极、和窗口构成。 2. X射线透过物质时产生的物理效应有:散射、光电效应、透射X射线、和热。 3. 德拜照相法中的底片安装方法有:正装、反装和偏装三种。 4. X射线物相分析方法分:定性分析和定量分析两种;测钢中残余奥氏体的直接比较法就属于其中的定量分析方法。 5. 透射电子显微镜的分辨率主要受衍射效应和像差两因素影响。 6. 今天复型技术主要应用于萃取复型来揭取第二相微小颗粒进行分析。 7. 电子探针包括波谱仪和能谱仪成分分析仪器。 8. 扫描电子显微镜常用的信号是二次电子和背散射电子。 二、选择题:(8分,每题一分) 1. X射线衍射方法中最常用的方法是( b )。 a.劳厄法;b.粉末多晶法;c.周转晶体法。 2. 已知X光管是铜靶,应选择的滤波片材料是(b)。 a.Co ;b. Ni ;c. Fe。 3. X射线物相定性分析方法中有三种索引,如果已知物质名时可以采用(c )。 a.哈氏无机数值索引;b. 芬克无机数值索引;c. 戴维无机字母索引。4. 能提高透射电镜成像衬度的可动光阑是(b)。 a.第二聚光镜光阑;b. 物镜光阑;c. 选区光阑。 5. 透射电子显微镜中可以消除的像差是( b )。 a.球差;b. 像散;c. 色差。 6. 可以帮助我们估计样品厚度的复杂衍射花样是(a)。 a.高阶劳厄斑点;b. 超结构斑点;c. 二次衍射斑点。 7. 电子束与固体样品相互作用产生的物理信号中可用于分析1nm厚表层成分的信号是(b)。 a.背散射电子;b.俄歇电子;c. 特征X射线。 8. 中心暗场像的成像操作方法是(c)。 a.以物镜光栏套住透射斑;b.以物镜光栏套住衍射斑;c.将衍射斑移至中心并以物镜光栏套住透射斑。 三、问答题:(24分,每题8分) 1.X射线衍射仪法中对粉末多晶样品的要求是什么 答:X射线衍射仪法中样品是块状粉末样品,首先要求粉末粒度要大小 适中,在1um-5um之间;其次粉末不能有应力和织构;最后是样品有一 个最佳厚度(t =

材料测试分析方法(究极版)

绪论 3分析测试技术的发展的三个阶段? 阶段一:分析化学学科的建立;主要以化学分析为主的阶段。 阶段二:分析仪器开始快速发展的阶段 阶段三:分析测试技术在快速、高灵敏、实时、连续、智能、信息化等方面迅速发展的阶段4现代材料分析的内容及四大类材料分析方法? 表面和内部组织形貌。包括材料的外观形貌(如纳米线、断口、裂纹等)、晶粒大小与形态、各种相的尺寸与形态、含量与分布、界面(表面、相界、晶界)、位向关系(新相与母相、孪生相)、晶体缺陷(点缺陷、位错、层错)、夹杂物、内应力。 晶体的相结构。各种相的结构,即晶体结构类型和晶体常数,和相组成。 化学成分和价键(电子)结构。包括宏观和微区化学成份(不同相的成份、基体与析出相的成份)、同种元素的不同价键类型和化学环境。 有机物的分子结构和官能团。 形貌分析、物相分析、成分与价键分析与分子结构分析四大类方法 四大分析:1图像分析:光学显微分析(透射光反射光),电子(扫描,透射),隧道扫描,原子力2物象:x射线衍射,电子衍射,中子衍射3化学4分子结构:红外,拉曼,荧光,核磁 获取物质的组成含量结构形态形貌及变化过程的技术 材料结构与性能的表征包括材料性能,微观性能,成分的测试与表征 6.现代材料测试技术的共同之处在哪里? 除了个别的测试手段(扫描探针显微镜)外,各种测试技术都是利用入射的电磁波或物质波(如X射线、高能电子束、可见光、红外线)与材料试样相互作用后产生的各种各样的物理信号(射线、高能电子束、可见光、红外线),探测这些出射的信号并进行分析处理,就课获得材料的显微结构、外观形貌、相组成、成分等信息。 9.试总结衍射花样的背底来源,并提出一些防止和减少背底的措施 衍射花样要素:衍射线的峰位、线形、强度 答:(I)花材的选用影晌背底; (2)滤波片的作用影响到背底;(3)样品的制备对背底的影响 措施:(1)选靶靶材产生的特征x射线(常用Kα射线)尽可能小的激发样品的荧光辐射,以降低衍射花样背底,使图像清晰。(2)滤波,k系特征辐射包括Ka和kβ射线,因两者波长不同,将使样品的产生两套方位不同得衍射花样;选择浪滋片材料,使λkβ靶<λk滤<λkα,Ka射线因因激发滤波片的荧光辐射而被吸收。(3)样品,样品晶粒为50μm左右,长时间研究,制样时尽量轻压,可减少背底。 11.X射线的性质; x射线是一种电磁波,波长范围:0.01~1000à X射线的波长与晶体中的原子问距同数量级,所以晶体可以用作衍射光栅。用来研究晶体结构,常用波长为0.5~2.5à 不同波长的x射线具有不同的用途。硬x射线:波长较短的硬x封线能量较高,穿透性较强,适用于金属部件的无损探伤及金属物相分析。软x射线:波长较长的软x射线的能量较低,穿透性弱,可用干分析非金属的分析。用于金属探伤的x射线波长为0.05~0.1à当x射线与物质(原子、电子作用时,显示其粒子性,具有能量E=h 。产生光电效应和康普顿效应等 当x射线与x射线相互作用时,主要表现出波动性。 x射线的探测:荧光屏(ZnS),照相底片,探测器

材料分析测试方法

材料分析测试方法 一、课程重要性 二、课程主要内容 三、本课程教学目的基本要求 四、本课程与其他课程的关系 材料分析测试方法 二、课程的主要内容 材料分析的基本原理(或称技术基础)是指测量信号与材料成分、结构等的特征关系。 采用各种不同的测量信号(相应地具有与材料的不同特征关系)形成了各种不同的材料分析方法。 1、X-射线衍射分析:物相成分、结晶度、晶粒度信息 2、电子显微镜:材料微观形貌观察 3、热分析:分析材料随温度而发生的状态变化 4、振动光谱:分子基团、结构的判定 5、X-射线光电子能谱:一种表面分析技术,表面元素分析 6、色谱分析:分析混合物中所含成分的物理方法 三、课程教学目的和基本要求 本课程是为材料专业本科生开设的重要的专业课。 其目的在于使学生系统地了解现代主要分析测试方法的基本原理、仪器设备、样品制备及应用,掌握常见测试技术所获信息的解释和分析方法,最终使学生能够独立地进行材料的分析和研究工作。 四、本课程与其他课程的关系 本门课程是以高等数学、大学物理、无机及分析化学、有机化学、物理化学、晶体学等课程为基础的,因此,学好这些前期课程是学好材料现代分析测试方法的前提。 同时,材料现代分析测试方法又为后续专业课程如材料合成与制备方法、陶瓷、功能材料、高分子材料等打下基础。 X 射线衍射分析 X射线物理基础 晶体学基础:几何晶体学、倒点阵 X射线衍射原理:X射线衍射线的方向和强度 晶体的研究方法:单晶、多晶的研究、衍射仪法 X射线衍射分析的应用 物相分析 晶胞参数的确定 晶粒尺寸的计算等 X 射线衍射分析 需解决的问题 科研、生产、商业以及日常生活中,人们经常遇到这种问题:某种未知物的成分是什么?含有哪些杂质或有害物质?用什么方法来鉴定? X射线衍射分析(简称XRD)的原理?仪器组成?样品要求? XRD除物相分析外,还能检测分析物质的哪些性能? 如何从XRD所给出的数据中提取更多的信息?(包括成分、结构、形成条件、结晶度、晶粒度等)

《材料分析测试技术》试卷答案

《材料分析测试技术》试卷(答案) 一、填空题:(20分,每空一分) 1.X射线管主要由阳极、阴极、和窗口构成。 2.X射线透过物质时产生的物理效应有:散射、光电效应、透射X 射线、和热。 3.德拜照相法中的底片安装方法有: 正装、反装和偏装三种。 4. X射线物相分析方法分: 定性分析和定量分析两种;测钢中残余奥氏体的直接比较法就属于其中的定量分析方法。 5.透射电子显微镜的分辨率主要受衍射效应和像差两因素影响。 6.今天复型技术主要应用于萃取复型来揭取第二相微小颗粒进行分析。 7. 电子探针包括波谱仪和能谱仪成分分析仪器。 8.扫描电子显微镜常用的信号是二次电子和背散射电子。 二、选择题:(8分,每题一分) 1.X射线衍射方法中最常用的方法是( b )。 a.劳厄法;b.粉末多晶法;c.周转晶体法。 2. 已知X光管是铜靶,应选择的滤波片材料是(b)。 a.Co;b. Ni;c.Fe。 3.X射线物相定性分析方法中有三种索引,如果已知物质名时可以采用( c )。 a.哈氏无机数值索引;b. 芬克无机数值索引;c. 戴维无机字母索引。 4.能提高透射电镜成像衬度的可动光阑是(b)。 a.第二聚光镜光阑;b.物镜光阑;c. 选区光阑。 5. 透射电子显微镜中可以消除的像差是( b )。 a.球差; b. 像散; c. 色差。 6.可以帮助我们估计样品厚度的复杂衍射花样是( a)。 a.高阶劳厄斑点;b.超结构斑点;c. 二次衍射斑点。 7. 电子束与固体样品相互作用产生的物理信号中可用于分析1nm厚表层成分的信号是(b)。 a.背散射电子; b.俄歇电子;c. 特征X射线。 8. 中心暗场像的成像操作方法是(c)。 a.以物镜光栏套住透射斑;b.以物镜光栏套住衍射斑;c.将衍射斑移至中心并以物镜光栏套住透射斑。 三、问答题:(24分,每题8分) 1.X射线衍射仪法中对粉末多晶样品的要求是什么? 答: X射线衍射仪法中样品是块状粉末样品,首先要求粉末粒度要大小适 中,在1um-5um之间;其次粉末不能有应力和织构;最后是样品有一个 最佳厚度(t =

(完整版)材料分析测试技术部分课后答案

材料分析测试技术部分课后答案 太原理工大学材料物理0901 除夕月 1-1 计算0.071nm(MoKα)和0.154nm(CuKα)的X-射线的振动频率和能量。 ν=c/λ=3*108/(0.071*10-9)=4.23*1018S-1 E=hν=6.63*10-34*4.23*1018=2.8*10-15 J ν=c/λ=3*108/(0. 154*10-9)=1.95*1018S-1 E=hν=6.63*10-34*2.8*1018=1.29*10-15 J 1-2 计算当管电压为50kV时,电子在与靶碰撞时的速度与动能以及所发射的连续谱的短波限和光子的最大动能. E=eV=1.602*10-19*50*103=8.01*10-15 J λ=1.24/50=0.0248 nm E=8.01*10-15 J(全部转化为光子的能量) V=(2eV/m)1/2=(2*8.01*10-15/9.1*10-31)1/2=1.32*108m/s 1-3分析下列荧光辐射产生的可能性,为什么? (1)用CuKαX射线激发CuKα荧光辐射; (2)用CuKβX射线激发CuKα荧光辐射;

(3)用CuKαX射线激发CuLα荧光辐射。 答:根据经典原子模型,原子内的电子分布在一系列量子化的壳层上,在稳定状态下,每个壳层有一定数量的电子,他们有一定的能量。最内层能量最低,向外能量依次增加。 根据能量关系,M、K层之间的能量差大于L、K成之间的能量差,K、L层之间的能量差大于M、L层能量差。由于释放的特征谱线的能量等于壳层间的能量差,所以K?的能量大于Ka 的能量,Ka能量大于La的能量。 因此在不考虑能量损失的情况下: CuKa能激发CuKa荧光辐射;(能量相同) CuK?能激发CuKa荧光辐射;(K?>Ka) CuKa能激发CuLa荧光辐射;(Ka>la) 1-4 以铅为吸收体,利用MoKα、RhKα、AgKαX射线画图,用图解法证明式(1-16)的正确性。(铅对于上述Ⅹ射线的质量吸收系数分别为122.8,84.13,66.14 cm2/g)。再由曲线求出铅对应于管电压为30 kv条件下所发出的最短波长时质量吸收系数。 解:查表得 以铅为吸收体即Z=82 Kαλ3 λ3Z3 μm Mo 0.714 0.364 200698 122.8 Rh 0.615 0.233 128469 84.13 Ag 0.567 0.182 100349 66.14 画以μm为纵坐标,以λ3Z3为横坐标曲线得K≈8.49×10-4,可见下图 铅发射最短波长λ0=1.24×103/V=0.0413nm λ3Z3=38.844×103 μm = 33 cm3/g 1-5. 计算空气对CrKα的质量吸收系数和线吸收系数(假设空气中只有质量分数80%的氮和质量分数20%的氧,空气的密度为1.29×10-3g/cm3)。 解:μm=0.8×27.7+0.2×40.1=22.16+8.02=30.18(cm2/g) μ=μm×ρ=30.18×1.29×10-3=3.89×10-2 cm-1 1-6. 为使CuKα线的强度衰减1/2,需要多厚的Ni滤波片?(Ni的密度为8.90g/cm3)。1-7. CuKα1和CuKα2的强度比在入射时为2:1,利用算得的Ni滤波片之后其比值会有什么变化? 解:设滤波片的厚度为t 根据公式I/ I0=e-Umρt;查表得铁对CuKα的μm=49.3(cm2/g),有:1/2=exp(-μmρt) 即t=-(ln0.5)/ μmρ=0.00158cm 根据公式:μm=Kλ3Z3,CuKα1和CuKα2的波长分别为:0.154051和0.154433nm ,所以μm=K

材料分析测试技术期末考试重点知识点归纳

材料分析测试技术复习参考资料(注:所有的标题都是按老师所给的“重点”的标题,) 第一章x射线的性质 射线的本质:X射线属电磁波或电磁辐射,同时具有波动性和粒子性特征,波长较为可见光短,约与晶体的晶格常数为同一数量级,在10-8cm左右。其波动性表现为以一定的频率和波长在空间传播;粒子性表现为由大量的不连续的粒子流构成。 2,X射线的产生条件:a产生自由电子;b使电子做定向高速运动;c在电子运动的路径上设置使其突然减速的障碍物。 3,对X射线管施加不同的电压,再用适当的方法去测量由X射线管发出的X射线的波长和强度,便会得到X射线强度与波长的关系曲线,称为X射线谱。在管电压很低,小于某一值(Mo阳极X射线管小于20KV)时,曲线变化时连续变化的,称为连续谱。在各种管压下的连续谱都存在一个最短的波长值λo,称为短波限,在高速电子打到阳极靶上时,某些电子在一次碰撞中将全部能量一次性转化为一个光量子,这个光量子便具有最高的能量和最短的波长,这波长即为λo。λo=V。 4,特征X射线谱: 概念:在连续X射线谱上,当电压继续升高,大于某个临界值时,突然在连续谱的某个波长处出现强度峰,峰窄而尖锐,改变管电流、管电压,这些谱线只改变强度而峰的位置所对应的波长不变,即波长只与靶的原子序数有关,与电压无关。因这种强度峰的波长反映了物质的原子序数特征、所以叫特征x射线,

由特征X射线构成的x射线谱叫特征x射线谱,而产生特征X射线的最低电压叫激发电压。 产生:当外来的高速度粒子(电子或光子)的动aE足够大时,可以将壳层中某个电子击出去,或击到原于系统之外,或使这个电子填到未满的高能级上。于是在原来位置出现空位,原子的系统能量因此而升高,处于激发态。这种激发态是不稳定的,势必自发地向低能态转化,使原子系统能量重新降低而趋于稳定。这一转化是由较高能级上的电子向低能级上的空位跃迁的方式完成的,电子由高能级向低能级跃迁的过程中,有能量降低,降低的能量以光量子的形式释放出来形成光子能量,对于原子序数为Z的确定的物质来说,各原子能级的能量是固有的,所以.光子能量是固有的,λ也是固有的。即特征X射线波长为一固定值。 能量:若为K层向L层跃迁,则能量为: 各个系的概念:原于处于激发态后,外层电子使争相向内层跃迁,同时辐射出特征x射线。我们定义把K层电子被击出的过程叫K系激发,随之的电子跃迁所引起的辐射叫K系辐射,同理,把L层电子被击出的过程叫L系激发,随之的电子跃迁所引起的辐射叫L系辐射,依次类推。我们再按电子跃迁时所跨越的能级数目的不同把同一辐射线系分成几类,对跨 越I,2,3..个能级所引起的辐射分别标以α、β、γ等符号。电子由L—K,M—K跃迁(分别跨越1、2个能级)所引起的K系辐射定义为Kα,Kβ谱线;同理,由M—L,N—L电子跃迁将辐射出L系的Lα,Lβ谱线,以此类推还有M线系等。 莫赛莱定律:特征X射线谱的频率或波长只取决于阳极靶物质的原子能级结构,

《材料现代分析测试方法》复习题

《近代材料测试方法》复习题 1.材料微观结构和成分分析可以分为哪几个层次?分别可以用什么方法分析? 答:化学成分分析、晶体结构分析和显微结构分析 化学成分分析——常规方法(平均成分):湿化学法、光谱分析法 ——先进方法(种类、浓度、价态、分布):X射线荧光光谱、电子探针、 光电子能谱、俄歇电子能谱 晶体结构分析:X射线衍射、电子衍射 显微结构分析:光学显微镜、透射电子显微镜、扫面电子显微镜、扫面隧道显微镜、原 子力显微镜、场离子显微镜 2.X射线与物质相互作用有哪些现象和规律?利用这些现象和规律可以进行哪些科学研究工作,有哪些实际应用? 答:除贯穿部分的光束外,射线能量损失在与物质作用过程之中,基本上可以归为两大类:一部 分可能变成次级或更高次的X射线,即所谓荧光X射线,同时,激发出光电子或俄歇电子。另一部分消耗在X射线的散射之中,包括相干散射和非相干散射。此外,它还能变成热量逸出。 (1)现象/现象:散射X射线(想干、非相干)、荧光X射线、透射X射线、俄歇效 应、光电子、热能 (2)①光电效应:当入射X射线光子能量等于某一阈值,可击出原子内层电子,产 生光电效应。

应用:光电效应产生光电子,是X射线光电子能谱分析的技术基础。光电效应 使原子产生空位后的退激发过程产生俄歇电子或X射线荧光辐射是 X射线激发俄歇能谱分析和X射线荧光分析方法的技术基础。 ②二次特征辐射(X射线荧光辐射):当高能X射线光子击出被照射物质原子的 内层电子后,较外层电子填其空位而产生了次生特征X射线(称二次特征辐射)。 应用:X射线被物质散射时,产生两种现象:相干散射和非相干散射。相干散射 是X射线衍射分析方法的基础。 3.电子与物质相互作用有哪些现象和规律?利用这些现象和规律可以进行哪些科学研究工作,有哪些实际应用? 答:当电子束入射到固体样品时,入射电子和样品物质将发生强烈的相互作用,发生弹性散射和非弹性散射。伴随着散射过程,相互作用的区域中将产生多种与样品性质有关的物理信息。 (1)现象/规律:二次电子、背散射电子、吸收电子、透射电子、俄歇电子、特征X射 线 (2)获得不同的显微图像或有关试样化学成分和电子结构的谱学信息 4.光电效应、荧光辐射、特征辐射、俄歇效应,荧光产率与俄歇电子产率。 特征X射线产生机理。 光电效应:当入射X射线光子能量等于某一阈值,可击出原子内层电子,产生光电效应。 荧光辐射:被打掉了内层电子的受激原子,将发生外层电子向内层跃迁的过程,同时辐射出波长严格一定的特征X射线。这种利用X射线激发而产生的特征辐射为二次特

材料分析测试技术期末考试重点知识点归纳

材料分析测试技术复习参考资料 1、透射电子显微镜 其分辨率达10-1 nm ,扫描电子显微镜 其分辨率为Inmo 透射电子显微镜放大倍数大。 第一章x 射线的性质 2、X 射线的本质:X 射线属电磁波或电磁辐射,同时具有波动性和粒子性特征,波长较为可见光短,约与 晶体的晶格常数为同 一数量级,在 10-8cm 左右。其波动性表现为以一定的频率和波长在空间传播;粒子性 表现为由大量的不连续的粒子流构成。 即电磁波。 3、 X 射线的产生条件:a 产生自由电子;b 使电子做定向高速运动;c 在电子运动的路径上设置使其突然减 速的障碍物。X 射 线管的主要构造:阴极、阳极、窗口 。 4、 对X 射线管施加不同的电压,再用适当的方法去测量由 X 射线管发出的X 射线的波长和强度,便会得到 X 射线强度与波长的关系曲线,称为 X 射线谱。在管电压很低,小于某一值( Mo 阳极X 射线管小于20KV ) 时,曲线变化时连续变化的,称为 连续谱。在各种管压下的连续谱都存在一个最短的波长值入 o ,称为短波 限,在高速电子打到阳极靶上时,某些电子在一次碰撞中将全部能量一次性转化为一个光量子,这个光量 子便具有最高的能量和最短的波长,这波长即为入 0。入o=1.24/V 。 5、 X 射线谱分连续X 射线谱和特征X 射线谱。 * 6、特征X 射线谱: 概念:在连续X 射线谱上,当电压继续升高,大于某个临界值时,突然在连续谱的某个波长处出现强度峰, 峰窄而尖锐,改变管电流、管电压,这些谱线只改变强度而峰的位置所对应的波长不变,即波长只与靶的 原子序数有关,与电压无关。因这种强度峰的波长反映了物质的原子序数特征、所以叫特征 x 射线,由特 征X 射线构成的x 射线谱叫特征x 射线谱,而产生特征 X 射线的最低电压叫激发电压。 产生:当外来的高速度粒子(电子或光子)的动aE 足够大时,可以将壳层中某个电子击出去,或击到原于系 统之外,或使这个电子填到未满的高能级上。于是在原来位置出现空位,原子的系统能量因此而升高,处 于激发态。这种激发态是不稳定的,势必自发地向低能态转化,使原子系统能量重新降低而趋于稳定。这 一转化是由较高能级上的电子向低能级上的空位跃迁的方式完成的,电子由高能级向低能级跃迁的过程中, 有能量降低,降低的能量以光量子的形式释放出来形成光子能量,对于原子序数为 各原子能级的能量是固有的,所以?光子能量是固有的,入也是固有的。即特征 能量:若为K 层向L 层跃迁,则能量为: &口 = Av = hcfX 各个系的概念:原于处于激发态后,外层电子使争相向内层跃迁,同时辐射出特征 x 射线。我们定义把 K 层电子被击出的过程叫 K 系激发,随之的电子跃迁所引起的辐射叫 K 系辐射,同理,把 L 层电子被击出的 过程叫L 系激发,随之的电子跃迁所引起的辐射叫 L 系辐射,依次类推。我们再按电子跃迁时所跨越的能 级数目的不同把同一辐射线系分成几类,对跨 越I , 2, 3..个能级所引起的辐射分别标以a 、B 、丫等符号。电子由 L —K , M — K 跃迁(分别跨越1、2个 能级)所引起的K 系辐射定义为K a, K B 谱线;同理,由 M- L , N — L 电子跃迁将辐射出 L 系的L a, L p 谱 线,以此类推还有 M 线系等。 7、X 射线与物质的相互作用: 散射、吸收、透射。X 射线的散射有相干散射和非相干散射。 第二章X 衍射的方向 1,相干条件:两相干光满足频率相同、振动方向相同、相位差恒定(即n 的整数倍)或波程差是波长的整 数倍。 & X 衍射和布拉格方程 波在传播过程中,在波程差为波长整数倍的方向发生波的叠加,波的振幅得到最大程度的加强,称 为衍射,对应的方向为衍射方向,而为半整数的方向,波的振幅得到最大程度的抵消。 Z 的确定的物质来说, X 射线波长为一固定值。

材料分析测试方法名词解释

名词解释 1、连续X射线谱:由波长连续变化的X射线构成,也称白色X 射线或多色X射线。 2、短波限:连续X射线谱在短波方向的最短波长,即光子一次碰撞就耗尽能量所产生的X光子的波长,称为短波限λ0。 3、吸收限:指X射线通过物质时光子的能量大于或等于使物质原子激发的能量,如入射光子的能量必须大于或等于将K电子从无穷远移至K层时所做的功W,称此时的光子波长λ为K系的吸收限。 4、X射线强度:垂直X射线传播方向的单位面积上在单位时间内所通过的光子数目的能量总和。 5、特征X射线谱:由一定波长的若干X射线叠加在连续谱上构成,也称单色X射线和标识X射线。 6、特征X射线:原子内层电子受到激发后,在能级跃迁过程中直接释放的具有特征能量和波长的一种电磁波。 AHA12GAGGAGAGGAFFFFAFAF

7、光电效应:光与物质相互作用产生电子的现象。X射线与物质的相互作用可以看成是X光子与物质中原子的相互碰撞。当X光子具有足够能量时,可以将原子内层电子击出,该电子称为光电子。原子处于激发态,外层电子向内层空位跃迁,多余能量以辐射方式释放,即二次特征X射线或荧光X射线。这一过程即为X射线的光电效应。 ++ - M Mυ h → +e 8、倒易点阵:在晶体点阵(正点阵)基础上按一定对应关系构建的一个空间点阵。方向—倒易基矢垂直于正点阵中异名基矢构成的平面长度—倒易基矢与正点阵矢量间是倒 数关系 9、倒易矢量:由倒易原点指向任意倒易阵点的方向矢量。 10、布拉格方程:d-衍射晶面间距;θ-掠射角;λ-入射线波长;n-反射级数 11、反射球:以波矢量大小的倒数(1/λ)为半径,作一 AHA12GAGGAGAGGAFFFFAFAF

材料分析测试技术左演声课后答案

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第一章 电磁辐射与材料结构 一、教材习题 1-1 计算下列电磁辐射的有关参数: (1)波数为3030cm -1的芳烃红外吸收峰的波长(μm ); 答:已知波数ν=3030cm -1 根据波数ν与波长λ的关系)μm (10000)cm (1λν= -可得: 波长μm 3.3μm 3030 100001 ≈==νλ (2)5m 波长射频辐射的频率(MHz ); 解:波长λ与频率ν的关系为λνc = 已知波长λ=5m ,光速c ≈3×108m/s ,1s -1=1Hz 则频率MHz 6010605/103168=?=?=-s m s m ν (3)588.995nm 钠线相应的光子能量(eV )。 答:光子的能量计算公式为λνc h h E == 已知波长λ=588.995nm=5.88995?10-7m ,普朗克常数h =6.626×10-34J ?s ,光 速c ≈3×108m/s ,1eV=1.602×10-19J 则光子的能量(eV )计算如下: eV eV J m s m s J E 107.210602.110375.3 10375.31088995.5/10310 626.61919197834≈??=?=?????=----- 1-3 某原子的一个光谱项为45F J ,试用能级示意图表示其光谱支项与塞曼能级。 答:对于光谱项45F J ,n =4,L =3,M =5;S =2(M =2S +1=5),则J =5,4,3,2, 1,当J =5,M J =0,±1,±2,···±5;……J =1,M J =0,±1。光谱项为45F J 的能级示意图如下图:

材料分析测试技术习题及答案

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第一章 一、选择题 1.用来进行晶体结构分析的X射线学分支是() A.X射线透射学; B.X射线衍射学; C.X射线光谱学; D.其它 2. M层电子回迁到K层后,多余的能量放出的特征X射线称() A.Kα; B. Kβ; C. Kγ; D. Lα。 3. 当X射线发生装置是Cu靶,滤波片应选() A.Cu;B. Fe;C. Ni;D. Mo。

4. 当电子把所有能量都转换为X射线时,该X射线波长称() A.短波限λ0; B. 激发限λk; C. 吸收限; D. 特征X射线 5.当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L 层电子打出核外,这整个过程将产生()(多选题) A.光电子; B. 二次荧光; C. 俄歇电子; D. (A+C) 二、正误题 1. 随X射线管的电压升高,λ0和λk都随之

减小。() 2. 激发限与吸收限是一回事,只是从不同角度看问题。() 3. 经滤波后的X射线是相对的单色光。() 4. 产生特征X射线的前提是原子内层电子被打出核外,原子处于激发状态。() 5. 选择滤波片只要根据吸收曲线选择材料,而不需要考虑厚度。() 三、填空题 1. 当X射线管电压超过临界电压就可以产生X射线和X射线。 2. X射线与物质相互作用可以产

生、、、、 、、、。 3. 经过厚度为H的物质后,X射线的强度为。 4. X射线的本质既是也是,具有性。 5. 短波长的X射线称,常用于;长波长的X射线称 ,常用于。 习题 1.X射线学有几个分支?每个分支的研究对象

材料近代分析测试方法

1..当X射线将某物质原子的K层电子打出去后,L层电子回迁K层,多余能量将另一个L层电子打出核外,这整个过程将产生光电子和俄歇电子。 2.结构因子表征了晶胞内原子的种类,原子的个数、原子的位置对衍射强度的影响。 3.X射线在晶体中产生衍射的充分必要条件是:满足布拉格方程和结构因子FHKL ≠0. 4.德拜法衍射花样的测量主要是测量衍射线条的相对位置和相对强度,然后在计算出 角和晶面间距。 5.银的X射线光电子能谱的存在Ag 4s峰、Ag 3p峰、Ag 3s峰、Ag 3d峰四个特征峰,其中强度最大的峰是Ag 3d峰 6.原子力显微镜中利用斥力与吸引力的方式发展出三种接触模式、非接触模式和轻敲模式操作模式。 7.XPS光电子能谱图中通常会出现X射线卫星峰、能量损失峰、自旋轨道分裂峰、俄歇电子峰和振离和振激峰等5种伴峰。 8.俄歇电子能谱谱线KL1L2,K表示空穴所在壳层L1表示填充空穴电子所在壳层L2_表示俄歇电子所在壳层 9.X射线衍射仪由X射线发生器、X射线测角仪、辐射探测器和辐射探测电路4个基本部分组成,现代X射线衍射仪还配有控制操作和运行软件的计算机系统。 10.球差即球面像差,是由于电磁透镜的近轴区域磁场与远轴区域磁场对电子的折射能力不符合预定的规律造成的;像散是由透镜磁场的非旋转对称引起的;色差是由于入射电子的波长或能量不同或变化所造成的。 11.透射电镜主要由电子光学系统、供电控制系统、真空系统三部分组成。 12.利用电磁线圈激磁的电磁透镜,通过调节激磁电流可以很方便地调节磁场强度,从而调节焦距。 13.原子力显微镜(AFM)与扫描隧道显微镜(STM)最大的差别在于并非利用电子隧道效应,而是检测原子之间的相互作用力等来呈现样品的表面特性。 14.核磁共振的化学位移是由于核外电子的屏蔽效应而造成的,化学位移值是以标准物质(TMS)为相对标准得到的。 15.在甲基自由基中,三个质子与未成对电子等同的相互作用,其ESR谱由4重峰组成,相对强度比1:3:3:1. 16.影响红外吸收峰谱带位移的内部因素有空间效应、振动耦合、费米共振、氢键效应四种. 17.在程序控温条件下,示差扫描量热分析(DSC)是测定补偿功率与环境温度的关系,而差热分析(DTA)是测定物质和参比物的温度差与环境温度的关系,因而DSC能用于定量热分析上。 18.最基本的X射线衍射实验方法有三种:劳厄发、转晶法、粉末法。 19.粉末法测衍射线强度时,影响X射线衍射强度的因子有结构因子、角因子、多重性因子、温度因子、吸收因子。 20.宏观应力是多个晶粒范围内存在的保持平衡的应力,它能引起衍射线位移;微观应力是少数晶粒或若干原子范围内存在保持平衡的应力,它能引起衍射线位移或者强度变化。 21. 电子与物质相互作用,可产生二次电子,背散射电子,俄歇电子,特征X 射线等用于观测样品形貌或成分的主要信号。 22.通过调整中间镜的透镜电流,使中间镜的物平面与物镜的背焦面重合,可在

材料测试技术课后题答案

大功率转靶衍射仪与普通衍射仪相比,在哪两方面有其优越性? 答:①提高X射线强度;②缩短了试验时间 2、何为特征X射线谱?特征X射线的波长与(管电压)、(管电流)无关,只与(阳极材料)有关。 答:由若干条特定波长的谱线构成。当管电压超过一定的数值(激发电压V激)时产生。不同元素的阳极材料发出不同波长的X射线。因此叫特征X射线。 什么是Kα射线?在X射线衍射仪中使用的是什么类型的X射线? 答:L壳层中的电子跳入K层空位时发出的X射线,称之为Kα射线。 Kα射线的强度大约是Kβ射线强度的5倍,因此,在实验中均采用Kα射线。 Kα谱线又可分为Kα1和Kα2,Kα1的强度是Kα2强度的2倍,且Kα1和Kα2射线的波长非常接近,仅相差0.004?左右,通常无法分辨,因此,一般用Kα来表示。但在实际实验中有可能会出现两者分开的情况。 Al是面心立方点阵,点阵常数a=4.049?,试求(111)和(200)晶面的面间距。计算公式为:dhkl=a(h2+k2+l2)-1/2 答:d111=4.049/(12+12+12)-1/2=2.338?;d200=4.049/(22)-1/2=2.0245? 说说不相干散射对于衍射分析是否有利?为什么? 答:有利。不相干散射线由于波长各不相同,因此不会互相干涉形成衍射,所以它们散布于各个方向,强度一般很低,它们在衍射工作中只形成连续的背景。不相干散射的强度随sin θ/λ的增大而增强,而且原子序数越小的物质,其不相干散射愈大,造成对衍射分析工作的不利影响。 6、在X射线衍射分析中,为何要选用滤波片滤掉Kβ射线?说说滤波片材料的选取原则。实验中,分别用Cu靶和Mo靶,若请你选滤波片,分别选什么材料? 答:(1)许多X射线工作都要求应用单色X射线,由于Kα谱线的强度高,因此当要用单色X射线时,一般总是选用Kα谱线。但从X射线管发出的X射线中,当有Kα线时,必定伴有Kβ谱线及连续光谱,这对衍射工作是不利的,必须设法除去或减弱之,通常使用滤波片来达到这一目的。 滤波片的选取原则: ①滤波片材料的原子序数一般比X射线管靶材料的原子序数小1或2; ②滤波片的厚度要适当选择,太厚则X射线强度损失太大,太薄则滤波片作用不明显,一般控制厚度使滤波后Kα线和Kβ线的强度比为600:1。 X射线滤波片的选择:当Z靶≤40时,Z滤= Z靶-1;当Z靶>40时,Z滤= Z靶-2. 故Cu靶选28镍片作滤波片;Mo靶选40锌片作滤波片。 产生衍射的两个基本条件是什么? 答:产生衍射的两个基本条件:①必须有能够产生干涉的波动即要有X射线;②必须有周期性的散射中心即晶体中的原子。 2、画图说明何为衍射峰的积分强度、峰值强度、背景及半高宽。 结构因子的计算公式为F=fje2Лi(hxj+kyj+lzj),该式表明:结构因子与(晶胞中原子种类)、(单晶中原子个数)、(原子在空间位置)、(原子散射原子)等四个因素有关。 4、X射线衍射产生的条件是什么? 答:X射线衍射产生的充分必要条件: ①X射线衍射产生的必要条件是必须满足Bragg方程; ②X射线衍射产生的充分条件是结构因子不等于0。

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