集成电路布图设计5大侵权行为

集成电路布图设计侵权行为是指非法侵犯布图设计权利人的复制权、商业实施权等权利，依法应当承担法律责任的行为。

目前，世界许多围家和国际组织通过国内立法或国际条约，明确规定了一系列布图设计侵权行为。WTO的《与贸易有关的知识产权协议》第36条规定，缔约方应将未经权利所有者同意而进行的下属行为认作是非法行为，即为了商业目的而进口、出售或推销受到保护的布图设计，一种采用了受到保护的布图设计的集成电路，或者一种采用了上述集成电路的产品，只要它仍然包括了一个非法复制的布图设计。2001年4月2日，我围颁布实施的《集成电路布图设计保护条例》第30条也明确规定了侵犯他人布图设计的行为：未经布图设计权利人许可，复制受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分；未经布图设计权利人许可，为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路以及含有该布图设计的物品。

广东长昊律所集成电路专业律师认为，随着高新技术的发展，布图设计侵权的方式、手段将会更加多样化。在实践中，主要有以下几种类型：①未经布图设计权利人许可，复制受保护的布图设计的全部。侵权人往往采用翻拍、拷贝等多种方法复制权利人的布图设计；②未经布图设计权利人许可，复制受保护的布图设计中具有独创性的部分。受保护的布图设计必须具有创造性，但这是就布图设计的整体而言，并不意味着布图设计的每一个部分都具有独创性。事实上，绝人

多数的布图设计，只有其中的某些部分具有独创性。法律只保护布图设计中具有独创性的部分。未经布图设计权利人许可，复制受保护的布图设计中不具有独创性的部分，并不构成侵权；③非法进口、销售、提供受保护的布图设计。布图设计作为智力成果，凝聚着权利人的人量劳动和投入，未经布图设计权利人许可，为商业目的进口、销售、提供受保护的布图设计，必将严重侵犯权利人的民事权利；④非法进口、销售、提供含有受保护的布图设计的集成电路。集成电路是融布图设计和工艺技术于一体的综合性法制园地技术成果，布图设计内涵在集成电路之中。为了商业目的，未经权利人许可，直接将他人的布图设计用于制作集成电路，并且进行销售或者提供该集成电路，是一种较为隐蔽的侵权行为；⑤非法进口、销售或提供含有受保护的布图设计的产品。此类侵权的隐蔽性更强，它一般表现为，侵权人出于商业目的，不经布图设计权利人许可，直接将含有受保护的布图设计的集成电路用于某些产品之中，并将这些产品投入商业经营。所涉集成电路可能是侵权人自己制造的，也可能是侵权人从别处非法购入的。

集成电路制作合同修订版

集成电路制作合同修订版 Effectively restrain the parties’ actions and ensure that the legitimate rights and interests of the state, collectives and individuals are not harmed ( 合同范本 ) 甲方：______________________ 乙方：______________________ 日期：_______年_____月_____日编号：MZ-HT-089793

集成电路制作合同修订版立约人_________（以下简称甲方）与_________（以下简称乙方）。甲乙双方为集成电路试制事宜，特立本合约，并同意条件如下：第一条标的物：委托芯片名称_________（ICNo._________），甲方同意由乙方代寻适合之代工厂，就标的物进行集成电路试制。第二条功能规格确认一、甲方完成本设计案之各项设计及验证后，应将本产品之布图（Layout）交由乙方进行集成电路制作之委托事宜。二、甲方的布图（Layout）资料，概以甲方填写之TAPEOUTFORM 为依据，进行光罩制作。乙方不对甲方之布局图（Layout）作任何计算机软件辅助验证。三、标的物之样品验证系以乙方委托之晶圆代工厂标准的晶圆特性测试（WAT）值为准，甲方不得作特殊要求。

四、如甲方能证明该样品系因乙方委托之代工厂制程上之误失，致不符合参数规格范围，虽通过代工厂标准的晶圆特性测试，仍视为不良品。第三条样品试制进度一、甲方须于委托制作申请单中注明申请梯次，若有一方要求变更制作梯次，需经双方事前书面同意后始可变更。二、原案若有因不可归责乙方之事由或不可抗力之情事，致无法如期交货，乙方应于事由发生时，尽速通知甲方，由双方另行议定交货期限。第四条样品之确认一、样品之确认以第二条之第二及三款之规定为依据，甲方不得对电气特性提出额外的样品确认标准，若因甲方之布局图（Layout）与TAPEOUTFORM不符，而致试制样品与甲方规格不符，因此所生损失概由甲方负责。二、甲方应于收到标的物试制样品后肆拾伍日之内完成样品之测试。若该样品与甲方于委托制作申请单及TAPEOUTFORM中指定不

申请集成电路布图设计保护须知

申请集成电路布图设计保护须知大中小依据《集成电路布图设计保护条例》（以下简称条例），在申请集成电路布图设计专有权登记过程中，我们应该注意如下事项。什么样的布图设计具有独创性？要求保护的布图设计必须具有独创性，即该布图是创作者自己的智力劳动成果，并且在其创作时，该布图设计不是布图设计创作者和集成电路制造者中公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计，其组合作为整体同样应当具有独创性。在这里，独创性评判的时间“创作时”为创作完成日；评判人为布图创作者和集成电路制造者；评判标准要视其是否是公认的常规设计。特别应当指出的是布图设计仅保护根据网表设计出的布图，并不能延及思想、处理过程，操作方法或数字概念。同时，不登记不予保护。谁能享有布图设计专有权？中国的单位、个人或者其他组织创作的布图设计，依照条例享有布图设计专有权。对于外国人，要区别对待：外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的，依照条例享有布图设计专有权；未在中国首先投入利用的布图设计，必须在中国参加WTO之后，才能申请。港、澳、台地区的申请，按国内申请处理，但法人必须委托涉外代理机构办理。根据条例规定，布图设计自其在世界任何地方首次商业利用之日起2年内，仍可向国家知识产权局提出登记申请。我国根据TRIPS协议，将这一专有权追溯到1999年10月1日。国家知识产权局对布图设计的权利人采用推定原则，即认为凡是到国家知识产权局来申请的，都视其是有权利的人。若出现问题，应通过司法程序解决。申请人应提交哪些文件和样品？申请人应提交的文件和样品包括布图设计登记申请表；布图设计的复制件或图样；布图已投入商业使用的，应提交含有该布图的集成电路样品；国家知识产权局规定的其他材料。

集成电路制作合同精装版

集成电路制作合同精装版 Clarify their rights and obligations, and ensure that the legitimate rights and interests of both parties are not harmed ( 合同范本 ) 甲方：______________________ 乙方：______________________ 日期：_______年_____月_____日编号：MZ-HT-004577

集成电路制作合同精装版立约人_________（以下简称甲方）与_________（以下简称乙方）。甲乙双方为集成电路试制事宜，特立本合约，并同意条件如下：第一条标的物：委托芯片名称_________（ICNo._________），甲方同意由乙方代寻适合之代工厂，就标的物进行集成电路试制。第二条功能规格确认一、甲方完成本设计案之各项设计及验证后，应将本产品之布图（Layout）交由乙方进行集成电路制作之委托事宜。二、甲方的布图（Layout）资料，概以甲方填写之TAPEOUTFORM为依据，进行光罩制作。乙方不对甲方之布局图（Layout）作任何计算机软件辅助验证。三、标的物之样品验证系以乙方委托之晶圆代工厂标准的晶圆特性测试（WAT）值为准，甲方不得作特殊要求。

第十五章集成电路布图设计的保护

第十五章集成电路布图设计的保护本章知识点：集中电路、集成电路布图设计专有权、集成电路布图设计的基本特征、集成电路布图设计的法律保护。本章重点难点：集成电路布图设计权、集成电路布图设计保护模式、集成电路布图设计专有权的取得、集成电路布图设计专有权的限制等。本章学习目标：通过本章的学习，能够对集成电路布图设计权的相关背景知识有所了解，掌握集成电路布图设计专有权的具体内容以及法律保护模式，并对集成电路布图设计专有权的限制进行掌握。学习建议：鉴于本章涉及到工科的知识，学习时可以加强对背景知识的阅读。同时，应该着重掌握有关集成电路布图设计专有权的具体特征。第一节集成电路和集成电路布图设计 1：集成电路（Integrated Circuits） 1952年，英国雷达研究所的一位科学家G·W·A·Dummer提出了集成化的设想：按照电子线路的要求，将一个线路中所包含的晶体管和二极管以及其他必要的元件集合在一块半导体晶片上，从而构成一块具有预定功能的电路。1958年，美国德克萨斯仪器公司的基尔按照这一设想，使用一根半导体硅单晶制成了一个相移振荡器，它包含的四个晶体管等元器件已不再需要用金属导线相互连接了――集成电路从此产生了。 a:集成电路的定义对于集成电路的定义，各国立法不尽相同，其解释也多种多样。按照我国于2001年3月28日通过的《集成电路布图设计保护条例》规定，集成电路是指半导体电路，即以半导体材料为基片，将至少包含一个有源元件的多个元件，和部分或全部元件的互联线路集成在基片之中或基片之上，以执行某种电子职能的中间产品或者最终产品。集成电路一般分为混合集成电路和半导体集成电路。其中,半导体集成电路无论在用途、功能、产量、市场份额等方面都绝对占有统治地位,以至于人们常常以半导体集成电路作为电子工业发展水平的里程碑或者标志，实行集成电路立法的国家，也多针对半导体集成电路进行立法。 b:集成电路的制作过程一般要经过以下几个步骤：（1）确定所设计的集成电路的功能和规格，进行系统设计；（2）设计实现这些功能的逻辑图；（3）进行电路设计；（4）芯片三维布图设计，即将电路图中多个元器件合理分配在多个叠层中，并使其互联，画出每层电路布图设计图并进行验证；（5）制作用于生产芯片的掩模板；（6）利用掩模板将布图设计逐层制作于半导体片上，成为芯片；（7）芯片检测；（8）封装后为实用的集成电路。 2：集成电路布图设计所谓布图设计，是集成电路布图设计的简称，各国对之称谓却不尽相同。世界上最早立法保护集成电路的三个国家中就分别采用了三种不同的叫法：美国人称其为掩模作品（Mask work）；日本人则使用了线路布局（Circuit Layout）的提法；瑞典人使用的是布图设计（Layout Design）。但这并不算结束，随后跟进

【集成电路布图设计保护条例】

集成电路布图设计保护条例第一章总则第一条为了保护集成电路布图设计专有权,鼓励集成电路技术的创新,促进科学技术的发展,制定本条例。第二条本条例下列用语的含义: (一)集成电路,是指半导体集成电路,即以半导体材料为基片,将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或者基片之上,以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品; (二)集成电路布图设计(以下简称布图设计),是指集成电路中至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路的三维配置,或者为制造集成电路而准备的上述三维配置; (三)布图设计权利人,是指依照本条例的规定,对布图设计享有专有权的自然人、法人或者其他组织; (四)复制,是指重复制作布图设计或者含有该布图设计的集成电路的行为; (五)商业利用,是指为商业目的进口、销售或者以其他方式提供受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品的行为。第三条中国自然人、法人或者其他组织创作的布图设计,依照本条例享有布图设计专有权。外国人创作的布图设计首先在中国境内投入商业利用的,依照本条例享有布图设计专有权。外国人创作的布图设计,其创作者所属国同中国签订有关布图设计保护协议或者与中国共同参加有关布图设计保护国际条约的,依照本条例享有布图设计专有权。第四条受保护的布图设计应当具有独创性,即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果,并且在其创作时该布图设计在布图设计创作者和集成电路制造者中不是公认的常规设计。受保护的由常规设计组成的布图设计,其组合作为整体应当符合前款规定的条件。第五条本条例对布图设计的保护,不延及思想、处理过程、操作方法或者数学概念等。第六条国务院知识产权行政部门依照本条例的规定,负责布图设计专有权的有关管理工作。第二章布图设计专有权第七条布图设计权利人享有下列专有权: (一)对受保护的布图设计的全部或者其中任何具有独创性的部分进行复制; (二)将受保护的布图设计、含有该布图设计的集成电路或者含有该集成电路的物品投入商业利用。第八条布图设计专有权经国务院知识产权行政部门登记产生。未经登记的布图设计不受本条例保护。第九条布图设计专有权属于布图设计创作者,本条例另有规定的除外。由法人或者其他组织主持,依据法人或者其他组织的意志而创作,并由法人或者其他组织承担责任的布图设计,该法人或者其他组织是创作者。由自然人创作的布图设计,该自然人是创作者。第十条两个以上自然人、法人或者其他组织合作创作的布图设计,其专有权的归属由合作者约定;未作约定或者约定不明的,其专有权由合作者共同享有。

集成电路布图设计申请应提供材料审批稿

集成电路布图设计申请应提供材料 YKK standardization office【 YKK5AB- YKK08- YKK2C- YKK18】

集成电路布图设计申请应提供材料申请人委托我公司向国家知识产权局申请布图设计登记和办理其他手续的，应当提交签章的委托书及下述材料。 1、申请表中需委托人提供的事项：（一）申请人的姓名或者名称、地址或者居住地；（二）申请人的国籍；（三）布图设计的名称；（四）布图设计创作者的姓名或者名称；（五）布图设计的创作完成日期；（六）该布图设计所用于的集成电路的分类；（七）布图设计有条例第十七条所述商业利用行为的，该行为的发生日；（八）布图设计登记申请有保密信息的，含有该保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数；（九）附加文件及样品清单； 2、提供布图设计的复制件或者图样布图设计的复制件或者图样应当符合下列要求：（一）复制件或者图样的纸件应当至少放大到用该布图设计生产的集成电路的20倍以上；申请人可以同时提供该复制件或者图样

的电子版本；提交电子版本的复制件或者图样的，应当包含该布图设计的全部信息，并注明文件的数据格式；（二）复制件或者图样有多张纸件的，应当顺序编号并附具目录；（三）复制件或者图样的纸件应当使用A4纸格式；如果大于A4纸的，应当折叠成A4纸格式；（四）复制件或者图样可以附具简单的文字说明，说明该集成电路布图设计的结构、技术、功能和其他需要说明的事项。 3、涉及保密信息的申请布图设计在申请日之前没有投入商业利用的，该布图设计登记申请可以有保密信息，其比例最多不得超过该集成电路布图设计总面积的50%。含有保密信息的图层的复制件或者图样页码编号及总页数应当与布图设计登记申请表中所填写的一致。布图设计登记申请有保密信息的，含有该保密信息的图层的复制件或者图样纸件应当置于在另一个保密文档袋中提交。除侵权诉讼或者行政处理程序需要外，任何人不得查阅或者复制该保密信息。 4、集成电路样品布图设计在申请日之前已投入商业利用的，申请登记时应当提交4件含有该布图设计的集成电路样品，并应当符合下列要求：（一）所提交的4件集成电路样品应当置于能保证其不受损坏的专用器具中，并附具填写好的国家知识产权局统一编制的表格；

集成电路布图设计合同纠纷办案指引

集成电路布图设计合同纠纷案件分类:（1）集成电路布图设计创作合同纠纷;（2）集成电路布图设计专有权转让合同纠纷; (3) 集成电路布图设计许可使用合同纠纷. 一、集成电路布图设计合同的含义集成电路布图设计合同纠纷是指当事人就集成电路布图设计的创作、有关权利的转让和许可使用等内容所订立的合同而发生的纠纷。集成电路布图设计创作合同纠纷是指当事人就集成电路布图设计的创作所订立的合同而发生的纠纷。包括委托创作合同纠纷和合作创作合同纠纷。集成电路布图设计专有权转让合同纠纷是指当事人就集成电路布图设计专有权的转让所订立的合同而发生的纠纷。集成电路布图设计许可使用合同纠纷是指当事人就集成电路布图设计的许可使用所订立的合同而发生的纠纷。二、集成电路布图设计合同纠纷的诉讼管辖由于合同标的物所涉集成电路布图的特殊性，最髙人民法院对集成电路布图设计合同纠纷管辖作出了特殊规定，即相关案件的受理必须遵守最髙人民法院关于指定管辖和级别管辖的相关规定。根据最高人民法院《关于开展涉及集成电路布图设计案件审判工作的通知》的规定，该通知第1条所列第（5）至（10）类案件，由北京市第一中级人民法院作为第一审人民法院审理；其余各类案件，由各省、自治区、直辖市人民政府所在地，经济特区所在地和大连、青岛、温州、佛山、烟台市的中级人民法院作为第一审人民法院审理。三、确定集成电路布图设计合同纠纷案由应当注意的问題集成电路布图设计相对而言是一类比较新型的知识产权。《规定》将涉及集成电路布图设计合同纠纷单列为一类知识产权合同纠纷，并在作为第三级案由的同时分列了3个四级案由。最髙人民法院《关于审理技术合同纠纷案件适用法律若干问题的解释》第46条第1款规定：“集成电路布图设计、植物新品种许可使用和转让等合同争议，相关行政法规另有规定的，适用其规定；没有规定的，适用合同法总则的规定，并可以参照合同法第十八章和本解释的有关规定处理。”该款规定只涉及集成电路布图设计合同案件的法律适用问题，不涉及案由确定问题。除非合同主要权利义务是关于利用集成电路布图设计提供咨询、服务和培训，不应将有关争议确定为《规定》中的技术合同纠纷。集成电路布图设计创作合同纠纷包括因合作创作和委托创作发生的合同纠纷，但涉及专有权权属纠纷的除外。对于当事人之间因集成电路布图设计专有权权属发生的争议，应当按照《规定》中集成电路布图设计专有权权属纠纷确定案由。实践中，还存在一种集成电路布图设计代理合同。集成电路布图设计代理合同是委托人与集成电路布图设计代理机构就办理集成电路布图设计登记申请或者办理其他与集成电路布图设计有关事务达成的协议。对于集成电路布图设计代理合同纠纷，《规定》未作出具体列举，但参照专利和商标代理合同纠纷的案由归类，也应当作为集成电路布图设计合同纠纷受理。

集成电路制作合同

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集成电路布图设计与著作权法保护方式比较

集成电路布图设计与著作权法保护方式比较集成电路布图设计是一种高科技的结晶，其中凝结了开发者大量创造性的脑力劳动，是智力成果的一种重要形式。由于知识产权是人们基于自己的智力活动创造的成果和经营管理活动中的经验、知识的结晶而依法享有的民事权利。因此，最初人们很自然地试图在各种已有的知识产权法律当中寻找合适的一种为集成电路布图设计提供保护。著作权保护，集成电路布图设计的结果是一种图形，人们自然也寄望于著作权能予以保护。集成电路诞生在美国，可美国法院却在长时间内找不到保护集成电路布图设计的法律。1979年，美国伊利诺斯州北区联邦法院及第七巡回法院在处理一个仿制集成电路布图设计的诉讼案时，就感到本来应当在著作权法中找到判决的依据，而实际上却没有找到。对集成电路布图设计提供著作权保护的构想进行深入思考后，人们发现： (1)著作权保护客体的限制。著作权保护作品的表现形式，不保护作品的思想。作品是由语言、文字、图形或符号构成的，表现一种思想的智力成果。集成电路布图设计，既不是由语言文字，也不是由任何图形符号构成的，而是由一系列电子元件及连接这些元件的导线构成的立体布局。不论对各国立法及有关版权条约中的作品做出多么广泛的解释，均无法将集成电路的这种立体布图设计包括在内。（2）著作权保护内容的限制。将版权法中的作品扩及集成电路布图设计，著作权法仍然无法提供充分有效的保护。著作权法对作品

提供保护的最重要的方式之一，就是禁止他人未经著作权人同意非法复制作品。但是许多国家著作权法规定，对立体作品的非接触复制，不被著作权法禁止。对集成电路布图设计的复制，恰恰就是这种对立体作品的非接触复制，因而在许多国家不被著作权法禁止。德国学者认为，工程设计、产品设计图一类的作品，著作权只保护到图纸的复制这一层，不禁止按照图纸施工，甚至将实施图纸后的客体再重新绘成图纸，只要是独立绘制而不是抄袭原图纸，都不违反法律规定。如果实施图纸后的产品属于著作权法保护的作品，例如建筑艺术作品，这种实施行为则是著作权法所指的复制行为，须经著作权人的许可。如果实施图纸后得到的客体是著作权保护的文学、艺术和科学作品，这种实施行为就属于著作权法所称的复制；如果得到的客体不是著作权保护的文学、艺术和科学作品，而是工业产品，则这种实施行为不在著作权法禁止之列。 ⑧著作权保护的前提过低。著作权保护的前提是“独创性”和“可固定性”，大陆法系对于“独创性”中“创造性”的要求比英美法系高。按照大陆法系关于“独创性”的标准来衡量，依然远较专利法的“先进性”标准为低，实践中布图设计均具有一定的“独创性”而无“先进性”，即该布图设计是创作者自己的智力劳动成果，但却只是在布图设计创作者和集成电路制造者中公认的“常规设计”，类似于专利法中所称的“公知技术”，应处于人们自由使用的领域。可是按照著作权保护的要求，这类大量（甚至占全部集成电路一半以上）的“常规设计”均应受到著作权保护，这样势必限制集成电路产业的发

2020集成电路制作合同(标准版)

集成电路制作合同立约人_________（以下简称甲方）与_________（以下简称乙方）。甲乙双方为集成电路试制事宜，特立本合约，并同意条件如下：第一条标的物：委托芯片名称_________（ICNo._________），甲方同意由乙方代寻适合之代工厂，就标的物进行集成电路试制。第二条功能规格确认一、甲方完成本设计案之各项设计及验证后，应将本产品之布图（Layout）交由乙方进行集成电路制作之委托事宜。二、甲方的布图（Layout）资料，概以甲方填写之TAPEOUTFORM为依据，进行光罩制作。乙方不对甲方之布局图（Layout）作任何计算机软件辅助验证。三、标的物之样品验证系以乙方委托之晶圆代工厂标准的晶圆特性测试（WAT）值为准，甲方不得作特殊要求。四、如甲方能证明该样品系因乙方委托之代工厂制程上之误失，致不符合参数规格范围，虽通过代工厂标准的晶圆特性测试，仍视为不良品。第三条样品试制进度一、甲方须于委托制作申请单中注明申请梯次，若有一方要求变更制作梯次，需经双方事前书面同意后始可变更。二、原案若有因不可归责乙方之事由或不可抗力之情事，致无法如期交货，乙方应于事由发生时，尽速通知甲方，由双方另行议定交货期限。第四条样品之确认一、样品之确认以第二条之第二及三款之规定为依据，甲方不得对电气特性提出额外的样品确认标准，若因甲方之布局图（Layout）与TAPEOUTFORM不符，而致试制样品与甲方规格不符，因此所生损失概由甲方负责。二、甲方应于收到标的物试制样品后肆拾伍日之内完成样品之测试。若该样品与甲方于委托制作申请单及TAPEOUTFORM中指定不符，且甲方能证明失败之样品是缘由制程之缺失所造成，甲方应于肆拾伍日之测试期限内以书面向乙方提出异议。如甲方未于此肆拾伍日之期限内向乙方提出异议，则视为样品已为甲方所确认。三、乙方应于收到甲方所提之异议书拾伍个工作日内，将该异议交由第三公正单位评定。若甲方所提出之异议经评定，其系可归责予乙方时，乙方应要求代工厂重新制作样品。新样品之测试与确认，仍依本合约第二条第二、三及四款规定行之。除本项规定重新制作之外，甲方对乙方不得为任何其它赔偿之请求。四、如新样品仍与甲方指定之规格不符，则甲方得要求终止合约。惟甲方不得向乙方索回已付予乙方之费用，且不得就本合约对乙方为任何损害赔偿请求，乙方亦不得向甲方请求任何除已付费用外之补偿。第五条试制费用试制费用依乙方订定之计费标准为准。

集成电路制作合同范本正式版

YOUR LOGO 集成电路制作合同范本正式版 After The Contract Is Signed, There Will Be Legal Reliance And Binding On All Parties. And During The Period Of Cooperation, There Are Laws To Follow And Evidence To Find 专业合同范本系列，下载即可用

集成电路制作合同范本正式版使用说明：当事人在信任或者不信任的状态下,使用合同文本签订完毕，就有了法律依靠,对当事人多方皆有约束力。且在履行合作期间,有法可依,有据可寻，材料内容可根据实际情况作相应修改，请在使用时认真阅读。立约人_________（以下简称甲方）与_________（以下简称乙方）。甲乙双方为集成电路试制事宜，特立本合约，并同意条件如下：第一条标的物：委托芯片名称_________ （ICNo._________），甲方同意由乙方代寻适合之代工厂，就标的物进行集成电路试制。第二条功能规格确认一、甲方完成本设计案之各项设计及验证后，应将本产品之布图（Layout）交由乙方进行集成电路制作之委托事宜。二、甲方的布图（Layout）资料，概以甲方填写之TAPEOUTFORM为依据，进行光罩制作。乙方不对甲方之布局图（Layout）作任何计算机软件辅助验证。三、标的物之样品验证系以乙方委托之晶圆代工厂标准的晶圆特性测试（WAT）值为准，甲方不得作特殊要求。四、如甲方能证明该样品系因乙方委托之代工厂制程上之误失，致不符合参数规格范围，虽通过代工厂标准的晶圆特性测试，仍视为不良品。第三条样品试制进度一、甲方须于委托制作申请单中注明申请梯次，若有一方

集成电路布图填表须知

集成电路布图设计登记申请表填表须知一、申请表：需提交一式两份.一份为原本，一份为复印件.并要求使用中文填写，表中文字应当打字或者印刷，字迹为黑色. 二、布图设计名称：应填写集成电路型号.例如：. 三、申请号和申请日：由国家知识产权局填写. 四、集成电路分类： 1.结构：双极；：金属－氧化物－半导体；：双极－金属－氧化物－半导体；：集成光路；其他：不包括上述四类地结构. 2.技术：晶体管－晶体管逻辑电路；：二极管－晶体管逻辑电路；：发射极耦合逻辑电路； : 集成注入逻辑电路；其他：不包括在上述四种之内地技术. 3.功能逻辑；存储；微型计算机；线性；其他. 4.以上（）（）（）三类，每一类中最多只能选择一种，并在内打“×”. 5.布图设计创作人：可以是自然人、法人或者其他组织. 6.完成创作日期：完成设计日. 7.首次商业利用日：首次投入商业利用之日. 8.申请人：申请人是单位地应填写单位全称,并与公章中名称一致.申请人是个人地，应填写本人真实姓名，不得写笔名.申请人为多个，又未委托代理机构，填写在第一栏地申请人为第一署名申请人.申请人为单位地还应填写单位联系人姓名. 9.申请人地址：国内地址应写明省、市、区、街道、门牌号码、邮政编码.外国人地址应写明国别、州（市、县）. 十、申请文件清单：除申请表一式两份，其余文件均为一式一份，凡是图纸应使用计算机制图.其他图纸或复制件、文件、样品清单与所附清单严格一致. 集成电路布图设计登记收费项目和标准公告（第号）根据《集成电路布图设计保护条例》地规定，向国家知识产权局申请

集成电路布图设计登记和办理有关手续，应当缴纳费用.按照国家发展和改革委员会、财政部年月日发布地《国家发展和改革委、财政部关于集成电路布图设计登记费等收费标准及有关事项地通知》（发改价格[]号）地规定，现将集成电路布图设计登记收费项目和标准公布如下：集成电路布图设计收费项目和收费标准（金额单位：人民币）一、布图设计登记费，每件元二、布图设计登记复审请求费，每件元三、著录事项变更手续费，每件每次元四、延长期限请求费，每件每次元五、恢复布图设计登记权利请求费，每件元六、非自愿许可使用布图设计请求费，每件元七、非自愿许可使用布图设计支付报酬裁决费，每件元本公告自月日起执行. 中华人民共和国国家知识产权局二○○三年五月十六日申请集成电路布图设计保护须知廊清概念集成电路是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件地两个以上元件和部分或者全部连线集成在基片之中或者基片之上，以执行某种电子功能地中间产品或者最终产品. 集成电路一般分为设计、制造、封装三个阶段.

集成电路布图设计权的保护期限

集成电路布图设计权的保护期限为了保护布图设计创作人的权利和利益，各国制定了法律，从而产生了布图设计权。但是布图设计权在保护时间上不能是无限的，否则将不利于充分发挥其对社会的作用，也不利于集成电路的技术发展，因此对布图设计应予以一定的保护期限。由于保护期限直接关系到集成电路开发商的利益，因而在保护期限上发达国家与发展中国家展开了激烈的争论。最早保护布图设计的美国在《半导体芯片保护法》中规定保护期为10年。发展中国家则认为保护期过长，经勿良苦的努力，终于在《华盛顿条约》中将保护期减少为8年，但由于发达国家的抵制，在TRIPS协议中又将保护期延长到10年。我国《条例》第十二条规定:‘布图设计专有权的保护期为10年，自布图设计申请之日或者在世界任何地方首次投入商业利用之日起计算，以较前日期为准。但是，无论是否登记或者投入商业利用，布图设计自创作完成之日起15年后，不再受本条例保护。” 对于保护期限，陈家骏先生认为:“惟如科技工业之场合，其造成进步之原动力之一即在于互相观摩及利用他人之创作，从而激活自己脑力而创造出其他新技术，故如从人类文明福社之均沾及促进社会整体利益而言，科技产物之保护期实不宜太长，是以10年为妥。”对布图设计权保护期限的规定既应考虑社会公共利益，又要照顾布图设计创作人及开发商的利益，还要考虑发展中国家的利益，以及集成电路技术更新的速度。只有找到这些因素的平衡点，才能恰当规定布图设计的保护期。

尤其是集成电路技术的更新速度越来越快，从长远的利益来看，10年的保护期似乎过长了些。但当今世界是大国主宰的世界，既然TR 工PS已规定了10年的保护期，我们也只有与其保持一致。

集成电路制作合同(标准模板)

集成电路制作合同甲方：__________________________ 住所：__________________________ 统一社会信用代码：______________ 联系方式：______________________ 乙方：__________________________ 住所：__________________________ 统一社会信用代码：______________ 联系方式：______________________ 甲乙双方为集成电路试制事宜，特立本合约，并同意条件如下：第一条标的物：委托芯片名称_________（ICNo._________），甲方同意由乙方代寻适合之代工厂，就标的物进行集成电路试制。第二条功能规格确认一、甲方完成本设计案之各项设计及验证后，应将本产品之布图（Layout）交由乙方进行集成电路制作之委托事宜。二、甲方的布图（Layout）资料，概以甲方填写之TAPEOUTFORM为依据，进行光罩制作。乙方不对甲方之布局图（Layout）作任何计算机软件辅助验证。三、标的物之样品验证系以乙方委托之晶圆代工厂标准的晶圆特性测试（WAT）值为准，甲方不得作特殊要求。四、如甲方能证明该样品系因乙方委托之代工厂制程上之失误，致不符合参数规格范围，虽通过代工厂标准的晶圆特性测试，仍视为不良品。第三条样品试制进度一、甲方须于委托制作申请单中注明申请梯次，若有一方要求变更制作梯次，需经双方事前书面同意后始可变更。二、原案若有因不可归责乙方之事由或不可抗力之事由，致无法如期交货，乙方应于事由发生时，尽速通知甲方，由双方另行议定交货期限。

试论我国集成电路布图设计的知识产权保护

试论我国集成电路布图设计的知识产权保护[摘要]：集成电路布图设计的知识产权保护是近年来各国法律界都比较关心的问题，我国已于2001年制定了《集成电路部图设计保护条例》。本文分析了集成电路布图设计的概念及特点，论述了其作为特殊的知识产权客体而受到专门保护的必要性，并阐述了我国集成电路布图设计保护的理论体系，对其中的一些问题提出了自己的一些看法。当今世界，计算机的发展已成为领导工业现代化进程的潮头军，自1946年世界第一台电子计算机诞生以来，短短的五十多年间，计算机作为一种现代化的高级工具以惊人的速度迅速地渗透到了社会生活的各个领域，引起了全球的技术革命。计算机技术的飞速发展离不开另一门产业的发展，即集成电路产业。因为集成电路的出现才使计算机摆脱了电子管、晶体管等原材料构件的束缚，逐步走向小型化，轻型化，高智能化，迅速走向了社会，走入了家庭。集成电路产业的飞速发展，产生了许多新的法律问题，由于传统知识产权法的局限性以及集成电路及其布图设计本身存在着的特殊性，集成电路布图设计的法律保护问题也引起了法学界的极大关注。各国也纷纷就集成电路布图设计进行立法，以保护此种特殊性质的知识产权不受侵害。我国早在1991年国务院就已将《半导体集成电路布图设计保护条例》列入了立法计划，经过10年的酝酿，我国的《集成电路布图设计保护条例》终于于2001年3月28日由国务院第36次会议通过，并于2001年10月1日起施行。这是目前我国保护集成电路布图设计知识产权的一部重要法规。虽然它是一部行政法规，但经过试行一段时间到条件成熟后，将之上升为法律的形式是必然的趋势。我国采用专门立法的形式保护集成电路布图设计既尊重了国际知识产权保护的原则，又便于与国际法律接轨，而且这部条例既保护了集成电路布图设计专有权人的权益，又考虑到了国家和公众的利益，使技术进步不受到人为的限制。这一条例初步建立了我国集成电路布图设计的知识产权保护的理论体系，进一步完善了我国的知识产权法律制度。一、集成电路和布图设计的概念与特点集成电路是指半导体集成电路，即以半导体材料为基片，将至少有一个是有源元件的两个以上元件和部分或者全部互连线路集成在基片之中或基片之上，以执行某种电子功能的中间产品或者最终产品。一块集成电路通过控制电流在其电路中的流动来实现其功效。在计算机发展的初期，每个电路元件（如晶体管、电阻、电容等）都是用引线同电路中的其它元件相连接的。这种做法须耗费大量的劳动力与工时，且计算机制作成本很高，大量连线的存在使电流的流动距离增长，不仅影响了计算机工作的速度和可靠性，还引起电路功耗的增加，从而带来电路的散热以及要求有较高电压的电源等一系列的问题。这也正是最初计算机体积庞大、耗电量大、速度慢的根本原因。采用集成电路以后，这些问题就得到了解决：由于电路元件及连线实质上已成为一体，作为一块电路板上的不同元件，它们之间的电流交换速度大大增强，且电路的功耗亦大幅度降低，不仅提高了计算机的性能，还大大降低了计算机的成本。由于生产集成电路的主要原材料硅、铝、水等一些化合物并不昂贵，但经过加工以后得到的集成电路产品的价值往往可以达到其材料价值的几十倍，几百倍甚至上千倍。在其价值成本中，大部分都是知识、技术与信息所增加的附加价值。这种附加价值主要集中在以集成电路为载体而体现出来的人类智慧的结晶-布图设计的价值上。就象相同的磁带因为录制不同的歌曲其价值就会不同一样，用相同的技术工艺在同样的芯片上依不同的布图设计所制作出的集成电路，其价值也是不同的。好的布图设计制作出的芯片往往能具备更高的性能和工作速度。因此，集成电路的法律保护问题，归根结底在于对其布图设计的保护。[!--empirenews.page--] 对布图设计，世界各国的称呼各有不同：美国称之为掩膜作品，（MaskWork），日本称之为电路布局（CircuitLayout），欧洲国家采用的是另一个英文单词Topography（拓朴图），而世界知识产权组织（WIPO）于1987年2月通过的《关于集成电路知识产权保护条约》（简称《WIPO条约》或《华盛顿条约》）中则采用了Layout-design（布图设计）一词。这些词语字面上的表示虽各不相同，但其真正的含义都是相同的，即指集成电路中各种元件的三维配置。许多人认为布图设计只是一种设计图，就象建筑工程设计图一

集成电路布图设计权无效

集成电路布图设计权无效案例 JC0004号集成电路布图设计权无效案国家知识产权局专利复审委员会(下称专利复审委)推出2011年度十大案件，其中比较引人注目的就是这期涉及集成电路布图设计权无效撤销案件，其具有一定的代表性，在以后的集成电路布图设计权无效申请案件中有着深刻的意义。【案情介绍】 2009年8月3日，深圳市天微电子有限公司针对深圳市明微电子股份有限公司(下称明微电子)所拥有的登记号为BS.08500671.8、名称为SM9935B(MW7001)的布图设计向专利复审委提出专利权无效宣告请求，认为相对于其在先销售的TM9936产品不具独创性，该TM9936产品已经获得登记号为BS.09500108.5的集成电路布图设计专有权。明微电子则认为，首先，无法认定已经公开销售商品是登记时的布图设计，原因是集成电路生产公司在对其产品进行改造时，如无太多变化则可能并不改变产品的名称;其次，关于独创性，两布图设计存在本质区别。后经专利复审委审查后认为，BS.08500671.8布图设计专有权不符合《集成电路布图设计保护

条例》(下称条例)第四条有关独创性的规定，遂于2011年6月29日作出撤销该布图设计专有权的审查决定。【案例点评】此案是该条例实施以来首例专有权被撤销集成电路布图设计案件，涉及到布图设计在先商业利用问题，证据繁多且错综复杂。布图设计专有权的保护对象是集成电路的三维配置图形，与专利权相比，其保护范围较难界定，其独创性的技术判定是集成电路布图设计撤销案件审理工作的最大挑战。该案审查决定中关于独创性的判断原则对独创性判断标准和方法给出很好地诠释，对今后集成电路布图设计撤销案件的审理具有重要借鉴作用。

集成电路布图创作合同

集成电路布图创作合同甲方：乙方：法定代表人：法定代表人：甲乙双方为集成电路试制事宜，双方经过平等协商，特订立本合同。一、标的物：委托芯片名称_________，甲方同意由乙方代为寻找适合的代工厂，就标的物进行集成电路试制。二、功能规格确认 1.甲方完成本设计案之各项设计及验证后，应将本产品之布图（Layout）交由乙方进行集成电路制作之委托事宜。 2.甲方的布图（Layout）资料，概以甲方填写之TAPEOUTFORM为依据，进行光罩制作。乙方不对甲方之布局图（Layout）作任何计算机软件辅助验证。 3.标的物之样品验证系以乙方委托之晶圆代工厂标准的晶圆特性测试（WAT）值为准，甲方不得作特殊要求。 4.如甲方能证明该样品系因乙方委托之代工厂制程上之误失，致不符合参数规格范围，虽通过代工厂标准的晶圆特性测试，仍视为不良品。三、样品试制进度 1.甲方须于委托制作申请单中注明申请梯次，若有一方要求变更制作梯次，需经双方事前书面同意后始可变更。 2.原案若有因不可归责乙方之事由或不可抗力，致无法如期交货，乙方应于事由发生时，尽速通知甲方，由双方另行议定交货期限。四、样品之确认 1.样品之确认以第二条之第二及三款之规定为依据，甲方不得对电气特性提出额外的样品确认标准，若因甲方之布局图（Layout）与TAPEOUTFORM不符，而致试制样品与甲方规格不符，因此所生损失概由甲方负责。 2.甲方应于收到标的物试制样品后日之内完成样品之测试。若该样品与甲方于委托制作申请单及TAPEOUTFORM中指定不符，且甲方能证明失败的样品是由于制程的缺失所造成，甲方应于日之测试期限内以书面向乙方提出异议。如甲方未于此期限内向乙方提出异议，则视为样品已为甲方所确认。 3.乙方应于收到甲方所提之异议书日内，将该异议交由第三公正单位评定。若甲方所提出之异议经评定，其系可归责予乙方时，乙方应要求代工厂重新制作样品。新样品之测试与确认，仍依本合约第二条第二、三及四款规定履行。除本项规定重新制作之外，甲方对乙方不得为任何其他赔偿请求。 4.如新样品仍与甲方指定之规格不符，则甲方得要求终止合约。甲方不得向乙方索回已付给乙方的费用，且不得就本合约对乙方为任何损害赔偿请求，乙方亦不得向甲方请求任何除已付费用外的补偿。

浅析中国《集成电路布图设计保护条例》

浅析中国《集成电路布图设计保护条例》国务院颁布的《集成电路布图设计保护条例》，立足自身的实际情况，借鉴美国、日本等国家和地区的先进立法，在立法中结合我国的实际情况，进行充分协调，这种做法在中国现行知识产权法中是十分可取的，这标志着我国集成电路布图设计专有权制度的初步建立。这有利于保护集成电路布图设计专有权，鼓励集成电路技术的创新，促进科学技术的发展。标签：集成电路布图设计；法律保护；知识产权集成电路的出现是微电子技术革命的动力源与受动者，在技术领域和信息社会具有革命性的意义。集成电路产业同时是关系到国民经济和社会发展具有战略先导性的行业，是信息产业发展的关键。根据世界知识产权组织《关于集成电路的知识产权公约》的规定，集成电路布图设计是指集成电路中多个原件，其至少由一个有源元件组成，或者全部集成电路互连的三维配置，以执行某种电子功能。集成电路布图设计作为人类高科技成果，是知识产权的客体之一。目前我国集成电路出现核心技术受制于人，缺乏自主创新能力的局面。针对存在的这一系列问题，我国需借鉴其他国家立法及国际公约的先进经验，加强对该智力成果的法律保护，也为激励集成电路布图设计人自主创新提供强有力的保障。一、主要国家的立法概况美国是集成电路的发源地，于1984年率先实施《半导体芯片保护法》，以单独立法的方式来保护集成电路布图设计。该法对集成电路的掩膜层的专有权利中规定权利人有权进口或销售包含有该掩膜层的半导体芯片产品。这种产品包含两层含义：一是含有布图设计图层的芯片，二是用前项制造出的产品。美国这种立法模式影响到1989年缔结的《华盛顿条约》和1994年达成的《TRIPS协定》。继美国出台的《半导体芯片保护法》之后，日本于1985年5月31日颁布了《半导体集成电路的线路布局法》，该法的立法体与内容同美国《半导体芯片保护法》极为相似，也将布图作为单独民事关系客体来保护。受美国和日本立法的影响，欧共体于1986年12月16日颁布了《关于保护半导体芯片产品拓图委员会指令》，要求各成员国根据指令，通过授予专有权的形式来保护半导体产品的布图设计。随即，英国、德国、荷兰、法国、西班牙等国也相继以专门立法的形式出台了保护布图设计的法律。二、我国集成电路布图设计权的法律保护 1984年我国颁布了专利法。1985年我国加入了《保护工业产权巴黎公约》,中国知识产权保护水平上了一个新台阶。1987年颁布的《技术合同法》使得技术成果在流通领域中的关系有了调整的依据。1990颁布了《著作权法》，1999年颁布了新的《合同法》，这些法律条文的颁布使我国初步具备了保护集成电路布图设计权的基本条件。