单片微波集成电路

单片微波集成电路
单片微波集成电路

单片微波集成电路(MMIC),有时也称射频集成电路(RFIC),它是随着半导体制造技术的发展,特别是离子注入控制水平的提高和晶体管自我排列工艺的成熟而出现的一类高频放大器件。

微波集成电路 Microwave Integrated Circuit

工作在300M赫~300G赫频率范围内的集成电路。简称MIC。分为混合微波集成电路和单片微波集成电路。前者是用厚膜技术或薄膜技术将各种微波功能电路制作在适合传输微波信号的介质(如高氧化铝瓷、蓝宝石、石英等)上,再将分立有源元件安装在相应位置上组成微波集成电路。这种电路的特点是根据微波整机的要求和微波波段的划分进行设计和制造,所用集成电路多是专用的。单片微波集成电路则是将微波功能电路用半导体工艺制作在砷化镓或其他半导体芯片上的集成电路。这种电路的设计主要围绕微波信号的产生、放大、控制和信息处理等功能进行,大部分电路都是根据不同整机的要求和微波频段的特点设计的,专用性很强。

在这类器件中,作为反馈和直流偏置元件的各个电阻器都采用具有高频特性的薄膜电阻,并且与各有源器件一起封装在一个芯片上,这使得各零件之间几乎无连线,从而使电路的感抗降至最低,且分布电容也极小,因而可用在工作频率和频宽都很高的MMIC放大器中。

目前,MMIC的工作频率已可做到40GHz,频宽也已达到15GHz,因而可广泛应用于通信和GPS, 等各类设备的射频、中频和本振电路中。

根据制作材料和内部电路结构的不同,MMIC可以分成两大类:一类是基于硅Silicon晶体管的MMIC,另一类是基于砷化镓场效应管(GaAs FET)的MMIC。GaAs FET类MMIC具有工作频率高、频率范围宽、动态范围大、噪声低的特点,但价格昂贵,因此应用场合较少;而硅晶体管的MMIC性能优越、使用方便,而且价格低廉,因而应用非常广泛.

微波集成电路是工作在微波波段和毫米波波段,由微波无源元件、有源器件、传输线和互连线集成在一个基片上,具有某种功能的电路。可分为混合微波集成电路和单片微波集成电路。

微波集成电路起始于20世纪50年代。微波电路技术由同轴线、波导元件及其组成的系统转向平面型电路的一个重要原因,是微波固态器件的发展。60~70年代采用氧化铝基片和厚膜薄膜工艺;80年代开始有单片集成电路。

微波集成电路的分类

混合微波集成电路是采用薄膜或厚膜技术,将无源微波电路制作在适合传输微波信号的基片上的功能块。电路是根据系统的需要而设计制造的。常用的混合微波集成电路有微带混频器、微波低噪声放大器、功率放大器、倍频器、相控阵单元等各种宽带微波电路。

单片微波集成电路是采用平面技术,将元器件、传输线、互连线直接制做在半导体基片上的功能块。砷化镓是最常用的基片材料。

单片微波集成电路包括多种功能电路,如低噪声放大器(LNA)、功率放大器、混频器、上变频器、检波器、调制器、压控振荡器(VCO)、移相器、开关、MMIC 收发前端,甚至整个发射/接收(T/R)组件(收发系统)。由于MMIC的衬底材料(如GaAs、InP)的电子迁移率较高、禁带宽度宽、工作温度范围大、微波传输性能好,所以MMIC具有电路损耗小、噪声低、频带宽、动态范围大、功率大、附加效率高、抗电磁辐射能力强等特点。

MMIC(单片微波集成电路)封装

随着工作频率的增加,封装的寄生现象对系统性能的影响越来越大。为了把这些影响减到最小,封装的型式和典型阻抗特性的设计都要很谨慎,保证必须的机械性能和电气性能。

一般使用典型的Ag/Cu钎焊,但是Ag/Cu/In和Au钎焊比如Au/Ge和Au/Sn,也可以用到那些需要低温钎焊的地方。这种方式可以减小钎焊应力,因为封装里的其他材料需要较低的温度。法兰材料可以是ASTM F-15,W/Cu, Mo/Cu,或均匀的AlSiC。

MMIC封装的主要应用包括:高可靠性(hi-reliability)领域。其他应用包括:信息处理(info processing)和电讯(telecommunications)领域。

微波集成电路的影响

微波单片集成电路已成为当前发展各种高科技武器的重要支柱,已广泛用于各种先进的战术导弹、电子战、通信系统、陆海空基的各种先进的相控阵雷达(特别是机载和星载雷达),在民用商业的移动电话、无线通信、个人卫星通信网、全球定位系统、直播卫星接收和毫米波自动防撞系统等方面已形成正在飞速发展的巨大市场。

微波大功率GaN基器件和电路

GaN作为第三代半导体材料的代表,具有广泛应用前景。主要开展GaN功率器件、MMIC电路和模块的研究,重点解决器件和电路的可靠性。已研制成功系列高频大功率GaN器件和电路,并通过系统单位合作,开展组件研发。

微波单片集成电路(MMIC)设计和测试

研究室具有 Agilent ADS、Agilent IC-CAP、MW Office、 Cadence等微波电路设计和测试EDA工具,拥有HP8510C矢量网络分析仪、CASCADE探针台、Load-Pull微波功率测试系统等完备的测试仪器。基于成熟的Foundry工艺线和研究室的生产线,近五年来完成了多款MMIC设计,电路种类包括LNA、PA、Mixer、VCO、PLL、各类微波控制电路等。

超高频数模混合电路研究

利用InP HBT击穿电压高、功率密度大的特点,在模拟电路方面,进行超高频的功率放大器、VCO等的研究;在混合电路方面,进行超高速数模混合电路(如高端的数模转换器、模数转换器、直接数字频率合成器)以及这些电路的系统应用研究。

微波混合集成电路(MIC)和小型化MCM模块

采用先进的微波薄、厚膜工艺和精密的加工与模拟技术,着力于微波与毫米波混合集成电路、模块和子系统的设计开发、生产和封装,重点开展大功率内匹配管、功率合成模块、宽带放大器模块以及毫米波功率模块和收发组件的研制和开发。正在研制的微波器件有:

(1) TDS-CDMA/W-CDMA手机PA;

(2)高功率空间功率合成器;

(3)高速微波开关;

(4) GaAs微波器件。

4英寸化合物工艺线

微电子研究所在国内率先建成4英寸化合物半导体器件和电路工艺线。目前具有成熟的4英寸GaAs器件和电路制作整套工艺,2英寸InP器件和 GaN HEMTs器件整套工艺流程。实验室拥有从百级到千级超净间200多平方米,实验室装备了SUSS MA6双面光刻机、NEXTRAL D200 PECVD、RHT 600M快速退火炉以及多台蒸发台,配备了多台刻蚀机、化学清洗超声机、金属电镀装置以及半导体参数测量系统。在后道工艺方面配置了材料减薄机、倒扣焊机以及金丝球焊机等。

微波集成电路的国外概况

自1974年,美国的Plessey公司用GaAs FET作为有源器件,GaAs半绝缘衬底作为载体,研制成功世界上第一块MMIC放大器以来,在军事应用(包括智能武器、雷达、通信和电子战等方面)的推动下,MMIC的发展十分迅速。

80年代,随着分子束外延(MBE)、金属有机物化学汽相淀积技术(MOCVD)和深亚微米加工技术的发展和进步,MMIC发展迅速。1980年由 Thomson-CSF和Fujitsu两公司实验室研制出高电子迁移率晶体管(HEMT),在材料结构上得到了不断的突破和创新。1985年 Maselink用性能更好的InGaAs沟道制成的赝配HEMT(PHEMT),使HEMT向更调频率更低噪声方向发展。继HEMT之后,1984年用 GaAlAs/GaAs异质结取代硅双极晶体管中的P-N结,研制成功了频率特性和速度特性更优异的异质结双极晶体管(HBT)和HBT MMIC。由于InP材料具有高饱和电子迁移率、高击穿电场、良好的热导率、InP基的晶格匹配HEMT,其性能比GaAs基更为优越,近年来随着InP 单晶的制备取得进展,InP基的HEMT、PHEMT、MMIC性能也得到很大的提高。

微波单片集成电路具有电路损耗小、噪声低、频带宽、动态范围大、功率大、附加效率高等一系列优点,并可缩小的电子设备体积、重量减轻、价格也降低不少,这对军用电子装备和民用电子产品都十分重要。美国、日本、西欧都把MMIC作为国家发展战略的核心,竞相投入大量的人力、物力,展开激烈的竞争。

80年代中期以前的MMIC,频率一般在40GHz以下,器件是采用栅长为0.5mm左右的GaAs 金属半导体场效应晶体管(MESFET)。后来在低噪声MMIC领域的先进水平都被HEMT、PHEMT和近年来飞速发展的InP HEMT所取代,InP基HEMT的最佳性能是fT为340GHz,fmax为600GHz。目前,低噪声MMIC放大器的典型水平为29~34GHz 下,2级LNA噪声为1.7dB,增益为17dB;92~96GHz,3级LNA 噪声为3.3dB,增益为20dB;153~155GHz,3级低LNA增益为12dB。

美国TRW公司已研制成功MMIC功率放大器芯片,Ka波段输出功率为3.5W,相关功率增益11.5dB,功率附加效率为 20%,60GHz的MMIC输出功率为300mW,效率22%,94GHz采用0.1mm AlGaAs/InGaAs/GaAs T型栅功率二级MMIC,最大输出功率300mW,最高功率附加效率为10.5%。

HP公司研制了6~20GHz单片行波功率放大器,带内最小增益为11dB,带内不平坦度为±0.5dB,20GHz处1dB压缩点输出功率达24dB。Raythem. Samvng及Motorola联合开发的X-Ku波段,MMIC单片输出功率达3.5W,最大功率附加效率为49.5%。

西屋公司研制成功直流-16GHz,6位数字衰减器MMIC,16GHz插损小于5dB。

日本三菱电器公司研制的大功率多栅条AlGaAs/GaAs HBT,在12GHz下功率附加效率为72%;NEC公司开发的26GHz AlGaAs/GaAs大功率HBT器件达到了目前最高输出功率(740mW)和功率附加效率(42%)。

微波集成电路的影响

微波单片集成电路已成为当前发展各种高科技武器的重要支柱,已广泛用于各种先进的战术导弹、电子战、通信系统、陆海空基的各种先进的相控阵雷达(特别是机载和星载雷达),在民用商业的移动电话、无线通信、个人卫星通信网、全球定位系统、直播卫星接收和毫米波自动防撞系统等方面已形成正在飞速发展的巨大市场。

美国国防部在1986到1994年实施了发展军事微电子总计划之一的《MIMIC》计划,该计划在美国国防部高级研究计划局(DARDA)的领导下,采用以联邦政府巨额支助的方针,动员全国高校和工业部门各大公司的力量,分工合作,对MMIC 领域开展广泛而深入的研究。美联邦政府投入资金共计5.3亿元,加上美工业部门投入,实际已超过10亿美元。在此计划的激励下,MMIC芯片制造和应用技术发展十分迅速。据1994年七月出版的《Aviation Week Space Technology》报导雷声公司和TI公司为美国沙姆导弹实验场研制GBR陆基雷达,该雷达使用25000个T/R组件,每个组件使用9块GaAs MMIC。由于这种相控阵雷达工作在X波段,它比"爱国者"导弹系统使用的C波段雷达有更好的分辨力。美F-15,F-16战斗机都使用MMIC相控阵雷达。每部雷达使用9000个T/R组件,而每个组件使用10块MMIC。F-15,F-16等战斗机还使用宽带、超宽带MMIC组成二维电子战阵列和信道化干扰设备。MMIC还在精确制导等灵巧武器和军事通信得到广泛应用,其优越性在海湾战争中得以体现。

进入90年代,随着冷战的结束,MMIC在民用方面应用发展势头强劲,每年正以15~20%的速度增长,预计现在的电信、电视、广播业到21世纪初将发生划时代的变革,卫星电信、卫星电视、卫星广播、卫星电缆接收网络成为多种传播的主体,预计在2000年前后,MMIC电路将达到数千个品种,批生产形成的军用和民用市场在100亿美元左右。因此MMIC的发展前景极为广阔。

集成电路工艺原理试题总体答案

目录 一、填空题(每空1分,共24分) (1) 二、判断题(每小题1.5分,共9分) (1) 三、简答题(每小题4分,共28分) (2) 四、计算题(每小题5分,共10分) (4) 五、综合题(共9分) (5) 一、填空题(每空1分,共24分) 1.制作电阻分压器共需要三次光刻,分别是电阻薄膜层光刻、高层绝缘层光刻和互连金属层光刻。 2.集成电路制作工艺大体上可以分成三类,包括图形转化技术、薄膜制备技术、掺杂技术。 3.晶体中的缺陷包括点缺陷、线缺陷、面缺陷、体缺陷等四种。 4.高纯硅制备过程为氧化硅→粗硅→ 低纯四氯化硅→ 高纯四氯化硅→ 高纯硅。 5.直拉法单晶生长过程包括下种、收颈、放肩、等径生长、收尾等步骤。 6.提拉出合格的单晶硅棒后,还要经过切片、研磨、抛光等工序过程方可制备出符合集成电路制造要求的硅衬底 片。 7.常规的硅材料抛光方式有:机械抛光,化学抛光,机械化学抛光等。 8.热氧化制备SiO2的方法可分为四种,包括干氧氧化、水蒸汽氧化、湿氧氧化、氢氧合成氧化。 9.硅平面工艺中高温氧化生成的非本征无定性二氧化硅对硼、磷、砷(As)、锑(Sb)等元素具有掩蔽作用。 10.在SiO2内和Si- SiO2界面存在有可动离子电荷、氧化层固定电荷、界面陷阱电荷、氧化层陷阱等电荷。 11.制备SiO2的方法有溅射法、真空蒸发法、阳极氧化法、热氧化法、热分解淀积法等。 12.常规平面工艺扩散工序中的恒定表面源扩散过程中,杂质在体内满足余误差函数分布。常规平面工艺扩散工序中的有限表 面源扩散过程中,杂质在体内满足高斯分布函数分布。 13.离子注入在衬底中产生的损伤主要有点缺陷、非晶区、非晶层等三种。 14.离子注入系统结构一般包括离子源、磁分析器、加速管、聚焦和扫描系统、靶室等部分。 15.真空蒸发的蒸发源有电阻加热源、电子束加热源、激光加热源、高频感应加热蒸发源等。 16.真空蒸发设备由三大部分组成,分别是真空系统、蒸发系统、基板及加热系统。 17.自持放电的形式有辉光放电、弧光放电、电晕放电、火花放电。 18.离子对物体表面轰击时可能发生的物理过程有反射、产生二次电子、溅射、注入。 19.溅射镀膜方法有直流溅射、射频溅射、偏压溅射、磁控溅射(反应溅射、离子束溅射)等。 20.常用的溅射镀膜气体是氩气(Ar),射频溅射镀膜的射频频率是13.56MHz。 21.CVD过程中化学反应所需的激活能来源有?热能、等离子体、光能等。 22.根据向衬底输送原子的方式可以把外延分为:气相外延、液相外延、固相外延。 23.硅气相外延的硅源有四氯化硅(SiCl4)、三氯硅烷(SiHCl3)、二氯硅烷(SiH2Cl2)、硅烷(SiH4)等。 24.特大规模集成电路(ULIC)对光刻的基本要求包括高分辨率、高灵敏度的光刻胶、低缺陷、精密的套刻对准、对大尺寸硅片 的加工等五个方面。 25.常规硅集成电路平面制造工艺中光刻工序包括的步骤有涂胶、前烘、曝光、显影、坚膜、腐蚀、 去胶等。 26.光刻中影响甩胶后光刻胶膜厚的因素有溶解度、温度、甩胶时间、转速。 27.控制湿法腐蚀的主要参数有腐蚀液浓度、腐蚀时间、腐蚀液温度、溶液的搅拌方式等。 28.湿法腐蚀Si所用溶液有硝酸-氢氟酸-醋酸(或水)混合液、KOH溶液等,腐蚀SiO2常用的腐蚀剂是HF溶液,腐蚀 Si3N4常用的腐蚀剂是磷酸。 29.湿法腐蚀的特点是选择比高、工艺简单、各向同性、线条宽度难以控制。 30.常规集成电路平面制造工艺主要由光刻、氧化、扩散、刻蚀、离子注入(外延、CVD、PVD)等工 艺手段组成。 31.设计与生产一种最简单的硅双极型PN结隔离结构的集成电路,需要埋层光刻、隔离光刻、基区光刻、发射区光刻、引线区 光刻、反刻铝电极等六次光刻。 32.集成电路中隔离技术有哪些类? 二、判断题(每小题1.5分,共9分) 1.连续固溶体可以是替位式固溶体,也可以是间隙式固溶体(×) 2.管芯在芯片表面上的位置安排应考虑材料的解理方向,而解理向的确定应根据定向切割硅锭时制作出的定位面为依据。(√) 3.当位错线与滑移矢量垂直时,这样的位错称为刃位错,如果位错线与滑移矢量平行,称为螺位错(√) 4.热氧化过程中是硅向二氧化硅外表面运动,在二氧化硅表面与氧化剂反应生成二氧化硅。(×) 5.热氧化生长的SiO2都是四面体结构,有桥键氧、非桥键氧,桥键氧越多结构越致密,SiO2中有离子键成份,氧空位表现为带正

微波电路设计基础知识

微波电路及设计的基础知识
1. 微波电路的基本常识 2. 微波网络及网络参数 3. Smith 圆图 4. 简单的匹配电路设计 5. 微波电路的计算机辅助设计技术及常用的 CAD 软件 6. 常用的微波部件及其主要技术指标 7. 微波信道分系统的设计、计算和指标分配 8. 测试及测试仪器 9. 应用电路举例
1
PDF 文件使用 "pdfFactory Pro" 试用版本创建 https://www.360docs.net/doc/fb3321253.html,

第1章
概述
所谓微波电路,通常是指工作频段的波长在 10m~1cm(即 30MHz~30GHz)之 间的电路。此外,还有毫米波(30~300GHz)及亚毫米波(150GHz~3000GHz) 等。 实际上,对于工作频率较高的电路,人们也经常称为“高频电路”或“射频 (RF)电路”等等。 由于微波电路的工作频率较高,因此在材料、结构、电路的形式、元器件以 及设计方法等方面,与一般的低频电路和数字电路相比,有很多不同之处和许多 独特的地方。 作为一个独立的专业领域,微波电路技术无论是在理论上,还是在材料、工 艺、元器件、以及设计 技术等方面,都已经发展得非常成熟,并且应用领域越来 越广泛。 另外,随着大规模集成电路技术的飞速发展,目前芯片的工作速度已经超过 了 1GHz。在这些高速电路的芯片、封装以及应用电路的设计中,一些微波电路 的设计技术也已得到了充分的应用。以往传统的低频电路和数字电路,与微波电 路之间的界限将越来越模糊,相互间的借鉴和综合的技术应用也会越来越多。
第2章
微波电路的基本常识
2.1 电路分类
2.1.1 按照传输线分类
微波电路可以按照传输线的性质分类,如:
图 1 微带线
图 2 带状线
2
PDF 文件使用 "pdfFactory Pro" 试用版本创建 https://www.360docs.net/doc/fb3321253.html,

MSA-0486-TR1 双极微波单片集成电路分放大器

Cascadable Silicon Bipolar MMIC?Amplifier Technical Data Features ?Cascadable 50 ? Gain Block ? 3 dB Bandwidth:DC to 3.2 GHz ?8 dB Typical Gain at 1.0?GHz ?12.5 dBm Typical P 1 dB at 1.0?GHz ?Unconditionally Stable (k>1)?Surface Mount Plastic Package ?Tape-and-Reel Packaging Option Available [1] MSA-0486 86 Plastic Package Typical Biasing Configuration Note: 1.Refer to PACKAGING section “Tape-and-Reel Packaging for Surface Mount Semiconductors”. R V CC > 7 V IN OUT Description The MSA-0486 is a high perfor-mance silicon bipolar Monolithic Microwave Integrated Circuit (MMIC) housed in a low cost,surface mount plastic package.This MMIC is designed for use as a general purpose 50 ? gain block.Typical applications include narrow and broad band IF and RF amplifiers in commercial and industrial applications. The MSA-series is fabricated using HP’s 10 GHz f T , 25?GHz f MAX ,silicon bipolar MMIC process which uses nitride self-alignment,ion implantation, and gold metalli-zation to achieve excellent performance, uniformity and reliability. The use of an external bias resistor for temperature and current stability also allows bias flexibility.

LM2678单片集成电路及其应用

LM2678单片集成电路及其应用 2001-8-17 张登峰 西安华经微电子公司 1概述 LM2678单片集成电路是一种电压变换器,即 供各种功能。它通过一个低阻尼 DMOS 电源获得高效 率, 可以为3.3V 、5V 、12V 或可调输出。 这种电压转换器的内部是由很少数量的元器件组成的, 体积 小,速率高,功能强,在 DC/DC 电源设计中,选用 化设计步骤及减少元器件的个数。 LM2678系列产品具有过热保护功能,限流短路保护功能。输入、输出电流是由一个静 电流能调节到 低于 501 A 的旁路控制电流进行控制的,输出电压精度优于± 2 %,时钟频率 误差为± 11%。 2性能指标 2.1特点 a.设计简单容易。 b.120M Q DMOS 开关输出。 C.3.3V 、5V 、12V 的固定输出电压及 1.2V ?37V 的可调输出电压。 e 输出最大误差± 2 %。 f.输入电压为 8V ?40V 。 g.固有振荡频率为260kHz 。 h.工作点温度范围为—40 C ?+ 125 C 。 i.效率高。 2.2各系列技术指标 LM2678 — 3.3V DC/DC 开关电路。可以为配电稳压块提 最大输出电流可达 5A ,输出电压 采用高频振荡技术,使该产品的 LM2678单片集成电路可以大大简 d.开关关断时的备用电流为 50A 。

输出电压 V0 VIN=8V ?40V100mAS lOUTW 5A 3.3 3.234 3.366 V 效率 n VIN=12V IOUT=5A 8.2 % 名称 代号 测试条件 典型值 最小 最大 单位 输出电压 V0 VIN=8V ?40V100mAS IOUT < 5A 5.0 4.90 5.10 V 效率 n VIN=12V IOUT=5A 84 % 名称 代号 测试条件 1 典型值 最小 最大 单位 输出电压 V0 VIN=15V ?40V100mAS IOUT < 5A 12 11.76 12.24 V 效率 n VIN=24V IOUT=5A 92 % 图1LM2678外形结构图 I.:IV 图2LM2678原理框图 4方框图 5引脚定义及说明 3外型结构(见图1) 增銘补偿I ~I 偏憤城生嚣— 2k lok 2nrnH r\vvi T 驱动电踏H I , 13 5V4jJh. 工60 KH 捉蕩电路 R2 RI 2.5k IChiJ -

微波电路及设计的基础知识

微波电路及设计的基础知识 1. 微波电路的基本常识 2. 微波网络及网络参数 3. Smith圆图 4. 简单的匹配电路设计 5. 微波电路的计算机辅助设计技术及常用的CAD软件 6. 常用的微波部件及其主要技术指标 7. 微波信道分系统的设计、计算和指标分配 8. 测试及测试仪器 9. 应用电路举例

微波电路及其设计 1.概述 所谓微波电路,通常是指工作频段的波长在10m~1cm(即30MHz~30GHz)之间的电路。此外,还有毫米波(30~300GHz)及亚毫米波(150GHz~3000GHz)等。 实际上,对于工作频率较高的电路,人们也经常称为“高频电路”或“射频(RF)电路”等等。 由于微波电路的工作频率较高,因此在材料、结构、电路的形式、元器件以及设计方法等方面,与一般的低频电路和数字电路相比,有很多不同之处和许多独特的地方。 作为一个独立的专业领域,微波电路技术无论是在理论上,还是在材料、工艺、元器件、以及设计技术等方面,都已经发展得非常成熟,并且应用领域越来越广泛。 另外,随着大规模集成电路技术的飞速发展,目前芯片的工作速度已经超过了1GHz。在这些高速电路的芯片、封装以及应用电路的设计中,一些微波电路的设计技术也已得到了充分的应用。以往传统的低频电路和数字电路,与微波电路之间的界限将越来越模糊,相互间的借鉴和综合的技术应用也会越来越多。 2.微波电路的基本常识 2.1 电路分类 2.1.1 按照传输线分类 微波电路可以按照传输线的性质分类,如:

图1 微带线 图2 带状线 图3 同轴线 图4 波导

图5 共面波导 2.1.2 按照工艺分类 微波混合集成电路:采用分离元件及分布参数电路混合集成。 微波集成电路(MIC):采用管芯及陶瓷基片。 微波单片集成电路(MMIC):采用半导体工艺的微波集成电路。 图6微波混合集成电路示例 图7 微波集成电路(MIC)示例

集成电路发展史

集成电路发展史 姚连军 120012009323 管理学院09财务管理 苏世勇 120012009222 管理学院09市场营销 傅彩芬 110012009023 法政学院09公共管理类 陈凯 120012009015 管理学院09工商管理 集成电路对一般人来说也许会有陌生感,但其实我们和它打交道的机会很多。计算机、电视机、手机、网站、取款机等等,数不胜数。除此之外在航空航天、星际飞行、医疗卫生、交通运输、武器装备等许多领域,几乎都离不开集成电路的应用,当今世界,说它无孔不入并不过分。 在当今这信息化的社会中,集成电路已成为各行各业实现信息化、智能化的基础。无论是在军事还是民用上,它已起着不可替代的作用。 1 集成电路概述 所谓集成电路(IC),就是在一块极小的硅单晶片上,利用半导体工艺制作上许多晶体二极管、三极管及电阻、电容等元件,并连接成完成特定电子技术功能的电子电路。从外观上看,它已成为一个不可分割的完整器件,集成电路在体积、重量、耗电、寿命、可靠性及电性能方面远远优于晶体管元件组成的电路,目前为止已广泛应用于电子设备、仪器仪表及电视机、录像机等电子设备中。[1] 2 集成电路发展及其影响 2.1集成电路的发展 集成电路的发展经历了一个漫长的过程,以下以时间顺序,简述一下它的发展过程。1906年,第一个电子管诞生;1912年前后,电子管的制作日趋成熟引发了无线电技术的发展;1918年前后,逐步发现了半导体材料;1920年,发现半导体材料所具有的光敏特性;1932年前后,运用量子学说建立了能带理论研究半导体现象;1956年,硅台面晶体管问世;1960年12月,世界上第一块硅集成电路制造成功;1966年,美国贝尔实验室使用比较完善的硅外延平面工艺制造成第一块公认的大规模集成电路。[2]1988年:16M DRAM问世,1平方厘米大小的硅片上集成有3500万个晶体管,标志着进入超大规模集成电路阶段的更高阶段。1997年:300MHz 奔腾Ⅱ问世,采用0.25μm工艺,奔腾系列芯片的推出让计算机的发展如虎添

射频与微波技术知识点总结

射频/微波的特点: 1.频率高 2.波长短 3.大气窗口 4.分子谐振 微波频率:300MHz-3000GHz 波长:0.1mm-1m 独特的特点:RF/MW 的波长与自然界物体尺寸相比拟 在RF/MW 波段,由于导体的趋肤效应、介质损耗效应、电磁感应等影响,期间区域不再是单纯能量的集中区,而呈现分布特性。 长线概念:通常把RF/MW 导线(传输线)称为长线,传统的电路理论已不适合长线! RF/MW 系统的组成: 传输线:传输RF/MW 信号 微波元器件:完成微波信号的产生、放大、变换等和功率的分配、控制及滤波 天线:辐射或接收电磁波 微波、天线与电波传播的关系:(简答) 微波: 对象:如何导引电磁波在微波传输系统中的有效传输 目的:希望电磁波按一定要求沿微波传输系统无辐射的传输; 天线 任务:将导行波变换为向空间定向辐射的电磁波,或将在空间传播的电磁波变为微波设备中的导行波 作用:1.有效辐射或接收电磁波;2.把无线电波能量转换为导行波能量 电波传播 分析和研究电波在空间的传播方式和特点 常用传输线机构:矩形波导 共面波导 同轴线 带状线 微带线 槽线 分析方法 称为传输线的特性阻抗 特性阻抗Z0通常是个复数, 且与工作频率有关。 它由传输线自身分布参数决定而与负载及信源无关, 故称为特性阻抗 对于均匀无耗传输线, R=G=0, 传输线的特性阻抗为 此时, 特性阻抗Z0为实数, 且与频率无关。 常用的平行双导线传输线的特性阻抗有250Ω, 400Ω和600Ω三种。 常用的同轴线的特性阻抗有50 Ω 和75Ω两种。 均匀无耗传输线上任意一点的输入阻抗与观察点的位置、传输线的特性阻抗、终端负载阻抗及工作频率有关, 且一般为复数, 故不宜直接测量。 无耗传输线上任意相距λ /2处的阻抗相同, 一般称之为λ /2重复性。 传输线上电压和电流以波的形式传播, 在任一点的电压或电流均由沿-z 方向传播的行波(称为入射波)和沿+z 方向传播的行波(称为反射波)叠加而成。 传播常数γ: α为衰减常数, 单位为dB/m β为相移常数 对于均匀无耗传输线来说, 由于β与ω成线性关系, 故导行波的相速与频率无关, 也称为无色散波。当传输线有损耗时, β不再与ω成线性关系, 使相速υp 与频率ω有关,这就称为色散特性。 定义传输线上任意一点 z 处的反射波电压(或电流)与入射波电压(或电流)之比为电压(或电流)反射系数(越小越好) 当Zl=Z0时, Γl=0, 即负载终端无反射, 此时传输线上反射系数处处为零, 一般称之为负载匹配。而当Zl ≠Z0时, 负载端就会产生一反射波, 向信源方向传播, 若信源阻抗与传输线特性阻抗不相等时, 则它将再次被反射。 定义传输线上波腹点电压振幅与波节点电压振幅之比为电压驻波比, 用ρ表示: 0L Z C =)j /()j (0C G L R Z ωω++=βωωγj )j )(j (+=++≈a C G L R min max U U =ρ

集成电路的种类与用途全解

集成电路的种类与用途 作者:陈建新 在电子行业,集成电路的应用非常广泛,每年都有许许多多通用或专用的集成电路被研发与生产出来,本文将对集成电路的知识作一全面的阐述。 一、集成电路的种类 集成电路的种类很多,按其功能不同可分为模拟集成电路和数字集成电路两大类。前者用来产生、放大和处理各种模拟电信号;后者则用来产生、放大和处理各种数字电信号。所谓模拟信号,是指幅度随时间连续变化的信号。例如,人对着话筒讲话,话筒输出的音频电信号就是模拟信号,收音机、收录机、音响设备及电视机中接收、放大的音频信号、电视信号,也是模拟信号。所谓数字信号,是指在时间上和幅度上离散取值的信号,例如,电报电码信号,按一下电键,产生一个电信号,而产生的电信号是不连续的。这种不连续的电信号,一般叫做电脉冲或脉冲信号,计算机中运行的信号是脉冲信号,但这些脉冲信号均代表着确切的数字,因而又叫做数字信号。在电子技术中,通常又把模拟信号以外的非连续变化的信号,统称为数字信号。目前,在家电维修中或一般性电子制作中,所遇到的主要是模拟信号;那么,接触最多的将是模拟集成电路。 集成电路按其制作工艺不同,可分为半导体集成电路、膜集成电路和混合集成电路三类。半导体集成电路是采用半导体工艺技术,在硅基片上制作包括电阻、电容、三极管、二极管等元器件并具有某种电路功能的集成电路;膜集成电路是在玻璃或陶瓷片等绝缘物体上,以“膜”的形式制作电阻、电容等无源器件。无源元件的数值范围可以作得很宽,精度可以作得很高。但目前的技术水平尚无法用“膜”的形式制作晶体二极管、三极管等有源器件,因而使膜集成电路的应用范围受到很大的限制。在实际应用中,多半是在无源膜电路上外加半导体集成电路或分立元件的二极管、三极管等有源器件,使之构成一个整体,这便是混合集成电路。根据膜的厚薄不同,膜集成电路又分为厚膜集成电路(膜厚为1μm~10μm)和薄膜集成电路(膜厚为1μm以下)两种。在家电维修和一般性电子制作过程中遇到的主要是半导体集成电路、厚膜电路及少量的混合集成电路。 按集成度高低不同,可分为小规模、中规模、大规模及超大规模集成电路四类。对模拟集成电路,由于工艺要求较高、电路又较复杂,所以一般认为集成50个以下元器件为小规模集成电路,集成50-100个元器件为中规模集成电路,

单片集成电路原片行业发展预测及投资咨询报告

单片集成电路原片 行业发展预测与投资咨询报告 2016-2020

核心内容提要 产业链(Industry Chain) 狭义产业链是指从原材料一直到终端产品制造的各生产部门的完整链条,主要面向具体生产制造环节; 广义产业链则是在面向生产的狭义产业链基础上尽可能地向上下游拓展延伸。产业链向上游延伸一般使得产业链进入到基础产业环节和技术研发环节,向下游拓展则进入到市场拓展环节。产业链的实质就是不同产业的企业之间的关联,而这种产业关联的实质则是各产业中的企业之间的供给与需求的关系。 市场规模(Market Size) 市场规模(Market Size),即市场容量,本报告里,指的是目标产品或行业的整体规模,通常用产值、产量、消费量、消费额等指标来体现市场规模。千讯咨询对市场规模的研究,不仅要对过去五年的市场规模进行调研摸底,同时还要对未来五年行业市场规模进行预测分析,市场规模大小可能直接决定企业对新产品设计开发的投资规模;此外,市场规模的同比增长速度,能够充分反应行业的成长性,如果一个产品或行业处在高速成长期,是非常值得企业关注和投资的。本报告的第三章对手工工具行业的市场规模和同比增速有非常详细数据和文字描述。 消费结构(consumption structure) 消费结构是指被消费的产品或服务的构成成份,本报告主要从三个角度来研究消费结构,即:产品结构、用户结构、区域结构。1、产品结构,主要研究各类细分产品或服务的消费情况,以及细分产品或服务的规模在整个市场规模中的占比;2、用户结构,主要研究产品或服务都销售给哪些用户群体了,以及各类用户群体的消费规模在整个市场规模中的占比;3、区域结构,主要研究产品或服务都销售到哪些重点地区了,以及某些重点区域市场的消费规模在整个市场规模中的占比。对消费结构的研究,有助于企业更为精准的把握目标客户和细分市场,从而调整产品结构,更好地服务客户和应对市场竞争。

【CN209266394U】一种90度电桥微波集成电路芯片结构【专利】

(19)中华人民共和国国家知识产权局 (12)实用新型专利 (10)授权公告号 (45)授权公告日 (21)申请号 201920218935.5 (22)申请日 2019.02.21 (73)专利权人 华芯智造微电子(重庆)股份有限 公司 地址 401420 重庆市綦江县古南街道金福 大道57号5幢 (72)发明人 彭朝亮  (51)Int.Cl. H01L 23/40(2006.01) H01L 23/467(2006.01) H01L 23/367(2006.01) H01L 23/00(2006.01) (54)实用新型名称 一种90度电桥微波集成电路芯片结构 (57)摘要 本实用新型公开了一种90度电桥微波集成 电路芯片结构,包括基板所述基板的顶部通过第 一减震机构连接有两个对称设置的第一微带,两 个所述第一微带顶部通过金属带连接,所述基板 的顶部通过第二减震机构连接有第二微带,所述 第一微带的底部固定连接有散热机构。本实用新 型通过固定杆和第一弹簧的弹性势能,对外部震 动进行削弱,同时利用滑块辅助固定杆的上下移 动,再利用连接杆、转轴、活动块和第二弹簧的弹 性势能对外部震动进行抵消,同时利用震动的动 能带动转轴上下移动,使扇叶带动转轴转动,从 而将微波集成电路芯片的热量通过散热口排出 基板外,同时利用防尘网进行防尘,防止灰尘干 扰本装置运行。权利要求书1页 说明书3页 附图2页CN 209266394 U 2019.08.16 C N 209266394 U

权 利 要 求 书1/1页CN 209266394 U 1.一种90度电桥微波集成电路芯片结构,包括基板(1),其特征在于,所述基板(1)的顶部通过第一减震机构连接有两个对称设置的第一微带(2),两个所述第一微带(2)顶部通过金属带(3)连接,所述基板(1)的顶部通过第二减震机构连接有第二微带(4),所述第一微带(2)的底部固定连接有散热机构。 2.根据权利要求1所述的一种90度电桥微波集成电路芯片结构,其特征在于,所述第一减震机构包括固定连接在第一微带(2)的底部的固定杆(5),所述基板(1)的底部设有与固定杆(5)对应的连接槽,所述固定杆(5)的两侧均固定连接有滑块(6),所述连接槽的内侧壁设有与滑块(6)对应的滑槽,所述固定杆(5)的底部通过第一弹簧(7)与连接槽的内底部固定连接。 3.根据权利要求1所述的一种90度电桥微波集成电路芯片结构,其特征在于,所述散热机构包括转动连接在第一微带(2)底部的转轴(8),所述转轴(8)远离第一微带(2)底部的一端固定连接有扇叶(9),所述基板(1)的内设有与扇叶(9)对应的散热口。 4.根据权利要求3所述的一种90度电桥微波集成电路芯片结构,其特征在于,所述散热口的内侧壁固定连接有防尘网(10)。 5.根据权利要求1所述的一种90度电桥微波集成电路芯片结构,其特征在于,所述第二减震机构包括转动连接在第二微带(4)上的连接杆(11),所述连接杆(11)远离第二微带(4)的一端转动连接有活动块(12),所述基板(1)上设有与活动块(12)对应的活动槽,所述活动槽的内侧壁固定连接有活动轴(13),所述活动块(12)滑动套接在活动轴(13)上,所述活动轴(13)上套设有第二弹簧(16),所述第二弹簧(16)的两端分别与活动块(12)和活动槽的内侧壁固定连接。 6.根据权利要求5所述的一种90度电桥微波集成电路芯片结构,其特征在于,所述第二微带(4)的底部和活动块(12)的底部均固定连接有安装座(14),所述安装座(14)的内侧壁固定连接有转动轴(15),所述连接杆(11)的两端分别转动套接在两个转动轴(15)上。 2

芯片制造-半导体工艺教程

芯片制造-半导体工艺教程 Microchip Fabrication ----A Practical Guide to Semicondutor Processing 目录: 第一章:半导体工业[1][2][3] 第二章:半导体材料和工艺化学品[1][2][3][4][5]第三章:晶圆制备[1][2][3] 第四章:芯片制造概述[1][2][3] 第五章:污染控制[1][2][3][4][5][6] 第六章:工艺良品率[1][2] 第七章:氧化 第八章:基本光刻工艺流程-从表面准备到曝光 第九章:基本光刻工艺流程-从曝光到最终检验 第十章:高级光刻工艺 第十一章:掺杂 第十二章:淀积 第十三章:金属淀积 第十四章:工艺和器件评估 第十五章:晶圆加工中的商务因素 第十六章:半导体器件和集成电路的形成 第十七章:集成电路的类型 第十八章:封装 附录:术语表

#1 第一章半导体工业--1 芯片制造-半导体工艺教程点击查看章节目录 by r53858 概述 本章通过历史简介,在世界经济中的重要性以及纵览重大技术的发展和其成为世界领导工业的发展趋势来介绍半导体工业。并将按照产品类型介绍主要生产阶段和解释晶体管结构与集成度水平。 目的 完成本章后您将能够: 1. 描述分立器件和集成电路的区别。 2. 说明术语―固态,‖ ―平面工艺‖,――N‖‖型和―P‖型半导体材料。 3. 列举出四个主要半导体工艺步骤。 4. 解释集成度和不同集成水平电路的工艺的含义。 5. 列举出半导体制造的主要工艺和器件发展趋势。 一个工业的诞生 电信号处理工业始于由Lee Deforest 在1906年发现的真空三极管。1真空三极管使得收音机, 电视和其它消费电子产品成为可能。它也是世界上第一台电子计算机的大脑,这台被称为电子数字集成器和计算器(ENIAC)的计算机于1947年在宾西法尼亚的摩尔工程学院进行首次演示。 这台电子计算机和现代的计算机大相径庭。它占据约1500平方英尺,重30吨,工作时产生大量的热,并需要一个小型发电站来供电,花费了1940年时的400, 000美元。ENIAC的制造用了19000个真空管和数千个电阻及电容器。 真空管有三个元件,由一个栅极和两个被其栅极分开的电极在玻璃密封的空间中构成(图1.2)。密封空间内部为真空,以防止元件烧毁并易于电子的====移动。 真空管有两个重要的电子功能,开关和放大。开关是指电子器件可接通和切断电流;放大则较为复杂,它是指电子器件可把接收到的信号放大,并保持信号原有特征的功能。 真空管有一系列的缺点。体积大,连接处易于变松导致真空泄漏、易碎、要求相对较多的电能来运行,并且元件老化很快。ENIAC 和其它基于真空管的计算机的主要缺点是由于真空管的烧毁而导致运行时间有限。 这些问题成为许多实验室寻找真空管替代品的动力,这个努力在1947年12月23曰得以实现。贝尔实验室的三位科学家演示了由半导体材料锗制成的电子放大器。

LM2678单片集成电路及其应用

LM2678单片集成电路及其应用 2001-8-17张登峰西安华经微电子公司 1概述 LM2678单片集成电路是一种电压变换器,即DC/DC开关电路。可以为配电稳压块提供各种功能。它通过一个低阻尼DMOS电源获得高效率,最大输出电流可达5A,输出电压可以为3.3V、5V、12V或可调输出。 这种电压转换器的内部是由很少数量的元器件组成的,采用高频振荡技术,使该产品的体积小,速率高,功能强,在DC/DC电源设计中,选用LM2678单片集成电路可以大大简化设计步骤及减少元器件的个数。 LM2678系列产品具有过热保护功能,限流短路保护功能。输入、输出电流是由一个静电流能调节到低于50μA的旁路控制电流进行控制的,输出电压精度优于±2%,时钟频率误差为±11%。 2性能指标 2.1特点 a.设计简单容易。 b.120MΩDMOS开关输出。 c.3.3V、5V、12V的固定输出电压及1.2V~37V的可调输出电压。 d.开关关断时的备用电流为50μA。 e.输出最大误差±2%。 f.输入电压为8V~40V。 g.固有振荡频率为260kHz。 h.工作点温度范围为-40℃~+125℃。 i.效率高。 2.2各系列技术指标 LM2678-3.3V 名称代号测试条件典型值最小最大单位输出电压V0 VIN=8V~40V100mA≤IOUT≤5A 3.3 3.234 3.366 V 效率ηVIN=12V IOUT=5A 8.2 % LM2678-5.0V

名称代号测试条件典型值最小最大单位输出电压V0 VIN=8V~40V100mA≤IOUT≤5A 5.0 4.90 5.10 V 效率ηVIN=12V IOUT=5A 84 % LM2678-12V 名称代号测试条件典型值最小最大单位输出电压V0 VIN=15V~40V100mA≤IOUT≤5A 12 11.76 12.24 V 效率ηVIN=24V IOUT=5A 92 % 3外型结构(见图1) 图1LM2678外形结构图 图2LM2678原理框图 4方框图 5引脚定义及说明 引脚1——开关输出 此引脚为电压输出端,是通过MOSFET开关输出,且MOSFET的另一极同输入电压相连接,并为电感器、输出电容器和脉冲宽度调制器等负载电路提供电源,脉宽调制器内部振荡频率为260kHz,转换开关的导通时

微波毫米波单片集成电路综述论文

微波毫米波单片集成电路综述论文 摘要 微波集成电路(Microwave Integrated Circuit缩写为MIC)是工作在微波波段和毫米波波段即30GHz~300GHz频率范围,由微波无源元件、有源器件、传输线和互连线集成在一个基片上,具有某种功能的电路。微波集成电路起始于20世纪50年代。微波电路技术由同轴线、波导元件及其组成的系统转向平面型电路的一个重要原因,是微波固态器件的发展。60~70年代采用氧化铝基片和厚膜薄膜工艺;80年代开始有单片集成电路。 微波集成电路大致可以分为两种电路:混合微波集成电路和单片微波集成电路。 混合微波集成电路是用厚膜技术或薄膜技术将各种微波功能电路制作在适合传输微波信号的介质(如高氧化铝瓷、蓝宝石、石英等)上,再将分立有源元件安装在相应位置上组成微波集成电路。这种电路的特点是根据微波整机的要求和微波波段的划分进行设计和制造,所用集成电路多是专用的。常用的混合微波集成电路有微带混频器、微波低噪声放大器、功率放大器、倍频器、相控阵单元等各种宽带微波电路。 单片微波集成电路(Monolithic Microwave Integrated Circuit缩写为MMIC)则是将微波功能电路用半导体工艺制作在砷化镓或其他半导体芯片上的集成电路。这种电路的设计主要围绕微波信号的产生、放大、控制和信息处理等功能进行,大部分电路都是根据不同整机的要求和微波频段的特点设计的,专用性很强。在这类器件中,作为反馈和直流偏置元件的各个电阻器都采用具有高频特性的薄膜电阻,并且与各有源器件一起封装在一个芯片上,这使得各零件之间几乎无连线,从而使电路的感抗降至最低,且分布电容也极小,因而可用在工作频率和频宽都很高的MMIC 放大器中。 目前,MMIC的工作频率已可做到40GHz,频宽也已达到15GHz,因而可广泛应用于通信和GPS, 等各类设备的射频、中频和本振电路中。 本文主要从单片微波集成电路工艺、基于Si的单片微波集成电路的电路结构的

集成电路制造工艺概述

集成电路制造工艺概述

目录 集成电路制造工艺概述 (1) 一、集成电路制造工艺的概念 (1) 二、集成电路制造的发展历程 (1) 三、集成电路制造工艺的流程 (2) 1.晶圆制造 (2) 1.1晶体生长(Crystal Growth) (2) 1.2切片(Slicing) /边缘研磨(Edge Grinding)/抛光(Surface Polishing) (2) 1.3包裹(Wrapping)/运输(Shipping) (2) 2.沉积 (3) 2.1外延沉积 (Epitaxial Deposition) (3) 2、2化学气相沉积 (Chemical Vapor Deposition) (3) 2、3物理气相沉积 (Physical Vapor Deposition) (3) 3.光刻(Photolithography) (3) 4.刻蚀(Etching) (4) 5.离子注入 (Ion Implantation) (4) 6.热处理(Thermal Processing) (4) 7.化学机械研磨(CMP) (4) 8.晶圆检测(Wafer Metrology) (5) 9.晶圆检查Wafer Inspection (Particles) (5) 10.晶圆探针测试(Wafer Probe Test) (5) 11.封装(Assembly & Packaging) (6) 12.成品检测(Final Test) (6) 四、集成电路制造工艺的前景 (6) 五、小结 (6) 参考文献 (7)

集成电路制造工艺概述 电子信息学院电子3121班 摘要:集成电路对于我们工科学生来说并不陌生,我们与它打交道的机会数不胜数。计算机、电视机、手机、网站、取款机等等。集成电路在体积、重量、耗电、寿命、可靠性及电性能方面远远优于晶体管元件组成的电路,在当今这信息化的社会中集成电路已成为各行各业实现信息化、智能化的基础,目前为止已广泛应用于电子设备、仪器仪表及电视机、录像机等电子设备中。关键词:集成电路、制造工艺 一、集成电路制造工艺的概念 集成电路制造工艺是把电路所需要的晶体管、二极管、电阻器和电容器等元件用一定工艺方式制作在一小块硅片、玻璃或陶瓷衬底上,再用适当的工艺进行互连,然后封装在一个管壳内,使整个电路的体积大大缩小,引出线和焊接点的数目也大为减少。 二、集成电路制造的发展历程 早在1952年,英国的杜默(Geoffrey W. A. Dummer) 就提出集成电路的构想。1906年,第一个电子管诞生;1912年前后,电子管的制作日趋成熟引发了无线电技术的发展;1918年前后,逐步发现了半导体材料;1920年,发现半导体材料所具有的光敏特性;1932年前后,运用量子学说建立了能带理论研究半导体现象;1956年,硅台面晶体管问世;1960年12月,世界上第一块硅集成电路制造成功;1966年,美国贝尔实验室使用比较完善的硅外延平面工艺制造成第一块公认的大规模集成电路。1988年,16M DRAM问世,1平方厘米大小的硅片上集成有3500万个晶体管,标志着进入超大规模集成电路阶段的更高阶段。1997年,300MHz奔腾Ⅱ问世,采用0.25μm工艺,奔腾系列芯片的推出让计算机的发展如虎添翼,发展速度让人惊叹。2009年,intel酷睿i系列全新推出,创纪录采用了领先的32纳米工艺,并且下一代22纳米工艺正在研发。集成电路制作工艺的日益成熟和各集成电路厂商的不断竞争,使集成电路发挥了它更大的功能,更好的服务于社会。由此集成电路从产生到成熟大致经历了“电子管——晶

MMIC单片微波集成电路

单片微波集成电路(MMIC),有时也称射频集成电路(RFIC),它是随着半导体制造技术的发展,特别是离子注入控制水平的提高和晶体管自我排列工艺的成熟而出现的一类高频放大器件。 微波集成电路 Microwave Integrated Circuit 工作在300M赫~300G赫频率范围内的集成电路。简称MIC。分为混合微波集成电路和单片微波集成电路。前者是用厚膜技术或薄膜技术将各种微波功能电路制作在适合传输微波信号的介质(如高氧化铝瓷、蓝宝石、石英等)上,再将分立有源元件安装在相应位置上组成微波集成电路。这种电路的特点是根据微波整机的要求和微波波段的划分进行设计和制造,所用集成电路多是专用的。单片微波集成电路则是将微波功能电路用半导体工艺制作在砷化镓或其他半导体芯片上的集成电路。这种电路的设计主要围绕微波信号的产生、放大、控制和信息处理等功能进行,大部分电路都是根据不同整机的要求和微波频段的特点设计的,专用性很强。 在这类器件中,作为反馈和直流偏置元件的各个电阻器都采用具有高频特性的薄膜电阻,并且与各有源器件一起封装在一个芯片上,这使得各零件之间几乎无连线,从而使电路的感抗降至最低,且分布电容也极小,因而可用在工作频率和频宽都很高的MMIC放大器中。 目前,MMIC的工作频率已可做到40GHz,频宽也已达到15GHz,因而可广泛应用于通信和GPS, 等各类设备的射频、中频和本振电路中。 根据制作材料和内部电路结构的不同,MMIC可以分成两大类:一类是基于硅Silicon晶体管的MMIC,另一类是基于砷化镓场效应管(GaAs FET)的MMIC。GaAs FET类MMIC具有工作频率高、频率范围宽、动态范围大、噪声低的特点,但价格昂贵,因此应用场合较少;而硅晶体管的MMIC性能优越、使用方便,而且价格低廉,因而应用非常广泛. 微波集成电路是工作在微波波段和毫米波波段,由微波无源元件、有源器件、传输线和互连线集成在一个基片上,具有某种功能的电路。可分为混合微波集成电路和单片微波集成电路。 微波集成电路起始于20世纪50年代。微波电路技术由同轴线、波导元件及其组成的系统转向平面型电路的一个重要原因,是微波固态器件的发展。60~70年代采用氧化铝基片和厚膜薄膜工艺;80年代开始有单片集成电路。 微波集成电路的分类 混合微波集成电路是采用薄膜或厚膜技术,将无源微波电路制作在适合传输微波信号的基片上的功能块。电路是根据系统的需要而设计制造的。常用的混合微波集成电路有微带混频器、微波低噪声放大器、功率放大器、倍频器、相控阵单元等各种宽带微波电路。

集成电路工艺与发展趋势

集成电路工艺与发展趋势 摘要:通过学习“集成电路设计基础”这门课程,让我对现实生产中的制作工艺有了很好的了解。学习了很多有关的专业课,但都只停留在书本上,只是从微观和理论上学习了集成电路的设计原理和构成,对于制造工艺和为什么要达到这样的设计要求不是很了解。但是通过这门课程的学习,我开始对集成电路制造工艺有了一定得了解。这不但对今后的深入学习有所帮助,更有利于将来的就业。 关键词集成电路工艺发展趋势 集成电路工艺是把电路所需要的晶体管、二极管、电阻器和电容器等元件用一定工艺方式制作在一小块硅片、玻璃或陶瓷衬底上,再用适当的工艺进行互连,然后封装在一个管壳内,使整个电路的体积大大缩小,引出线和焊接点的数目也大为减少。集成的设想出现在50年代末和60年代初,是采用硅平面技术和薄膜与厚膜技术来实现的。电子集成技术按工艺方法分为以硅平面工艺为基础的单片集成电路、以薄膜技术为基础的薄膜集成电路和以丝网印刷技术为基础的厚膜集成电路。 单片集成电路工艺 利用研磨、抛光、氧化、扩散、光刻、外延生长、蒸发等一整套平面工艺技术,在一小块硅单晶片上同时制造晶体管、二极管、电阻和电容等元件,并且采用一定的隔离技术使各元件在电性能上互相隔离。然后在硅片表面蒸发铝层并用光刻技术刻蚀成互连图形,使元件按需要互连成完整电路,制成半导体单片集成电路。随着单片集成电路从小、中规模发展到大规模、超大规模集成电路,平面工艺技术也随之得到发展。例如,扩散掺杂改用离子注入掺杂工艺;紫外光常规光刻发展到一整套微细加工技术,如采用电子束曝光制版、等离子刻蚀、反应离子铣等;外延生长又采用超高真空分子束外延技术;采用化学汽相淀积工艺制造多晶硅、二氧化硅和表面钝化薄膜;互连细线除采用铝或金以外,还采用了化学汽相淀积重掺杂多晶硅薄膜和贵金属硅化物薄膜,以及多层互连结构等工艺。 薄膜集成电路工艺 整个电路的晶体管、二极管、电阻、电容和电感等元件及其间的互连线,全部用厚度在1微米以下的金属、半导体、金属氧化物、多种金属混合相、合金或绝缘介质薄膜,并通过真空蒸发工艺、溅射工艺和电镀等工艺重叠构成。用这种

射频_微波工程师经典参考书汇总

1.《射频电路设计--理论与应用》『美』Reinhold Ludwig 著电子工业出版社 个人书评:射频经典著作,建议做RF的人手一本,里面内容比较全面,这本书要反复的看,每读一次都会更深一层理解. 随便提一下,关于看射频书籍看不懂的地方怎么办?我提议先看枝干或结论有个大概印象,实在弄不明白就跳过(当然可问身边同事同学或GOOGLE一下),跳过不是不管它了,而是尽量先看完自己能看懂的,看第二遍的时候再重点抓第一次没有看懂的地方,人的思维是不断升华的,知识的也是一个系统体系,有关联的,当你把每一块砖弄明白了,就自然而然推测出金字塔塔顶是怎么架设出来的。 2. 《射频通信电路设计》『中』刘长军著科学技术出版社 个人书评:有拼凑之嫌(大量引用书1和《微波晶体管放大电路分析与设计》内容),但还是有可取之处,加上作者的理解,比看外文书(或者翻译本)看起来要通俗易懂,毕竟是中国人口韵。值得一看,书上有很多归纳性的经验. 3.《高频电路设计与制作》『日』市川欲一著科学技术出版社 个人书评:本人说实话比较喜欢日本人写书的风格和语言,及其通俗,配上图示,极其深奥的理论看起来明明朗朗,比那些从头到尾只会搬抄公式的某些教授强们多了,本书作者的实践之作,里面都是一些作者的设计作品和设计方法,推荐一看.. 5. 《振荡电路设计与应用》『日』稻叶宝著科学技术出版社 个人书评:这边书还不错,除了学到振荡电路设计,还学到了很多模拟电路的基础应用,唯一缺点书中的内容涉及频率的都不够高(k级,几M,几十,几百M的振荡器),做有源电路的可以看一下,整体感觉还行. 6. 《锁相环电路设计与应用》『日』远坂俊昭著科学技术出版社 个人书评:对PLL原理总是搞不太明白的同学可以参考此书,图形图片很多,让人很直观明白,比起其他PLL书只会千篇一律写公式强千倍。好书,值得收藏! 7. 《信号完整性分析》『美』Eric Bogatin著电子工业出版社 个人书评:前几章用物理的方法看电子,感觉不好理解,写的感觉很拗口,翻译好像也有些不到位,但后面几章写的确实好,尤其是关于传输线的,对你理解信号的传输的实际过程,能建立一个很好的模型,推荐大家看一下,此书还是不错的.(看多了RF的,换换胃口) 8. 《高速数字设计》『美』Howard Johnson著电子工业出版社 个人书评:刚刚卓越买回来,还没有动“她”呢,随便翻了下目录,做高速电路和PCB Layout 的工程师一看要看下,这本书也是经典书喔! 10.《EMC电磁兼容设计与测试案例分析》『中』郑军奇著电子工业出版社 个人书评:实战性和很强的一本书,本人做产品经常要送去信息产业部电子研究5所做EMC 测试,认证.产品认证是产品成功的临门一脚,把这脚球踢好,老板会很赏识你的,如果你也负责产品的EMC,这本书必读。作者写有很多实例,很有代表性,对你解决EMC问题,会有引导性(指导性)的的意义。

相关文档
最新文档