晶体中的缺陷

晶体中的缺陷
晶体中的缺陷

第五章晶体中的缺陷

第五章要求

1掌握晶体缺陷的基本类型;

2能用热缺陷统计理论计算晶体中热缺陷的数目;

3熟悉缺陷扩散的两种微观机制,清楚为什么杂质的扩散系数大于晶体的自扩散系数;

4了解离子晶体点缺陷的特点以及导电机理.

晶体的主要特征是其中原子(或分子)的规则排列,但实际晶体中的原子排列会由于各种原因或多或少地偏离严格的周期性,于是就形成了晶体的缺陷,晶体中缺陷的种类很多,它影响着晶体的力学、热学、电学、光学等各方面的性质。晶体的缺陷表征对晶体

理想的周期结构的任何形式的偏离。

第一节晶体缺陷的基本类型

晶体缺陷的存在,破坏了完美晶体的有序性,引起晶体内能U和熵S增加。按缺陷在空间的几何构型可将缺陷分为点缺陷、线缺陷、面缺陷和体缺陷,它们分别取决于缺陷的延伸范围是零维、一维、二维还是三维来近似描述。每一类缺陷都会对晶体的性能产生很大影响,例如点缺陷会影响晶体的电学、光学和机械性能,线缺陷会严重影响晶体的强度、电性能等。

一、点缺陷

1、点缺陷定义

由于晶体中出现填隙原子和杂质原子等等,它们引起晶格周期性的破坏发生在一个或几个晶格常数的限度范围内,这类缺陷统称为点缺陷。这些空位和填隙原子是由热起伏原因所产生的,因此又称为热缺

陷。

2、空位、填隙原子和杂质

■空位:晶体内部的空格点就是空位。由于晶体中原子热运动,某些原子振动剧烈而脱离格点跑到表面上,在内部留下了空格

点,即空位。

■填隙原子:由于晶体中原子的热运动,某些原子振动剧烈而脱离格点进入晶格中的间隙位置,形成了填隙原子。即位于理想晶体中间隙中的原子。

■杂质原子:杂质原子是理想晶体中出现的异类原子。

3、几种点缺陷的类型

■弗仑克尔缺陷:原子(或离子)在格点平衡位置附近振动,由于非线性的影响,使得当粒子能量大到某一程度时,原子就

会脱离格点,而到达邻近的原子空隙中,当它失去多余动能后,

就会被束缚在那里,这样产生一个暂时的空位和一个暂时的填隙原子,当又经过一段时间后,填隙原子会与空位相遇,并同空位复合;也有可能跳到较远的间隙中去。若晶体中的空位与填隙原子的数目相等,这样的热缺陷称为弗仑克尔缺陷。

■肖特基缺陷:空位和填隙原子可以成对地产生(弗仑克尔缺陷),也可以在晶体内单独产生。若脱离格点的原子变成填隙原子,经过扩散跑到晶体表面占据正常格点位置,则在晶体内只留下空位,而没有填隙原子,仅由这种空位构成的缺陷称之为肖特基缺陷. 形成填隙原子时,原子挤入间隙位置所需的能量比产生肖特基缺陷空位所需的能量大,一般地,当温度不太高时,肖特基缺陷的数目要比弗仑克尔缺陷的数目大得多。

■杂质原子:实际晶体中存在某些微量杂质。一方面是晶体生长过程中引入的;另一方面是有目的地向晶体中掺入的一些微量杂质。当晶体存在杂质原子时,晶体的内能会增加,由于少量的杂质可以分布在数量很大的格点或间隙位置上,使晶体组态熵的变化也很大。因此温度T下,杂质原子的存在也可能使自由能降低。(F=U-TS)

当杂质原子取代基质原子占据规则的格点位置时,形成替位式杂质,如图a;若杂质原子占据间隙位置,形成间隙式杂质,如图

b

对一定晶体,杂质原子是形成替位式杂质还是间隙式杂质,主要取决于杂质原子与基质原子几何尺寸的的相对大小及其电负性。杂质原子比基质原子小得多时,形成间隙式杂质;替位式杂质在晶体中的溶解度也决定于原子的几何尺寸和化学因素。■色心:色心是一种非化学计量比引起的空位缺陷。该空位能够吸收可见光使原来透明的晶体出现颜色,因而称它们为色心, 最简单的色心是F心。

所谓F心是离子晶体中的一个负离子空位束缚一个电子构成的点缺陷。与F心相对的色心是V心。V心和F心在结构上是碱卤晶体中两种最简单的缺陷。

二、线缺陷

1、线缺陷的定义:

当晶格周期性的破坏发生在晶体内部一条线的周围则称为线缺陷,通常又称之为位错。它是由于应力超过弹性限度而使晶体发生范性形变所产生的,从晶体内部看,它就是晶体的一部分相对于另一部分发生滑移,以致在滑移区的分界线上出现线状缺陷。

2、位错的基本类型:

常见的位错有两种形式:刃位错和螺位错。

■刃位错:亦称棱位错。其特点是:原子的滑移方向与位错线的方向相垂直。

■螺位错:特点:是原子的滑移方向与位错线平行,且晶体内没有多余的半个晶面。垂直于位错线的各个晶面可以看成由一个晶面以螺旋

阶梯的形式构成。当晶体中存在螺位错时,原来的一族平行晶面就变成为以位错线为轴的螺旋面。

螺位错 ■位错线的特征:

1.滑移区与未滑移区的分界线;

2.位错线附近原子排列失去周期性;

3.位错线附近原子受应力作用强,能量高,位错不是热运动的结果;

4.位错线的几何形状可能很复杂,可能在体内形成闭合线,可能在晶体表面露头,不可能在体内中断。

刃型位错的特点是位错线垂直于滑移矢量b ; 螺型位错的特点是位错线平行于滑移矢量b 。

b 又称为伯格斯(Burgers )矢量,它的模等于滑移方向上的平衡原子间距,它的方向代表滑移方向。

■除此之外,还存在位错线于滑移矢量既不平行又不垂直的混合型位

错。混合位错的原子排列介于刃型位错和螺型位错之间,可以分解为刃型位错和螺型位错。

三、面缺陷

1、面缺陷的定义:

当晶格周期性的破坏发生在晶体内部一个面的周围则称为面缺陷。

2、常见的面缺陷的类型:

■层错:是由于晶面堆积顺序发生错乱而引入的面缺陷,又称堆垛层错。

■小角晶界:具有完整结构的晶体两部分彼此之间的取向有着小角度θ的倾斜,在角θ里的部分是由少数几个多余的半晶面所组成的过渡区,这个区域称小角晶界。

四、体缺陷:

在体缺陷中比较重要的是包裹体。包裹体是晶体生长过程中界面所捕获的夹杂物。它可能是晶体原料中某一过量组分形成的固体颗粒,也可能是晶体生产过程中坩埚材料带入的杂质微粒。

第二章位错缺陷的性质

一、位错的滑移

1、临界切应力:

当一金属晶体被拉伸时,拉伸力若超过弹性限度,晶体就会产生沿某一晶面族滑移的现象。结构相同的晶体,滑移方向和滑移面通常是相同的。对于一定的晶体,使其发生晶面滑移有一个最小的切应力,称为临界切应力。

临界切应力与材料的性质有关。材料不同,最小的切应力也不同。理论上的值比实验值大3---4个数量级。原因是实际晶体存在缺陷。

2、刃位错的滑移:

位错是晶体滑移部分与未滑移部分的分界线。在位错附近,由于晶格发生了畸变,原子的受力情况也发生了变化。

■刃位错滑移的特点:

(1)晶体的一部分相对与另一部分的滑移,实际是位错线的移动;(2)位错线的移动是逐步进行的;

(3)使位错线移动的切应力较小。

3、螺位错的滑移:

螺位错的滑移情况与刃位错的滑移类似,只是螺位错的滑移方向与晶体所受切应力的方向垂直。螺位错也是逐步发生的,所需切应力较小。

二、螺位错与晶体生长:

1、晶体中三种位置上原子的受力情况:

离散原子形成晶体的原因是原子之间存在结合力,其中原子间的吸引力是自由原子结合成晶体过程中的源动力。

A是晶体最外层原子面上的一个原子,只受下面原子的吸引, 只是单方向受力, 没有其他约束力, 是最不稳定的; B原子在二面角位置,受到两个相互垂直的原子层的吸引, 比A原子要稳定得多; C在三面角的位置,受到三个原子面的吸引, 势能最低是三者中最稳定的情况.

2、晶体的生长过程:

由上面三个位置的原子受力情况可见:晶体的生长过程中,原子是一层一层地堆积生长的,原子先占据三面角的位置,其次是占据二面角的位置,一层还没有堆积完毕,原子不会堆积新的一层。

但是当一层完成后,生长新的一层就比较困难。

3、晶体生长中螺位错的“触媒”作用:

有螺位错的晶体生长要快得多。在剪切晶面处不仅有二面角,而且螺位错的附近可以看成变形的三面角,原子首先围绕螺位错旋转生长,不存在生长完一层才能生长新一层的困难。

螺位错在晶体生长中起着“触媒”的作用,它可以大大加快晶体的生长速度。

第三节热缺陷的统计

一、热缺陷的产生几率

1热缺陷的运动、产生和复合

(设晶体中只有热缺陷)

1)弗伦克尔

当晶体中只有弗仑克耳缺陷时,填隙原子从一个间隙位置跳到另一个间隙位置,一旦落入与空位相邻的间隙位置,又变成一个正常格点上的原子。弗仑克耳空位也在运动,即空位最近邻格点上的原子回跳到空位的位置,等价于空位跳跃了一步。当空位运动到与填隙原子相邻的格点上时,它又与填隙原子复合。

2)肖特基

肖特基缺陷也存在产生、运动和复合问题。如果空位附近的原子获得足够的能量,就会跳到相邻空位上去,而原子原来的位置就成为

空位。当空位移动到晶体表面附近,它还可以与表面原子复合。

2、几个物理量(several physical quantities )

晶体中的温度一定时,热缺陷的产生和复合达到平衡,热缺陷的统计平均数目为一定值,热缺陷在晶体内均匀分布。

设晶体是由N 个原子构成,空位数目为n1,填隙原子数目为n2。描述热缺陷的运动、产生和复合,常采用下面三组量:

1) P 代表在单位时间内,一个正常格点上的原子跳到间隙位置,形成为填隙原子的几率;τ,τ=1/P ,代表在正常格点位置的原子形成填隙原子所须等待的时间。

2) P1 代表一个空位在单位时间内从一个格点位置跳到相邻格点位置的几率;事实上也就是相邻的正常格点跳到空位的几率;τ1=1/P1 ,代表空位从一个格点位置跳到相邻的格点位置所须等待的时间,即相邻格点位置的原子,跳入空位所须等待的时间。

3) P2 代表一个填隙原子在单位时间内从一个间隙位置跳到相邻间隙位置的几率; τ2=1/P2 ,代表间隙原子从一个间隙位置跳到相邻间隙位置所须等待的时间.

——计算τ1:

假设τ 2 >>τ 1 ,即与空位相邻的原子跳到空位上去所需等待的时间,比填隙原子由一个间隙位置跳到相邻间隙位置所要等待的时间短的多,可以近似把填隙原子视为静止。空位处在一个能量谷点上,相

T

k E B

e /1

-T

k E B e P /01

11-=ν

邻原子要跳到空位上,必须越过一定的势垒E1,粒子具有能量E1的几率与 成正比, 则与空位相邻的原子在单位时间内跳过势垒的次数可认为是 其中v01为与空位相邻的原子的振动频率;

所以空位相邻的原子跳入空位所要等待的时间

其中v01为与空位相邻的原子的振动频率,与空位相邻的原子跳到空位上去所需越过的势垒的高度为E1。

——计算τ2:

与τ1类似:

其中v02是填隙原子的振动频率,E2 是填隙原子从一间隙位置跳到相邻间隙位置所要跳过的势垒高度。

——计算P :

每当空位附近间隙位置上有填隙原子时,填隙原子与空位复合的几率很大,不妨认为该几率为1。

统计平均来说,填隙原子是均匀分布的。与空位相邻的一个间隙

T

k E B e /01

111

ντ=

T

k E B e /02

221

ντ=

1

22

1τN n n P =

位置有填隙原子的几率为n2/N’ , 取N’=N , 则此几率为n2/N ,即空位每跳一步遇到填隙原子并与之复合的几率为n2/N ,也就是说,空位平均跳跃N / n2 步才能遇到一个填隙原子并与之复合。

空位每跳一步所需花费时间为τ 1 ,所以空位的平均寿命为 τ 1 N / n2 。空位在τ 1 N / n2 时间内复合掉一个填隙原子,则在单位时间内一个空位复合掉的填隙原子数目为

n1个空位单位时间内复合掉的填隙原子数目为

单位时间内一个正常格点上的原子跳到间隙位置的几率为P ,正常格点上共有N-n1 个原子,单位时间内产生的填隙原子的数目为 (N>>n1)

温度一定时,填隙原子的产生率和复合率达到平衡,即

由上式可以得出单位时间内一个原子由一个正常格点跳到间隙位置变成填隙原子的几率为

二、热缺陷的数目 1,肖特基——空位数目

PN

P n N ≈-)(1

N n n N 12

2

11ττ=N

n n 12

1τN

n n PN 12

1τ=

1

22

1τN n n P =T

k u B Ne n /11-=

对于包含N 个原子的理想晶体,如果将n1 个原子从晶体的内部

移到表面,晶体的内能将增加 (1)

其中u1 是生成一个空位所需的平均能量。

当晶格中有n1 个空位时,整个晶体将包含N+n1 个格点, n1 个空位可能的排列方式为(N +n1)!/N!n1! ,这使晶体中原子排列的位形熵增加

(2)

总的自由能的改变为

(3) 由 且

(F 只与N 有关,且F 取最小值时即位于自由能最低时晶格最稳

定)

得计算温度T 时空位的平衡浓度:

得空穴数 (一般取N 远大于n1) 同样的方法可以得到填隙原子数

U :形成能——将晶格内部一个格点上原子放入晶体表面能量。 2,弗伦克尔——空位和填隙原子的数目

假设形成一个弗仑克耳缺陷所需的能量为u ,这个能量就是将格点上的原子移到间隙位置所需的能量。设晶体中有N 个原子,有Ni

111u n U =?!!)!

(ln

1111111n N n N T k u n S T U F B +-=?-?=?!

!)!

(ln 111n N n N k S B

+=?011=???? ?????T n F x

dx x d ln )!ln(=T

k u B e n N n /1

1

1-=+T k u B Ne n /11-=T k u B Ne n /2

2-=

nu

U =?T

k u B Ne n 2/-=

个间隙位置。当晶体中存在n 个弗仑克耳缺陷时,晶体内能的变化为

而熵的变化为两部分:

其一是, N 个原子的晶体中有n 个空位, N- n 个原子在格点上的排列方式为

其二是,存在n 个填隙原子时,这n 个原子在Ni 个间隙位置上,有 总熵变

自由能变化

同理当 时得到弗仑克耳缺陷数 (N 较大)

注:推导以上过程隐含假设 1, 全同粒子

2, n1,n2远小于N ,Ni

3, 点缺陷相互独立——无相互作用 4,

温度变化不引起体积变化(忽略不计)、

!

)!(!n n N N -!

)!(!

n n N N i i -]

!

)!(!ln !)!(!

[ln

n n N N n n N N k S i i B -+-=?]!

)!(!ln !)!(!

[ln n n N N n n N N T k nu S T U F i i B -+--=?-?=?0][=???T n

F T k u B Ne n

2/-=

5,不考虑点缺陷对晶格振动影响

第四节晶体中的缺陷和扩散

一主要内容和基本概念

(一)晶体的缺陷表征对晶体理想的周期结构的任何形式的偏离。缺陷对于晶体的各种性质产生十分重要的作用。晶体缺陷的存在,破坏了完美晶体的有序性,引起晶体内能U和熵S增加。按缺陷

在空间的几何构型可将缺陷分为点缺陷、线缺陷、面缺陷和体缺陷

(二)缺陷的基本类型

○1点缺陷:又成为热缺陷(由热起伏的原因产生),引起

晶格周期性的破坏发生在一个或几个晶格常数的限度范

围内

几个定义:空位(内部原子由于热运动而脱离格点跑到晶体表面造成的晶体内部的空格点)、填隙原子(某些由于振动剧烈

而脱离格点进入晶格间隙位置的原子)、杂质原子(理想晶体中的异类原子)

点缺陷的类型:①弗伦克尔缺陷:热运动的原子能量大到一定程度,脱离格点,到达临近的原子空隙中,形成一个暂

时的空位和一个暂时的填隙原子。像这种,晶体中的空位和填隙原子数目相等的缺陷,成为弗伦克尔缺陷。

(如右图示)

②肖特基缺陷:脱离格点的原子变成填隙原子,经过扩散跑到晶体表面占据正常格点位置,则在

晶体内只留下空位,而没有填隙原

子,仅由这种空位构成的缺陷称之为

肖特基缺陷。

2)线缺陷

扩散现象的本质是粒子无规则的布朗运

动,通过扩散能实验质量的输运。 方程的简单推导过程如下:

设粒子浓度为C ,稳定态时,扩散粒子流密度(单位世界通过单

位面积的扩散物)j : j D C =-?

(1)

D 为扩散系数,负号表示由高向低扩散,(1)式又称

费克第二定律。

由(1)和连续性方程

0C

j t ?+??=? 得到扩散的连续性方程 ()C

j D C t

?=-??=????

一维情况 , 22

(,)(,)

C x t C x t

D t x

??=?? 1) 扩散条件

①一定量Q 的粒子由晶体的表面向内部扩散,即当开始

时,;,0,00Q C x t

===

.0)(,0,0=≠=x C x t

而当 t>0 时,扩散到晶体内部的粒子总数为Q ,即

()C x dx Q ∞

=?

此情况下,扩散方程的解为

2

(,)exp()4Q x C x t Dt Dt

π=-

②扩散粒子在晶体表面的浓度C 0 保持不变,边界条件为

.

0,0,0;,0,00=>===≥C x t C C x t

晶体结构缺陷

第二章 晶体结构缺陷 我们在讨论晶体结构时,是将晶体看成无限大,并且构成晶体的每个粒子(原子、分 子或离子)都是在自己应有的位置上,这样的理想结构中,每个结点上都有相应的粒子, 没有空着的结点,也没有多余的粒子,非常规则地呈周期性排列。实际晶体是这样的吗? 测试表明,与理想晶体相比,实际晶体中会有正常位置空着或空隙位置填进一个额外质点, 或杂质进入晶体结构中等等不正常情况,热力学计算表明,这些结构中对理想晶体偏离的 晶体才是稳定的,而理想晶体实际上是不存在的。结构上对理想晶体的偏移被称为晶体缺 陷。 实际晶体或多或少地存在着缺陷,这些缺陷的存在自然会对晶体的性质产生或大或小 的影响。晶体缺陷不仅会影响晶体的物理和化学性质,而且还会影响发生在晶体中的过程, 如扩散、烧结、化学反应性等。因而掌握晶体缺陷的知识是掌握材料科学的基础。 晶体的结构缺陷主要类型如表 2 — 1所示。这些缺陷类型,在无机非金属材料中最基本 和最重要的是点缺陷,也是本章的重点。 2.1点缺陷 研究晶体的缺陷, 就是要讨论缺陷的产生、 缺陷类型、浓度大小及对各种性质的影响。 60 年代,F . A . Kroger 和H . J . Vink 建立了比较 完整的缺陷研究理论一一缺陷化学理论,主要 用于研究晶体内的点缺陷。点缺陷是一种热力 学可逆缺陷,即它在晶体中的浓度是热力学参 数(温度、压力等)的函数,因此可以用化学 热力学的方法来研究晶体中点缺陷的平衡问 题,这就是缺陷化学的理论基础。点缺陷理论 的适用范围有一定限度,当缺陷浓度超过某一 临界值(大约在0. 1原子%左右)时,由于缺陷的 相互作用,会导致广泛缺陷(缺陷簇等)的生 成,甚至会形成超结构和分离的中间相。但大多数情况下,对许多无机晶体,即使在高温 下点缺陷的浓度也不会超过上述极限。 缺陷化学的基本假设:将晶体看作稀溶液,将缺陷看成溶质,用热力学的方法研究各种 缺陷在一定条件下的平衡。 也就是将缺陷看作是一种化学物质, 它们可以参与化学反应 准化学反应,一定条件下,这种反应达到平衡状态。 2.1.1 点缺陷的类型 点缺陷主要是原子缺陷和电子缺陷,其中原子缺陷可以分为三种类型: (1) 空位:在有序的理想晶体中应该被原子占据的格点,现在却空着。 (2) 填隙原子:在理想晶体中原子不应占有的那些位置叫做填隙(或间隙)位置,处于填 隙(或间隙)位 置上的原子就叫填隙(或间隙)原子。 (3) 取代原子:一种晶体格点上占据的是另一 种原子。如 AB 化合物晶体中, A 原子占据了 B 格点的位置,或 B 原子占据了 A 格点位置(也称错位原子) ;或外来原子(杂质原子)占据在A 格点 或B 格点上。 晶体中产生以上各种原子缺陷的基本过程有以下三种: 表2— 1 晶体结构缺陷的主要类型

晶体中的缺陷

第三章晶体中的缺陷 第一节概述 一、缺陷的概念 大多数固体是晶体,晶体正是以其特殊的构型被人们最早认识。因此目前(至少在80年代以前>人们理解的“固体物理”主要是指晶体。当然这也是因为客观上晶体的理论相对成熟。在晶体理论发展中,空间点阵的概念非常重要。 空间点阵中,用几何上规则的点来描述晶体中的原子排列,并连成格子,这些点被称为格点,格子被称为点阵,这就是空间点阵的基本思想,它是对晶体原子排列的抽象。空间点阵在晶体学理论的发展中起到了重要作用。可以说,它是晶体学理论的基础。现代的晶体理论基于晶体具有宏观平移对称性,并因此发展了空间点阵学说。 严格地说对称性是一种数学上的操作,它与“空间群”的概念相联系,对它的描述不属本课程内容。但是,从另一个角度来理解晶体的平移对称性对我们今后的课程是有益的。 所谓平移对称性就是指对一空间点阵,任选一个最小基本单元,在空间三维方向进行平移,这个单元能够无一遗漏的完全复制所有空间格点。考虑二维实例,如图3-1所示。 图3-1 平移对称性的示意图 在上面的例子中,以一个基元在二维方向上平移完全能复制所有的点,无一遗漏。这种情况,我们说具有平移对称性。这样的晶体称为“理想晶体”或“完整晶体”。

图3-2 平移对称性的破坏 如果我们对上述的格点进行稍微局部破坏,那么情况如何?请注意以下的复制过程,如图3-2所示。从图中我们看出:因为局部地方格点的破坏导致平移操作无法完整地复制全部的二维点阵。这样的晶体,我们就称之为含缺陷的晶体,对称性破坏的局部区域称为晶体缺陷。 晶体缺陷的产生与晶体的生长条件,晶体中原子的热运动以及对晶体的加工工艺等有关。事实上,任何晶体即使在绝对零度都含有缺陷,自然界中理想晶体是不存在的。既然存在着对称性的缺陷,平移操作不能复制全部格点,那么空间点阵的概念似乎不能用到含有缺陷的晶体中,亦即晶体理论的基石不再牢固。 幸运的是,缺陷的存在只是晶体中局部的破坏。作为一种统计,一种近似,一种几何模型,我们仍然继承这种学说。因为缺陷存在的比例毕竟只是一个很小的量(这指的是通常的情况)。例如20℃时,Cu的空位浓度为3.8×10-17,充分退火后Fe 中的位错密度为1012m-2<空位、位错都是以后要介绍的缺陷形态)。现在你对这些数量级的概念可能难以接受,那没关系,你只须知道这样的事实:从占有原子百分数来说,晶体中的缺陷在数量上是微不足道的。 因此,整体上看,可以认为一般晶体是近乎完整的。因而对于实际晶体中存在的缺陷可以用确切的几何图形来描述,这一点非常重要。它是我们今后讨论缺陷形态的基本出发点。事实上,把晶体看成近乎完整的并不是一种凭空的假设,大量的实验事实

第一章 晶体结构缺陷习题及解答

第一章 晶体结构缺陷习题与解答 1.1 名词解释(a )弗伦克尔缺陷与肖特基缺陷;(b )刃型位错和螺型位错 解:(a )当晶体热振动时,一些能量足够大的原子离开平衡位置而挤到晶格点的 间隙中,形成间隙原子,而原来位置上形成空位,这种缺陷称为弗伦克尔缺陷。如果正常格点上原子,热起伏后获得能量离开平衡位置,跃迁到晶体的表面,在原正常格点上留下空位,这种缺陷称为肖特基缺陷。(b )滑移方向与位错线垂直的位错称为刃型位错。位错线与滑移方向相互平行的位错称为螺型位错。 1.2试述晶体结构中点缺陷的类型。以通用的表示法写出晶体中各种点缺陷的表示符号。试举例写出CaCl 2中Ca 2+置换KCl 中K +或进入到KCl 间隙中去的两种点缺陷反应表示式。 解:晶体结构中的点缺陷类型共分:间隙原子、空位和杂质原子等三种。在MX 晶体中,间隙原子的表示符号为M I 或X I ;空位缺陷的表示符号为:V M 或V X 。如果进入MX 晶体的杂质原子是A ,则其表示符号可写成:A M 或A X (取代式)以及A i (间隙式)。 当CaCl 2中Ca 2+置换KCl 中K +而出现点缺陷,其缺陷反应式如下: CaCl 2?→?KCl ?K Ca +' k V +2Cl Cl CaCl 2中Ca 2+进入到KCl 间隙中而形成点缺陷的反应式为: CaCl 2?→?KCl ??i Ca +2'k V +2Cl Cl 1.3在缺陷反应方程式中,所谓位置平衡、电中性、质量平衡是指什么? 解:位置平衡是指在化合物M a X b 中,M 格点数与X 格点数保持正确的比例 关系,即M :X=a :b 。电中性是指在方程式两边应具有相同的有效电荷。质量平衡是指方程式两边应保持物质质量的守恒。 1.4(a )在MgO 晶体中,肖特基缺陷的生成能为6ev ,计算在25℃和1600℃时热缺陷的浓度。 (b )如果MgO 晶体中,含有百万分之一mol 的Al 2O 3杂质,则在1600℃时,MgO 晶体中是热缺陷占优势还是杂质缺陷占优势?说明原因。 解:(a )根据热缺陷浓度公式: =N n exp (- kT 2G ?) 由题意 △G=6ev=6×1.602×10-19=9.612×10-19J K=1.38×10-23 J/K T 1=25+273=298K T 2=1600+273=1873K 298K : =N n exp ??? ? ??????---2981038.1210612.92319=1.92×10-51

晶体结构缺陷

第三章晶体结构缺陷 【例3-1】写出MgO形成肖特基缺陷的反应方程式。 【解】 MgO形成肖特基缺陷时,表面的Mg2+和O2-离子迁到表面新位置上,在晶体内部留下空位,用方程式表示为: ????该方程式中的表面位置与新表面位置无本质区别,故可以从方程两边消掉,以零O(naught)代表无缺陷状态,则肖特基缺陷方程式可简化为: 【例3-2】写出AgBr形成弗伦克尔缺陷的反应方程式。 【解】AgBr中半径小的Ag+离子进入晶格间隙,在其格点上留下空位,方程式为: 【提示】一般规律:当晶体中剩余空隙比较小,如NaCl型结构,容易形成肖特基缺陷;当晶体中剩余空隙比较大时,如萤石CaF2型结构等,容易产生弗伦克尔缺陷。 【例3-3】写出NaF加入YF3中的缺陷反应方程式。 【解】首先以正离子为基准,Na+离子占据Y3+位置,该位置带有2个单位负电荷,同时,引入的1个F-离子位于基质晶体中F-离子的位置上。按照位置关系,基质YF3中正负离子格点数之比为1/3,现在只引入了1个F-离子,所以还有2个F-离子位置空着。反应方程式为:可以验证该方程式符合上述3个原则。 ????再以负离子为基准,假设引入3个F-离子位于基质中的F-离子位置上,与此同时,引入了3个Na+离子。根据基质晶体中的位置关系,只能有1个Na+离子占据Y3+离子位置,其余2个Na+位于晶格间隙,方程式为:

????此方程亦满足上述3个原则。当然,也可以写出其他形式的缺陷反应方程式,但上述2个方程所代表的缺陷是最可能出现的。 【例3-4】写出CaCl2加入KCl中的缺陷反应方程式。 【解】以正离子为基准,缺陷反应方程式为: ????以负离子为基准,则缺陷反应方程式为: ????这也是2个典型的缺陷反应方程式,与后边将要介绍的固溶体类型相对应。 【提示】通过上述2个实例,可以得出2条基本规律: ????(1)低价正离子占据高价正离子位置时,该位置带有负电荷。为了保持电中性,会产生负离子空位或间隙正离子。 ????(2)高价正离子占据低价正离子位置时,该位置带有正电荷。为了保持电中性,会产生正离子空位或间隙负离子。 【例3-5】 TiO2在还原气氛下失去部分氧,生成非化学计量化合物TiO2-x,写出缺陷反应方程式。 【解】非化学计量缺陷的形成与浓度取决于气氛性质及其分压大小,即在一定气氛性质和压力下到达平衡。该过程的缺陷反应可用 或 方程式表示,晶体中的氧以电中性的氧分子的形式从TiO2中逸出,同时在晶体中产生带正电荷的氧空位和与其符号相反的带负电荷的来保持电中性,方程两边总有效电荷都等于零。可以看成是Ti4+被还原为Ti3+,三价Ti占据了四价Ti的位置,因而带一个单位有效负电荷。而二个Ti3+替代了二个Ti4+,

第一章 晶体结构与晶体中的缺陷

第一章晶体结构与晶体中的缺陷 一、名词解释 1.正尖晶石与反尖晶石;2.弗伦克尔缺陷与肖特基缺陷; 3.刃位错与螺位错;4.固溶体;5.非化学计量化合物: 二、填空与选择 2.在硅酸盐结构分类中,下列矿物Ca[Al2Si2O8];CaMg[Si2O6];β-Ca2SiO4和Mg3[Si4O10](OH)2,分别属于;;;和四类。 3.在负离子作立方密堆的晶体中,为获得稳定的晶体结构,正离子将所有八面体空隙位置填满的晶体有,所有四面体空隙均填满的晶体有,填满一半八面体空隙的晶体有,填满一半四面体空隙的晶体有。 4.在尖晶石(MgAl2O4)型晶体中,O2-作面心立方最紧密堆积,Mg2+填入了;金红石晶体中,所有O2-作稍有变形的六方密堆,Ti4+填充了。(A全部四面体空隙;B 全部八面体空隙;C四面体空隙的半数;D八面体空隙的半数;E四面体空隙的八分之一;F八面体空隙的八分之一) 5.构成层状硅酸盐的[Si2O5]片中的Si4+,通常被一定数量的Al3+所取代,为满足鲍林第二规则(静电价规则),在层状结构中结合有(OH)-离子和各种二价正离子或三价正离子。这种以Al3+取代Si4+的现象,称为。( A同质多晶(同质多象);B类质同晶;C有序-无序转化;D同晶置换(同晶取代)) 6.高岭石与蒙脱石属于层状硅酸盐结构,前者的结构特征是,后者的结构特征是。(A二层型三八面体结构;B三层型三八面体结构;C二层型二八面体结构;D 三层型二八面体结构) 7.在石英的相变中,属于重建型相变的是,属于位移式相变的是。(A α-石英→α-鳞石英;B α-石英→β-石英;C α-鳞石英→α-方石英;D α方石英→β-方石英) 8.晶体结构中的热缺陷有和二类。 9.CaO掺杂到ZrO2中,其中置换了。由于电中性的要求,在上述置换同时产生一个空位。以上置换过程可用方程式表示。10.由于的结果,必然会在晶体结构中产生"组分缺陷",组分缺陷的浓度主要取决于:和。 11.晶体线缺陷中,位错线与和垂直的是位错;位错线与二者平行的是位错。

晶体结构及缺陷

晶体结构与晶体中的缺陷 17、Li 2O 的结构是O2-作面心立方堆积,Li +占据所有四面体空隙位置,氧离子半径为0.132nm 。求: (1)计算负离子彼此接触时,四面体空隙所能容纳的最大阳离子半径,并与书末附表Li +半径比较,说明此时O 2-能否互相接触。 (2)根据离子半径数据求晶胞参数。 (3)求Li 2O 的密度。 解:(1)如图2-2是一个四面体空隙,O 为四面体中心位置。 -++=r r AO ,-=r BC 2, -=r CE 3, 3/323/2-==r CE CG 3/62-=r AG , OGC ?∽EFC ?,CF EF CG OG //=,6/6/-=?=r CG CF EF OG 2/6-=-=r OG AG AO ,301.0)12/6(=-=-=--+r r AO r 查表知Li r + +=0.68>0.301,∴O 2-不能互相接触; (2)体对角线=a 3=4(r ++r -),a=4.665;(3)ρ=m/V=1.963g/cm 3 图2-2 四面体空隙 28、下列硅酸盐矿物各属何种结构类型: Mg 2[SiO 4],K[AISi 3O 8],CaMg[Si 2O 6], Mg 3[Si 4O 10](OH)2,Ca 2Al[AlSiO 7]。 解:岛状;架状;单链;层状(复网);组群(双四面体)。 23、石棉矿如透闪石Ca 2Mg 5[Si 4O 11](OH)2具有纤维状结晶习性,而滑石Mg 2[Si 4O 10](OH)2却具有片状结晶习性,试解释之。 解:透闪石双链结构,链内的Si-O 键要比链5的Ca-O 、Mg-O 键强很多,所以很容易沿链间结合力较弱处劈裂成为纤维状;滑石复网层结构,复网层由两个 [SiO4]层和中间的水镁石层结构构成,复网层与复网层之间靠教弱的分之间作用力联系,因分子间力弱,所以易沿分子间力联系处解理成片状。 24、石墨、滑石和高岭石具有层状结构,说明它们结构的区别及由此引起的性质上的差异。

第二章晶体结构与晶体中的缺陷

内容提要:通过讨论有代表性的氧化物、化合物和硅酸盐晶体结构, 用以掌握与本专业有关的各种晶体结构类型。介绍了实际晶体中点缺陷分 类;缺陷符号和反应平衡。固熔体分类和各类固熔体、非化学计量化学化 合物的形成条件。简述了刃位错和螺位错。 硅酸盐晶体结构是按晶体中硅氧四面体在空间的排列方式为孤岛状、组群状、链状、层装和架状五类。这五类的[SiO4]四面体中,桥氧的数目也依次由0增加到4, 非桥氧数由4减至0。硅离子是高点价低配位的阳离子。因此在硅酸盐晶体中,[SiO4] 只能以共顶方式相连,而不能以共棱或共面方式相连。表2-1列出硅酸盐晶体结构类型及实例。 表2-1 Array硅酸 盐晶 体的 结构 类型

真实晶体在高于0K的任何温度下,都或多或少地存在着对理想晶体结构的偏离,即存在着结构缺陷。晶体中的结构缺陷有点缺陷、线缺陷、面缺陷和复合缺陷之分,在无机材料中最基本和最重要的是点缺陷。 点缺陷根据产生缺陷的原因分类,可分为下列三类: (1)热缺陷(又称本征缺陷) 热缺陷有弗仑克儿缺陷和肖特基缺陷两种基本形式。 弗仑克儿缺陷是指当晶格热震动时,一些能量足够大的原子离开平衡位置而挤到晶格点的间隙中,形成间隙原子,而原来位置上形成空位,这种缺陷称为弗仑克儿缺陷。 肖特基缺陷是指如果正常格点上原子,热起伏后获得能量离开平衡位置,跃迁到晶体的表面,而在原正常格点上留下空位,这种缺陷称为肖特基缺陷。 (2)杂质缺陷(非本征缺陷) (3)非化学计量化学化合物 为了便于讨论缺陷反应,目前广泛采用克罗格-明克(Kroger-Vink)的点缺陷符号(见表2-2)。 表2-2 Kroger-Vink缺陷符号(以M2+X2-为例)

第一章 金属的晶体结构习题答案

第一章 金属的晶体结构 (一)填空题 3.金属晶体中常见的点缺陷是 空位、间隙原子和置换原子 ,最主要的面缺陷是 。 4.位错密度是指 单位体积中所包含的位错线的总长度 ,其数学表达式为V L =ρ。 5.表示晶体中原子排列形式的空间格子叫做 晶格 ,而晶胞是指 从晶格中选取一个能够完全反应晶格特征的最小几何单元 。 6.在常见金属晶格中,原子排列最密的晶向,体心立方晶格是 [111] ,而面心立方 晶格是 [110] 。 7 晶体在不同晶向上的性能是 不同的 ,这就是单晶体的 各向异性现象。一般结构用金属 为 多 晶体,在各个方向上性能 相同 ,这就是实际金属的 伪等向性 现象。 8 实际金属存在有 点缺陷 、 线缺陷 和 面缺陷 三种缺陷。位错是 线 缺陷。 9.常温下使用的金属材料以 细 晶粒为好。而高温下使用的金属材料在一定范围内以粗 晶粒为好。 10.金属常见的晶格类型是 面心立方、 体心立方 、 密排六方 。 11.在立方晶格中,各点坐标为:A (1,0,1),B (0,1,1),C (1,1,1/2),D(1/2,1,1/2), 那么AB 晶向指数为10]1[- ,OC 晶向指数为[221] ,OD 晶向指数为 [121] 。 12.铜是 面心 结构的金属,它的最密排面是 {111} ,若铜的晶格常数a=0.36nm, 那么最密排面上原子间距为 0.509nm 。 13 α-Fe 、γ-Fe 、Al 、Cu 、Ni 、Cr 、V 、Mg 、Zn 中属于体心立方晶格的有 α-Fe 、Cr 、 V ,属于面心立方晶格的有 γ-Fe 、Al 、Cu 、Ni 、 ,属于密排六方晶格的有 Mg 、 Zn 。 14.已知Cu 的原子直径为0.256nm ,那么铜的晶格常数为 。1mm 3Cu 中的原子数 为 。 15.晶面通过(0,0,0)、(1/2、1/4、0)和(1/2,0,1/2)三点,这个晶面的晶面指数为 . 16.在立方晶系中,某晶面在x 轴上的截距为2,在y 轴上的截距为1/2;与z 轴平行,则 该晶面指数为 (140) . 17.金属具有良好的导电性、导热性、塑性和金属光泽主要是因为金属原子具有 金属键 的 结合方式。 18.同素异构转变是指 当外部条件(如温度和压强)改变时,金属内部由一种金属内部由 一种晶体结构向另一种晶体结构的转变 。纯铁在 温度发生 和 多晶型转变。 19.在常温下铁的原子直径为0.256nm ,那么铁的晶格常数为 。 20.金属原子结构的特点是 。 21.物质的原子间结合键主要包括 离子键 、 共价键 和 金属键 三种。 (二)判断题 1.因为单晶体具有各向异性的特征,所以实际应用的金属晶体在各个方向上的性能也是不 相同的。 (N) 2.金属多晶体是由许多结晶位向相同的单晶体所构成。 ( N) 3.因为面心立方晶体与密排六方晶体的配位数相同,所以它们的原子排列密集程度也相同 4.体心立方晶格中最密原子面是{111}。 Y 5.金属理想晶体的强度比实际晶体的强度高得多。N 6.金属面心立方晶格的致密度比体心立方晶格的致密度高。 7.实际金属在不同方向上的性能是不一样的。N 8.纯铁加热到912℃时将发生α-Fe 向γ-Fe 的转变。 ( Y ) 9.面心立方晶格中最密的原子面是111},原子排列最密的方向也是<111>。 ( N ) 10.在室温下,金属的晶粒越细,则其强度愈高和塑性愈低。 ( Y ) 11.纯铁只可能是体心立方结构,而铜只可能是面心立方结构。 ( N ) 12.实际金属中存在着点、线和面缺陷,从而使得金属的强度和硬度均下降。 ( Y ) 13.金属具有美丽的金属光泽,而非金属则无此光泽,这是金属与非金属的根本区别。N

晶体结构和晶体缺陷

第一部分晶体结构和晶体缺陷 1.原子的负电性的定义和物理意义是什么? 2.共价键的定义和特点是什么? 3.金刚石结构为什么要提出杂化轨道的概念? 4.V、VI、VII族元素仅靠共价键能否形成三维晶体? 5.晶体结构,空间点阵,基元,B格子、单式格子和复式格子之间的关系和区别。 6.W-S元胞的主要优点,缺点各是什么? 7.配位数的定义是什么? 8.晶体中有哪几种密堆积,密堆积的配位数是多少? 9.晶向指数,晶面指数是如何定义的? 10.点对称操作的基本操作是哪几个? 11.群的定义是什么?讨论晶体结构时引入群的目的是什么? 12.晶体结构、B格子、所属群之间的关系如何? 13.七种晶系和十四种B格子是根据什么划分的? 14.肖特基缺陷、费仑克尔缺陷、点缺陷、色心、F心是如何定义的? 15.棱(刃)位错和螺位错分别与位错线的关系如何? 16.位错线的定义和特征如何? 17.影响晶体中杂质替位几率的主要因素有哪些? 18.晶体中原子空位扩散系数D与哪些因素有关? 19.解理面是面指数低的晶面还是面指数高的晶面?为什么? 20.为什么要提出布拉菲格子的概念? 21.对六角晶系的晶面指数和晶向指数使用四指标表示有什么利弊? 第二部分倒格子 1.倒格子基矢是如何定义的? 2. 正、倒格子之间有哪些关系? 3.原子散射因子是如何表示的,它的物理意义如何? 4. 几何结构因子是如何表示的,它的物理意义如何? 5. 几何结构因子S h与哪些元素有关? 6.衍射极大的必要条件如何? 7.什么叫消光条件? 8.反射球是在哪个空间画的,反射球能起到什么作用,如何画反射球? 9.常用的X光衍射方法有哪几种,各有什么基本特点? 10.为什么要使用“倒空间”的概念?

第一章 金属的晶体结构作业 答案

第一章金属的晶体结构 1、试用金属键的结合方式,解释金属具有良好的导电性、正的电阻温度系数、导热性、塑性和金属光泽等基本特性. 答:(1)导电性:在外电场的作用下,自由电子沿电场方向作定向运动。 (2)正的电阻温度系数:随着温度升高,正离子振动的振幅要加大,对自由电子通过的阻碍作用也加大,即金属的电阻是随温度的升高而增加的。 (3)导热性:自由电子的运动和正离子的振动可以传递热能。 (4) 延展性:金属键没有饱和性和方向性,经变形不断裂。 (5)金属光泽:自由电子易吸收可见光能量,被激发到较高能量级,当跳回到原位时辐射所吸收能量,从而使金属不透明具有金属光泽。 2、填空: 1)金属常见的晶格类型是面心立方、体心立方、密排六方。 2)金属具有良好的导电性、导热性、塑性和金属光泽主要是因为金属原子具有金属键的结合方式。 3)物质的原子间结合键主要包括金属键、离子键和共价键三种。 4)大部分陶瓷材料的结合键为共价键。 5)高分子材料的结合键是范德瓦尔键。 6)在立方晶系中,某晶面在x轴上的截距为2,在y轴上的截距为1/2;与z轴平行,则该晶面指数为(( 140 )). 7)在立方晶格中,各点坐标为:A (1,0,1),B (0,1,1),C (1,1,1/2),D(1/2,1,1/2),那么AB晶向指数为(ī10),OC晶向指数为(221),OD晶向指数为(121)。 8)铜是(面心)结构的金属,它的最密排面是(111 )。 9) α-Fe、γ-Fe、Al、Cu、Ni、Cr、V、Mg、Zn中属于体心立方晶格的有(α-Fe 、 Cr、V ),属于面心立方晶格的有(γ-Fe、Al、Cu、Ni ),属于密排六方晶格的有( Mg、Zn )。 3、判断 1)正的电阻温度系数就是指电阻随温度的升高而增大。(√) 2)金属具有美丽的金属光泽,而非金属则无此光泽,这是金属与非金属的根本区别。(×) 3) 晶体中原子偏离平衡位置,就会使晶体的能量升高,因此能增加晶体的强度。(× ) 4) 在室温下,金属的晶粒越细,则其强度愈高和塑性愈低。(×) 5) 实际金属中存在着点、线和面缺陷,从而使得金属的强度和硬度均下降。 (×) 6)体心立方晶格中最密原子面是{110},原子排列最密的方向也是<111> .(对) 7)面心立方晶格中最密的原子面是{111},原子排列最密的方向是<110>。 ( 对 ) 8)纯铁加热到912℃时将发生α-Fe向γ-Fe的转变,体积会发生膨胀。 ( 错 ) 9)晶胞是从晶格中任意截取的一个小单元。(错) 10)纯铁只可能是体心立方结构,而铜只可能是面心立方结构。 (错) 4、选择题 1)金属原子的结合方式是( C )

晶体结构缺陷

晶体结构缺陷 1、说明下列符号的含义: V Na ,V Na ’,V Cl ?,.(V Na ’V Cl ?),CaK?,CaCa,Cai?? 2、写出下列缺陷反应式: (1)NaCl溶入CaCl 2 中形成空位型固溶体; (2)CaCl 2 溶人NaC1中形成空位型固溶体; (3)NaCl形成肖脱基缺陷; (4)AgI形成弗仑克尔缺陷(Ag+进入间隙)。 3、MgO的密度是3.58克/厘米3,其晶格参数是0.42nm,计算单位晶胞MgO 的肖脱基缺陷数。 4、(a)MgO晶体中,肖脱基缺陷的生成能为6eV,计算在25℃和1600℃时热 缺陷的浓度。(b)如果MgO晶体中,含有百万分之一摩尔的A1 2O 3 杂质,则在1600℃ 时,MgO晶体中是热缺陷占优势还是杂质缺陷占优势,说明原因。 5、MgO晶体的肖特基缺陷生成能为84kJ/mol,计算该晶体在1000K和1500K 的缺陷浓度。 6、非化学计量化合物FexO中,Fe3+/Fe2+=0.1,求Fe x O中的空位浓度及x 值。 7、非化学计量缺陷的浓度与周围气氛的性质、压力大小相关,如果增大周 围氧气的分压,非化学计量化合物Fe 1-X O及Zn 1+X O的密度将发生怎么样的变化? 增大还是减小?为什么? 8、对于刃位错和螺位错,区别其位错线方向、柏氏矢量和位错运动方向的特点。

9、图2.1是晶体二维图形,内含有一个正刃位错和一个负刃位错。 (a)围绕两个位错柏格斯回路,最后得柏格斯矢量若干? (b)围绕每个位错分别作柏氏回路,其结果又怎样? 10、有两个相同符号的刃位错,在同一滑移面上相遇,它们将是排斥还是吸引? 11、晶界对位错的运动将发生怎么样的影响?能预计吗? 12、晶界有小角度晶界与大角度晶界之分,大角度晶界能用位错的阵列来描述吗? 13、试述影响置换型固溶体的固溶度的条件。 14、从化学组成、相组成考虑,试比较固溶体与化合物、机械混合物的差别。 15、试阐明固溶体、晶格缺陷和非化学计量化合物三者之间的异同点,列出简明表格比较。 16、在面心立方空间点阵中,面心位置的原子数比立方体顶角位置的原子数多三倍。原子 B溶入A晶格的面心位置中,形成置换型固溶体,其成分应该是 A 3B呢还是A 2 B?为什么? 17、Al 2 O 3 在MgO中形成有限固溶体,在低共熔温度1995℃时,约有18重量% Al 2O 3 溶入MgO中,假设MgO单位晶胞尺寸变化可忽略不计。试预计下列情况的

晶体微观缺陷对材料性能的影响

晶体微观缺陷对材料性能的影响 一、什么是晶体缺陷? 大多数固体是晶体,晶体正是以其特殊的构型被人们最早认识。人们理解的“固体物理”主要是指晶体。在空间点阵中,用几何上规则的点来描述晶体中的原子排列,并连成格子,这些点被称为格点,格子被称为点阵,这就是空间点阵的基本思想,它是对晶体原子排列的抽象。空间点阵在晶体学理论的发展中起到了重要作用。可以说,它是晶体学理论的基础。现代的晶体理论基于晶体具有宏观平移对称性,并因此发展了空间点阵学说。严格地说对称性是一种数学上的操作,它与“空间群”的概念相联系,所谓平移对称性就是指对一空间点阵,任选一个最小基本单元,在空间三维方向进行平移,这个单元能够无一遗漏的完全复制所有空间格点。 在我们讨论晶体结构时,认为晶体的结构是三维空间内周期有序的,其内部质点按照一定的点阵结构排列。这是一种理想的完美晶体,它在现实中并不存在,只作为理论研究模型。相反,偏离理想状态的不完整晶体,即有某些缺陷的晶体,具有重要的理论研究意义和实际应用价值。在理想的晶体结构中,所有的原子、离子或分子都处于规则的点阵结构的位置上,也就是平衡位置上。1926 年Frenkel 首先指出,在任一温度下,实际晶体的原子排列都不会是完整的点阵,即晶体中一些区域的原子的正规排列遭到破坏而失去正常的相邻关系。我们把实际晶体中偏离理想完整点阵的部位或结构称为晶体缺陷。 二、晶体中有哪些常见的缺陷类型? 缺陷是一种局部原子排列的破坏。按照破坏区域的几何形状,缺陷可以分为四类点缺陷、缺陷、面缺陷和体缺陷。 点缺陷:又称零维缺陷,缺陷尺寸处于原子大小的数量级上,在三维方向上尺寸都很小(远小于晶体或晶粒的线度),典型代表有空位、间隙原子等。点缺陷与材料的电学性质、光学性质、材料的高温动力学过程等有关。 线缺陷:又称一维缺陷,指在一维方向上偏离理想晶体中的周期性、规则性排列所产生的缺陷,即缺陷尺寸在一维方向较长,另外二维方向上很短。包括螺型位错与刃型位错等各类位错,线缺陷的产生及运动与材料的韧性、脆性密切相关。 面缺陷:又称为二维缺陷,是指在二维方向上偏离理想晶体中的周期性、规则性排列而产生的缺陷,即缺陷尺寸在二维方向上延伸,在第三维方向上很小。包括晶界、相界、表面、堆积层错、镶嵌结构等。面缺陷的取向及分布与材料的断裂韧性有关。 体缺陷:又称为三维缺陷,指晶体中在三维方向上相对尺度比较大的缺陷,和基质晶体已经不属于同一物相,是异相缺陷。固体材料中最基本和最重要的晶体缺陷是点缺陷,包括本征缺陷和杂质缺陷等。 然而,按缺陷产生的原因分类,又可以分为:热缺陷、杂质缺陷、非化学计量缺陷、其它原因(如电荷缺陷,辐照缺陷等)。 热缺陷:又称为本征缺陷,是指由热起伏的原因所产生的空位或间隙质点(原子或离子)。弗仑克尔缺陷(Frenkel defect)和肖脱基缺陷(Schottky defect) 热缺陷浓度与温度的关系:温度升高时,热缺陷浓度增加

晶体结构缺陷习题答案

第二章晶体结构缺陷 1.(错)位错属于线缺陷,因为它的晶格畸变区是一条几何线。 2.(错)螺型位错的柏氏失量与其位错线垂直,刃型位错的柏氏失量与其位错线是平行。 3. (错)肖特基缺陷是由于外来原子进入晶体而产生的缺陷。 4.(错)弗伦克尔缺陷是由于外来原子进入晶体而产生的缺陷。 二选择题 1.非化学剂量化合物Zn1+x O中存在 A 。 A. 填隙阳离子 B. 阳离子空位 C. 填隙阴离子 D. 阴离子空位 2. 非化学计量化合物UO2+x中存在 C 。 A. 填隙阳离子 B. 阳离子空位 C. 填隙阴离子 D. 阴离子空位 3.非化学剂量化合物TiO2-x中存在 D 。 A. 填隙阳离子 B. 阳离子空位 C. 填隙阴离子 D. 阴离子空位 4.螺型位错的位错线是 A 。 A. 曲线 B. 直线 C. 折线 D. 环形线 5.非化学剂量化合物ZnO1-x中存在 D 。 A. 填隙阳离子 B. 阳离子空位 C. 填隙阴离子 D. 阴离子空位 6. 非化学计量化合物UO2+x中存在 C 。 A. 填隙阳离子 B. 阳离子空位 C. 填隙阴离子 D. 阴离子空位 三、名词解释 1. 弗仑克尔缺陷 原子离开其平衡位置二进入附近的间隙位置,在原来位置上留下空位所形成的缺陷,特点是填隙原子与空位总是成对出现。 2.固溶体: 物种数:凡在固体条件下,一种组分(溶剂)内“溶解”了其它组分(溶质)而形成的单一、均匀的晶态固体称为固溶体。

四、解答题 1.完成下列缺陷方程式,并且写出相应的化学式 (1)NaCl 溶入CaCl 2中形成空位型固溶体; (2)CaCl 2溶人NaC1中形成空位型固溶体; 解:(1)NaCl Na Ca ’+ Cl Cl + V Cl · Ca 1-x Na x Cl 2-x (2)CaCl 2 Ca Na · + 2Cl Cl + V Na ’ Na 1-2x Ca X Cl 2完成下列缺陷方程式,并且写出相应的化学式(6分) (1)M gCl 2固溶在LiCl 晶体中形成填隙型 Li 1-x Mg x Cl 1+x (2) SrO 固溶在Li 2O 晶体中形成空位型 Li 2-2x Sr x O 3.写出下列缺陷反应式 ①.NaCl 形成肖脱基缺陷。 ②.AgI 形成弗伦克尔缺陷(Ag +进入间隙)。 ③KCl 溶入CaCl 2中形成空位型固溶体。 解:1、O→VNa ′+VCl˙ 2、Ag Ag+Vi →A g i ˙+V Ag′ ③ KCl K Ca ’+ Cl Cl + V Cl · Ca 1-x K x Cl 2-x 4 对于MgO 、Al 2O 3和Cr 2O 3,其正、负离子半径比分别为,和。Al 2O 3和Cr 2O 3形成连续固溶体。(4分) (a )这个结果可能吗为什么 (b )试预计,在MgO -Cr 2O 3系统中的固溶度是有限还是很大的为什么 答(a )可能,Al 2O 3和Cr 2O 3的正离子半径之比小于15%。晶体结构又相同。 所以可能 O Li Li O Li O V Sr S SrO +'+??→??. 2)(Cl i Li LiCl Cl Cl Mg S MgCl ++?? →??')(.2

晶体结构及缺陷

晶体结构及缺陷

晶体结构与晶体中的缺陷 17、Li 2O 的结构是O 2-作面心立方堆积,Li +占据所有四面体空隙位置,氧离子半径为0.132nm 。求: (1)计算负离子彼此接触时,四面体空隙所能容纳的最大阳离子半径,并与书末附表Li +半径比较,说明此时O 2-能否互相接触。 (2)根据离子半径数据求晶胞参数。 (3)求Li 2O 的密度。 解:(1)如图2-2是一个四面体空隙,O 为四面体中心位置。 -++=r r AO ,-=r BC 2, -=r CE 3, 3/323/2-==r CE CG 3/62-=r AG , OGC ?∽EFC ?,CF EF CG OG //=, 6/6/-=?=r CG CF EF OG 2/6-=-=r OG AG AO ,301.0)12/6(=-=-=--+r r AO r r +=[(6)1/2/2-1]r-=0.0297nm 或r +=0.132*0.225=0.0297nm 查表知Li r + +=0.068nm>0.0297nm ,∴O 2-不能互相接触; (2)体对角线=a 3=4(r ++r -), a=0.4619nm ;(3) ρ=m/V=1.963g/cm 3 图2-2 四面体空隙

28、下列硅酸盐矿物各属何种结构类型: Mg2[SiO4],K[AISi3O8],CaMg[Si2O6],Mg3[Si4O10](OH)2,Ca2Al[AlSiO7]。 解:岛状;架状;单链;层状(复网);组群(双四面体)。 23、石棉矿如透闪石Ca2Mg5[Si4O11](OH)2具有纤维状结晶习性,而滑石Mg2[Si4O10](OH)2却具有片状结晶习性,试解释之。 解:透闪石双链结构,链内的Si-O键要比链5的Ca-O、Mg-O键强很多,所以很容易沿链间结合力较弱处劈裂成为纤维状;滑石复网层结构,复网层由两个[SiO4]层和中间的水镁石层结构构成,复网层与复网层之间靠教弱的分之间作用力联系,因分子间力弱,所以易沿分子间力联系处解理成片状。 24、石墨、滑石和高岭石具有层状结构,说明它们结构的区别及由此引起的性质上的差异。 解:石墨中同层C原子进行SP2杂化,形成大Π键,每一层都是六边形网状结构。由于间隙较大,电子可在同层中运动,可以导电,层间分子间力作用,所以石墨比较软。解:石墨C:属六方晶系,配位数为3,具有平面三角形配位,6个碳原子分别以共价键结合成六边形碳环,各环之间共棱组成无限大的碳网层,层与层之间靠范德华力作用,作用力很弱,同时由于碳网层上的原子与电价没有饱和,多余的自由电子分布在层之间,电子间的相互排斥,使得层与层之间更容易断裂,因而石墨的硬度很低,易破碎有滑腻感和良好的片状解理且结构中的大π键(SP2杂化轨道形成大π键)使其能导电,不含结构水能耐高温。 Mg3[Si4O10](OH)2滑石复网层结构属单斜晶系,上下为2层[SiO4]四面体层

第一章晶体结构习题

第一章晶体结构习题 1、概念: 晶体,晶体结构,空间点阵,离子半径,离子极化,配位数,固溶体,合金 2、在正交简单点阵、底心点阵、体心点阵、面心点阵中分别画出(110)、(001两组晶面,并指出每个晶面上的结点数? 3、设有某一晶面在x、y、z三个坐标轴上的截距分别为1a,2b,3c,求该晶面符号? 4、在立方晶系中,一晶面在x轴的截距为1,在y轴的截距为1/2,且平行于z 轴,一晶向上某点坐标为x=1/2,y=0,z=1,求出其晶面指数和晶向指数,并绘图示之? 答:根据晶面和晶向指数的标定方法可知,题中晶面指数为(120),如图中ABCD,晶向指数为[102]如图中OP。 6、画出立方晶系中下列晶面和晶向:(010),(011),(111),(231),(321),[010],[011], [111],[231],[321]

7、什么叫离子极化?极化对晶体结构有什么影响? 在离子紧密堆积时,带电荷的离子所产生的电场必然要对另一离子的电子云发生作用(吸引或排斥),因而使这个离子的大小和形状发生了改变,这种现象叫离子极化。 极化会对晶体结构产生显著影响,主要表现为极化会导致离子间距离缩短,离子配位数降低,同时变形的电子云相互重叠,使键性由离子键向共价键过渡,最终使晶体结构类型发生变化. 8、氧化镁(MgO )与氯化钠(NaCl )具有相同结构。 求(1) MgO 的晶格常数;(2) MgO 的密度?(Ar(Mg)=24, Ar(O)=16) 解:(1) (2)每一个单位晶胞中含有4个Mg 2+及4个O 2-,1mol 的Mg 2+具有24g 的质量,1mol 的O 2-具有16g 的质量。 9、已知MgO 晶体中Mg 2+和O 2-在三维空间有规律地相间排列,其晶体结构相当于两套面心立方点阵互相套叠在一起,晶胞常数a=b=c=4.20, α=β=γ=90℃,请回 20.078Mg r nm +=20.132O r nm -=222()2(0.0780.132)0.396Mg O a r r nm +-=+=+=23233 3 7323 24164()4(2416) 6.0210 6.0210 4.28/(0.39610) 6.0210g g g cm a ρ-++??= = =???

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4.固溶体和非化学计量化合物 4.1固溶体 液体有纯溶剂和含有溶质的溶液之分,对于液体溶液,大家都已熟知,是由溶质以分子级均匀程度溶解到溶剂中所形成的。类似地,对于固体也有纯晶体和含有杂质的固体溶液之分,后者是指晶体中含有外来杂质,简称固溶体。 4.1.1 固溶体的定义和特征 4.1.1.1固溶体的定义 凡在固体条件下,一种组分(溶剂)内“溶解”了其它组分(溶质)而形成的单一、均匀的晶态固体称为固溶体。或者定义为:固溶体是指一种组元(组分)因“溶解”了其他组元而形成的单相晶态固体。 如果固溶体是由A物质溶解在B物质中形成的,一般将组分B称为溶剂(或主晶相、基质),将组分A称为溶质(或掺杂质点、杂质)。如果两种组分可以互溶,那么就将含量高的那种称为溶剂,含量低的称为溶质。 固溶体与主晶体的区别在于:主晶体一般可以是单组元,而固溶体一定是多组元;固溶体的晶体结构常发生局部畸变,其性质也可以不同于主晶体。 固溶体与机械混合物的区别在于:固溶体是以原子尺度相混合,是单相均匀的;机械混合不是均匀单相的而是多相的。 固溶体与(化学计量)化合物的区别在于:A和B两组元形成固溶体是,组元之间并不存在确定的物质的量比,而形成化学计量化合物时,两组元按确定的物质的量比值化合;固溶体的晶体结构对称性和主晶保持一致,而化合物的晶体结构常与纯组分的不同;固溶体的组成可改变,其性质也会随之而发生变化,而化学计量化合物,它的组成和性质是一定的。 4.1.1.2固溶体的基本特征 (1)固溶体中不同组分之间的互溶是在原子尺度上相互混合的。 (2)生成固溶体后,并不破坏主晶相原有的晶体结构,但是晶胞参数可能有少许改变,因此基本保持了主晶相的特性。 (3)对于大部分固溶体系而言,都存在一定的固溶度(即杂质的溶解极限),这种固溶体称为有限固溶体或不连续固溶体;只有部分体系,两组分可以以任意

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56 第二章 晶体结构缺陷 我们在讨论晶体结构时,是将晶体看成无限大,并且构成晶体的每个粒子(原子、分子或离子)都是在自己应有的位置上,这样的理想结构中,每个结点上都有相应的粒子,没有空着的结点,也没有多余的粒子,非常规则地呈周期性排列。实际晶体是这样的吗?测试表明,与理想晶体相比,实际晶体中会有正常位置空着或空隙位置填进一个额外质点,或杂质进入晶体结构中等等不正常情况,热力学计算表明,这些结构中对理想晶体偏离的晶体才是稳定的,而理想晶体实际上是不存在的。结构上对理想晶体的偏移被称为晶体缺陷。 实际晶体或多或少地存在着缺陷,这些缺陷的存在自然会对晶体的性质产生或大或小的影响。晶体缺陷不仅会影响晶体的物理和化学性质,而且还会影响发生在晶体中的过程,如扩散、烧结、化学反应性等。因而掌握晶体缺陷的知识是掌握材料科学的基础。 晶体的结构缺陷主要类型如表2—1所示。这些缺陷类型,在无机非金属材料中最基本和最重要的是点缺陷,也是本章的重点。 表2—1 晶体结构缺陷的主要类型 2.1 点缺陷 研究晶体的缺陷,就是要讨论缺陷的产生、 缺陷类型、浓度大小及对各种性质的影响。60 年代,F .A .Kroger 和H .J .Vink 建立了比较 完整的缺陷研究理论——缺陷化学理论,主要 用于研究晶体内的点缺陷。点缺陷是一种热力 学可逆缺陷,即它在晶体中的浓度是热力学参 数(温度、压力等)的函数,因此可以用化学 热力学的方法来研究晶体中点缺陷的平衡问 题,这就是缺陷化学的理论基础。点缺陷理论 的适用范围有一定限度,当缺陷浓度超过某一 临界值(大约在0.1原子%左右)时,由于缺陷的 相互作用,会导致广泛缺陷(缺陷簇等)的生 成,甚至会形成超结构和分离的中间相。但大多数情况下,对许多无机晶体,即使在高温 下点缺陷的浓度也不会超过上述极限。 缺陷化学的基本假设:将晶体看作稀溶液,将缺陷看成溶质,用热力学的方法研究各种缺陷在一定条件下的平衡。也就是将缺陷看作是一种化学物质,它们可以参与化学反应——准化学反应,一定条件下,这种反应达到平衡状态。 2.1.1 点缺陷的类型 点缺陷主要是原子缺陷和电子缺陷,其中原子缺陷可以分为三种类型: (1)空位:在有序的理想晶体中应该被原子占据的格点,现在却空着。 (2)填隙原子:在理想晶体中原子不应占有的那些位置叫做填隙(或间隙)位置,处于填隙(或间隙)位置上的原子就叫填隙(或间隙)原子。 (3)取代原子:一种晶体格点上占据的是另一种原子。如AB 化合物晶体中,A 原子占据了B 格点的位置,或B 原子占据了A 格点位置(也称错位原子);或外来原子(杂质原子)占据在A

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